本发明专利技术提供了一种用于利用双光束路径干涉仪进行电磁场的消色差干涉叠加的干涉仪装置，该干涉仪装置包括：分束器，该分束器被布置用于将输入光束分束成沿第一干涉仪臂(Al)传播的第一光束和沿第二干涉仪臂(A2)传播的第二光束，第一干涉仪臂包括至少一个偏转镜，第二干涉仪臂包括至少一个偏转镜，其中该第一干涉仪臂和第二干涉仪臂具有相同的光程长度；和合束器，该合束器被布置用于将第一光束和第二光束重新组合成相长输出和相消输出，其中分束器和合束器的反射表面被配置成使得与第二干涉仪臂相比，在第一干涉仪臂中提供光密介质处的一次附加菲涅耳反射，并且当第一光束和第二光束的电磁场的传播由合束器重新组合时，在两个干涉仪臂对相消输出的贡献之间导致与波长无关的相位差π，并且第一干涉仪臂包括被布置用于平衡第一干涉仪臂和第二干涉仪臂中的色散和菲涅耳损失的平衡透射元件。此外，还描述了干涉测量装置和干涉测量方法。了干涉测量装置和干涉测量方法。了干涉测量装置和干涉测量方法。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】利用电磁场的消色差干涉叠加的干涉方法
[0001]本专利技术涉及干涉仪装置和具体利用双光束路径干涉仪进行电磁场的消色差干涉叠加的干涉方法。此外，本专利技术涉及干涉测量装置和利用干涉仪装置和干涉测量装置的干涉测量方法。本专利技术的应用例如可用于辐射-物质相互作用的研究领域，例如用于测量样品的光谱响应、电磁场的空间分布、以及测试光学部件。
技术介绍
[0002]在本说明书中，参考以下说明了本专利技术的技术背景以及相关技术的现有技术，：
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欧洲量子电子学会议(European Conference on Lasers and Electro-Optics-European Quantum Electronics Conference)(美国光学学会，2017)，论文CH-2.4
[0027]在传统光谱技术中，与被监视的过程相关联的信号表现为辐射源强度(或场)的变化。这对最小可检测信号施加了两个主要限制：第一，其量值是受多余源噪声控制的下限。第二，解决相对较大信号的小变化需要高动态范围检测。
[0028]在检测之前，对参考信号进行光学相减隔离了所寻求的信号变化，并且可减轻这两个限制。从技术上讲，这可由干涉仪臂实现，在该干涉仪臂中，光的传播通过被监视的过程精确地区分开[1]。理想地，在将两臂与相反相位组合的干涉仪端口中，只有(极小的)差别才能经受住相消干涉[2]。在这种情况下，多余源噪声对检测限制的影响主要被抑制到散粒噪声水平[3，4]。同时，通常比参考信号强几个数量级的信号取消放宽了检测器和数字化电子器件的动态范围要求[5，6]。因此，激发强度可远远超过检测器的饱和极限，从而提高了被检测的样品响应的振幅。由于不再需要对样本信号和参考信号进行顺序测量，因此减少了测量时间和系统误差[7，8]。除了这些优点之外，光学相减通过增加两个样品之间的微小差异的可见性方便了两个样品的直接对比。
[0029]为了适应宽带频域和时域光谱(定义为宽频带)的光学消噪，不得不解决超倍频程光谱的同时对消难题。消色差相移的若干个解决办法已在观测天文学领域被开发出来[10]，例如，一副镜面对称的潜望镜就可用于实现几何相移[11]，通过一个臂中的附加焦点引入的古伊相移可被采用[12]，并且一对直角菲涅耳菱形的工作原理和消色差的四分之一波片的工作原理类本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种干涉仪装置，所述干涉仪装置被配置用于利用双光束路径干涉仪进行的电磁场的消色差干涉叠加，所述干涉仪装置包括：分束器，所述分束器被布置用于将输入光束分束成沿第一干涉仪臂(Al)传播的第一光束和沿第二干涉仪臂(A2)传播的第二光束，所述第一干涉仪臂包括至少一个偏转镜，所述第二干涉仪臂包括至少一个偏转镜，其中所述第一干涉仪臂和所述第二干涉仪臂具有相同的光程长度，和合束器，所述合束器被布置用于将所述第一光束和所述第二光束重新组合成相长输出和相消输出，其中所述分束器和所述合束器的反射表面被配置成使得与所述第二干涉仪臂相比，在所述第一干涉仪臂中设置光密介质处的一次附加菲涅耳反射，并且当所述第一光束和所述第二光束的电磁场的传播由合束器重新组合时，在所述两个干涉仪臂对所述相消输出的贡献之间导致与波长无关的相位差π，并且所述第一干涉仪臂包括被布置用于平衡所述第一干涉仪臂和所述第二干涉仪臂中的色散和菲涅耳损失的平衡透射元件。2.根据权利要求1所述的干涉仪装置，还包括：至少一个空间滤波器，所述至少一个空间滤波器被布置用于抑制所述第一干涉仪臂和所述第二干涉仪臂中的至少一个的电磁场的传播，所述第一干涉仪臂和所述第二干涉仪臂不具有相反相位。3.根据前述权利要求中任一项所述的干涉仪装置，还包括：至少一个防反射涂层，所述至少一个防反射涂层被布置在所述反射表面中的至少一个反射表面上。4.根据前述权利要求中任一项所述的干涉仪装置，其中：所述光密介质处的附加菲涅耳反射被设置在所述分束器处。5.根据权利要求1至3中任一项所述的干涉仪装置，其中：所述光密介质处的附加菲涅耳反射被设置在所述合束器处。6.根据前述权利要求中任一项所述的干涉仪装置，还包括：稳定性装置，所述稳定性装置被布置用于控制以下各项中的至少一个：光程长度、镜子位置、镜子取向、分束器位置、分束器取向、合束器位置、合束器取向和平衡透射元件取向。7.根据权利要求6所述的干涉仪装置，其中：所述稳定性装置包括与所述相长输出和所述相消输出中的至少一个耦合的反馈回路控件。8.根据前述权利要求中任一项所述的干涉仪装置，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：约阿希姆，
申请(专利权)人：马克思普朗克科学促进协会，
类型：发明
国别省市：
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