光刻用清洗剂或冲洗剂制造技术

本发明专利技术提供对抗蚀剂、防反射膜等的溶解性、剥离性好的光刻用清洗剂或冲洗剂。光刻用清洗剂或冲洗剂包含：溶剂Ａ和溶剂Ｂ，其中，溶剂Ａ选自（ａ１）丙二醇－１－烷基醚乙酸酯、（ａ２）１，３－丁二醇－３－烷基醚乙酸酯及（ａ３）乙酸烷基酯中的至少１种，溶剂Ｂ选自（ｂ１）丙二醇－１－烷基醚及（ｂ２）１，３－丁二醇－３－烷基醚中的至少１种，该清洗剂或冲洗剂与等体积的水混合时可形成均质溶液。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对于从集成电路元件、滤色器、液晶显示元件等的基板或抗蚀剂涂布装置等上溶解或剥离除去固化及未固化的不需要的抗蚀剂、防反射膜等有用的光刻用清洗剂或冲洗剂。
技术介绍
为了制造集成电路元件、滤色器、液晶显示元件等历来使用光刻技术。在使用光刻技术制造集成电路元件等中，例如根据需要在基板上形成防反射膜后，涂布正型或负型的抗蚀剂，通过烘烤除去溶剂后，根据需要在抗蚀剂膜上形成防反射膜，利用紫外线、远紫外线、电子射线、X-射线等的各种放射线进行曝光，显影形成抗蚀剂图案。上述抗蚀剂等的涂布，采用旋转涂布、滚筒涂布、反向辊涂布、流延涂布、刮刀涂布、浸渍涂布等的种种公知的方法，例如在制造集成电路元件中，作为抗蚀剂涂布法主要采用旋转涂布法。在旋转涂布法中，抗蚀剂溶液滴落在基板上，该滴落的抗蚀剂溶液通过基板的旋转向基板外周方向流延、过量的抗蚀剂溶液从基板外周被飞散除去，形成具有期望膜厚的抗蚀剂膜。然而，此时存在以下缺点抗蚀剂溶液的一部分旋入到基板的背面，或在基板的外周缘抗蚀剂溶液残留得比其他部分厚，形成所谓厚边(ビ一ド)，有时必须从基板侧面周边部或背面除去不需要的抗蚀剂，或除去厚边。这不仅在制造集成电路元件时，而且制造滤色器，液晶显示元件等时也同样。另外，在旋转涂布法以外的涂布法中也与旋转涂布法的场合同样有时在不需要的部分会附着抗蚀剂。另外，基板与抗蚀剂膜之间有防反射膜的集成电路元件时，形成图案后必须进行防反射膜的除去。由于涂布装置上也附着抗蚀剂溶液，继续使用时必须清洗涂布装置。作为解决这些问题的方法，特公平4-49938号公报的实施例中记载了使用由丙二醇甲醚与丙二醇甲醚乙酸酯的1∶1混合物构成的剥离剂剥离光抗蚀剂层的例子。特开平6-324499号公报公开了使用β型丙二醇单醚乙酸酯的抗蚀剂清洗除去用溶剂，作为改善树脂溶解性，引发剂溶解性的抗蚀剂清洗除去用溶剂。特开2001-117242号公报中记载了使用1，3-丙二醇甲醚或1，3-丙二醇甲醚乙酸酯作为清洗剂除去不需要的抗蚀剂的例子。特开2001-117241号公报中记载了使用1，3-丙二醇甲醚或1，3-丙二醇甲醚乙酸酯与水的混合液作为冲洗剂除去不需要的抗蚀剂的例子。另外，特开平10-186680号公报公开了使用丙二醇烷基醚及丙二醇烷基醚乙酸酯的、具有火灾、操作安全性的清洗剂、冲洗液。然而，上述的溶剂或溶剂组合物、溶解性或剥离性不充分，并且在需要比较长的溶解时间方面还不能称作在实用上是充分的。特公平4-49938号公报特开平6-324499号公报特开2001-117242号公报特开2001-117241号公报特开平10-186680号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术的目的在于提供一种光刻用清洗剂或冲洗剂，该清洗剂或冲洗剂没有上述缺点，不论是对有机溶剂溶液形成的抗蚀剂或防反射膜等，还是对水溶液形成的防反射膜等均有良好的溶解性、剥离性。本专利技术另外的目的在于，提供除了上述特性外，还改善了火灾的危险性，操作上也优异的光刻用清洗剂或冲洗剂。解决课题的方法本专利技术者们潜心进行研究的结果，发现使用具有特定的有机溶剂的组合并且具有特定特性的有机溶剂混合液，或它们与水的混合液可以达到上述目的从而完成了本专利技术。即，本专利技术提供一种光刻用清洗剂或冲洗剂，其中含有溶剂A和溶剂B，所述溶剂A选自(a1)丙二醇-1-烷基醚乙酸酯、(a2)1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯及(a3)乙酸烷基酯中的至少1种，溶剂B选自(b1)丙二醇-1-烷基醚及(b2)1，3-丁二醇-3-烷基醚中的至少1种，所述清洗剂或冲洗剂与等体积的水混合时可以形成均质溶液。前述光刻用清洗剂或冲洗剂，包括(i)含有丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)和溶剂B且其比例为前者/后者(重量比)＝1/99～75/25的光刻用清洗剂或冲洗剂、(ii)含有1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)和溶剂B且其比例为前者/后者(重量比)＝1/99～55/45的光刻用清洗剂或冲洗剂、(iii)含有乙酸烷基酯(a3)和溶剂B且其比例为前者/后者(重量比)＝1/99～15/85的光刻用清洗剂或冲洗剂。