涂敷装置以及涂敷方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种涂敷装置及涂敷方法，当基板Ｇ的前端部到达抗蚀剂喷嘴（７８）的正下方附近的设定位置即涂敷开始位置时，停止基板搬送，进行二次测定检查，由光学式距离传感器（１６２）测定至基板Ｇ上面及下面的距离Ｌ↓［ｄ］、Ｌ↓［ｅ］。然后，将基板Ｇ的厚度测定值Ｄ及浮起高度测定值Ｈ↓［ｂ］分别与各自的设定值或基准值「Ｄ」、「Ｈ↓［ｂ］」进行比较，若比较误差｜「Ｄ」－Ｄ｜和｜「Ｈ↓［ｂ］」－Ｈ↓［ｂ］｜均在规定容许范围内，则判定「正常」，否则判定「异常」。由此，缩短通过浮起搬送方式的非旋转涂敷法将涂敷液涂敷在被处理基板上的整体涂敷处理时间并且合适地管理浮起台与基板以及喷嘴之间的高度位置关系，使基板上处理液的涂敷膜形成均匀的膜厚。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在被处理基板上涂敷液体以形成涂敷膜的涂敷方法以及涂敷装置。
技术介绍
在LCD液晶显示器等平板显示器(FPDflat panel display)的制造工序中，通常在光刻工序(photolithography process)中采用对具有槽形喷出口的长条形的抗蚀剂喷嘴进行扫描，从而在被处理基板(玻璃基板等)上涂敷抗蚀剂液的非旋转涂敷法。就这种非旋转涂敷法而言，如专利文献1所述，将基板水平放置在吸附保持型的装载台或者台(stage)上，在该台上的基板与长条形的抗蚀剂喷嘴的喷出口之间设置有100μm左右的微小间隙，在基板上方使抗蚀剂喷嘴一边沿扫描方向(一般是与喷嘴的长度方向正交的水平方向)移动，一边将抗蚀剂液呈带状地喷射在基板上来进行涂敷。仅仅通过使长条形的抗蚀剂喷嘴一次性地从基板的一端移到另一端，既可以使抗蚀剂液不滴落在基板外而以期望的膜层厚度在基板上形成抗蚀剂膜。在上述非旋转法的涂敷装置中，为了以期望的膜厚将抗蚀剂液涂敷在基板上，需要结合设定值对上述喷嘴与基板间的间隙进行管理。在该间隙管理中，以基板的厚度(板厚)作为参数。一般来说，基板的厚度不固定，在公差范围内具有偏差。例如，玻璃基板的厚度标称为0.7mm且其公差为±0.03mm，此时，板厚在0.67mm～0.73mm的范围内存在偏差。若喷出抗蚀剂液的抗蚀剂喷嘴的高度被固定，则板厚的偏差导致上述间隙产生偏差，从而导致抗蚀剂膜厚产生偏差。因此，在进行抗蚀剂涂敷之前，需要预先测量基板的厚度，根据该厚度的测定值对抗蚀剂喷嘴的喷出口的高度位置进行调整，使上述间隙符合设定值。一般采用下述方法作为测定基板厚度的方法，即，从上方向台上的基板按压度盘式指示器(dial gauge)的指针，根据指示器读取值来测定基板上面的高度位置，然后，从该测定值减去台上面的高度位置(已知的值)而求得基板的厚度。最近，还可以采用下述方法，即，将基板厚度测定部安装在抗蚀剂喷嘴上，以省去用于测定基板厚度所需的特别的占用空间或者驱动装置。另外，还可以使用光学式距离传感器代替度盘式指示器的方法。专利文献1日本特开平10-156255上述采用吸附保持型台的非旋转式抗蚀剂涂敷装置，如果不将处理后的基板从台卸载或者搬走而使台完全空置，则不能将后续的新基板搬入到台上。因此，在抗蚀剂喷嘴进行扫描所需时间(Tc)的基础上、再加上将未处理基板搬入乃至装载在台上所需时间(Tin)、以及将处理完基板从台上卸载乃至搬出所需时间(Tout)而构成一次涂敷处理循环所需时间(Tc+Tin+Tout)，其成为操作时间(tact time)，在缩短该操作时间方面存在问题。