作为丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)，例如可举出1，2-丙二醇-1-烷基醚乙酸酯。作为丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)、1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)、丙二醇-1-烷基醚(b1)或1，3-丁二醇-3-烷基醚(b2)中的烷基，例如可举出甲基等。作为乙酸烷基酯(a3)，例如可举出乙酸丁酯。前述光刻用清洗剂或冲洗剂，除了溶剂A及溶剂B以外，还可以再含有水。再者，本说明书中只要没有特殊说明，则意味着“丙二醇”包括α型丙二醇(1，2-丙二醇)及β型丙二醇(1，3-丙二醇)。专利技术效果本专利技术的光刻用清洗剂或冲洗剂，不仅对有机溶剂溶液形成的抗蚀剂或防反射膜等，而且对水溶液形成的防反射膜等也显示良好的溶解性、剥离性。另外由于含水，因此改善了火灾的危险性，操作上也优异。实施专利技术的最佳方案本专利技术的光刻用清洗剂或冲洗剂，其含有溶剂A和溶剂B，所述溶剂A选自(a1)丙二醇-1-烷基醚乙酸酯、(a2)1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯及(a3)乙酸烷基酯中的至少1种，所述溶剂B选自(b1)丙二醇-1-烷基醚及(b2)1，3-丁二醇-3-烷基醚中选出的至少1种。溶剂A、溶剂B可以分别将2种以上组合使用。作为丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)、1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)、丙二醇-1-烷基醚(b1)、1，3-丁二醇-3-烷基醚(b2)中的烷基，例如，可举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基等的C1-6的直链状或支链状烷基。其中特优选甲基。作为丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(a1)的代表性例子，例如，可举出丙二醇-1-甲醚乙酸酯、丙二醇-1-乙醚乙酸酯、丙二醇-1-丙醚乙酸酯、丙二醇-1-丁醚乙酸酯等丙二醇-1-C1-6烷基醚乙酸酯等。其中，优选α型丙二醇-1-甲基乙酸酯(1，2-丙二醇-1-甲醚乙酸酯)等α型丙二醇-1-烷基醚乙酸酯(1，2-丙二醇-1-烷基醚乙酸酯)。作为1，3-丁二醇-3-烷基醚乙酸酯(a2)的代表性例子，例如，可举出1，3-丁二醇-3-甲醚乙酸酯、1，3-丁二醇-3-乙醚乙酸酯、1，3-丁二醇-3-丙醚乙酸酯、1，3-丁二醇-3-丁醚乙酸酯等。其中，特优选1，3-丁二醇-3-甲醚乙酸酯。作为乙酸烷基酯(a3)中的烷基，例如，可举出甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基等C1-6的直链状或支链状烷基。作为乙酸烷基酯(a3)的代表性例子，例如，可举出乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯等，其中，特优选乙酸丁酯。作为丙二醇-1-烷基醚(b1)的代表性例子，例如，可举出丙二醇-1-甲醚、丙二醇-1-乙醚、丙二醇-1-丙醚、丙二醇-1-丁醚等丙二醇-1-C1-6烷基醚等。其中，优选α型丙二醇-1-甲醚(1，2-丙二醇-1-甲醚)及β型丙二醇-1-甲醚(1，3-丙二醇-1-甲醚)。作为1，3-丁二醇-3-烷基醚(b2)的代表性例子，例如，可举出1，3-丁二醇-3-甲醚、1，3-丁二醇-3-乙醚、1，3-丁二醇-3-丙醚、1，3-丁二醇-3-丁醚等。其中，优选1，3-丁二醇-3-甲醚。作为溶剂A与溶剂B的本文档来自技高网...

【技术保护点】
光刻用清洗剂或冲洗剂，其中，包含溶剂Ａ和溶剂Ｂ，所述溶剂Ａ选自（ａ１）丙二醇－１－烷基醚乙酸酯、（ａ２）１，３－丁二醇－３－烷基醚乙酸酯及（ａ３）乙酸烷基酯中的至少１种，所述溶剂Ｂ选自（ｂ１）丙二醇－１－烷基醚及（ｂ２）１，３－丁二醇－３－烷基醚中的至少１种，所述清洗剂或冲洗剂与等体积的水混合时可形成均质的溶液。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：堀口明，片山彻，
申请(专利权)人：大赛璐化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]