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述现有技术的问题而提出的，其目的在于提供一种通过浮起搬运法的，能够缩短以非旋转方式在基板上涂敷处理液的涂敷处理整体时间。本专利技术的另一个目的在于提供一种涂敷装置及涂敷方法，能够合适地在浮起搬运方式中管理浮起台与基板以及喷嘴之间的高度关系，使得能够在基板上以均匀的膜厚形成处理液的涂敷膜。为了实现上述目的，本专利技术的涂敷装置包括具有通过气体压力使被处理基板悬浮的第一浮起区域的台；将浮起状态的上述基板朝规定的搬送方向搬送使其通过上述第一区域的基板搬送部；具有可升降地设置在上述第一浮起区域的上方的喷嘴，为了在通过上述第一浮起区域的上述基板上涂敷处理液而从上述喷嘴喷出上述处理液的处理液供给部；用于使上述喷嘴升降移动的喷嘴升降部；以及针对即将在上述第一浮起区域被涂敷上述处理液的上述基板，测定上述基板的厚度与上述基板相对于上述台的浮起高度的第一测定部。另外，本专利技术的涂敷方法，在台上沿搬送方向，以下述顺序一列地设置有用于将被处理基板搬入上述台上的搬入区域、用于从上方的长条形喷嘴向在上述搬送方向移动的基板上供给处理液以形成涂敷膜的涂敷区域、以及用于将涂敷处理后的上述基板从上述台上搬出的搬出区域，其中，通过从上述台的上面喷出的气体的压力使上述基板悬浮，在上述涂敷区域对上述基板施加大致均匀的浮起力，在将上述基板从上述搬入区域搬送至上述搬出区域的搬送途中，对于即将在上述涂敷区域被涂敷上述处理液的上述基板，测定上述基板的厚度和上述基板相对于上述台的浮起高度。在本专利技术中，将基板悬浮在台上空，在通过台的第一浮起区域(涂敷区域)的途中，接受从长条形喷嘴喷出的处理液，在基板上形成处理液的涂敷膜。根据本专利技术，由于夹持第一浮起区域，在下流侧(搬出区域)将处理完基板搬出台外的搬出动作和在上流侧(搬入区域)将接受下一处理的新基板搬入台上的搬入动作独立或并列进行，因而能够缩短整体的涂敷处理时间。本来，这种非旋转法的涂敷处理，需要使喷嘴—基板间的涂敷间隙符合设定值，因为基板悬浮在台上，基板厚度的偏差以及浮起高度的偏差受涂敷间隙影响，进一步说容易影响涂敷膜的质量。关于这点，在本专利技术中，对于在涂敷区域即将被涂敷处理液的基板，通过测定该基板的厚度以及该基板相对与台的浮起高度，而能够适当地对涂敷间隙进行控制或者管理。根据本专利技术的优选实施方式，当确定从第一测定部获得的基板厚度的测定值以及浮起高度的测定值分别在规定的范围内后，对基板进行涂敷处理。这样，可以通过浮起搬送式的非旋转涂敷法来稳定涂敷处理物的质量。另外，在本专利技术的优选实施方式中，喷嘴升降部包括支撑喷嘴并与其一体升降移动的喷嘴支撑体，第一测定部包括为了测定与台或基板上面的距离间隔而设置在喷嘴支撑体上的第一光学式距离传感器。此时，第一光学式距离传感器通过喷嘴支撑体与喷嘴整体升降移动，可以根据从传感器测定的与台或基板上面之间的距离求得喷嘴与台或基板上面之间的距离。另外，在本专利技术的优选实施方式中，当确认基板的厚度测定值以及浮起高度的测定值分别在规定的范围内后，为了在喷嘴的喷出口与基板上面之间形成涂敷处理用的间隙而通过喷嘴升降部使喷嘴下降，通过第一光学式距离传感器测定与基板上面之间的距离，确定间隙。此时，可以计算求得基板厚度的测定值以及浮起高度的测定值，以及从台上面的高度位置为了获得期望涂敷间隙的喷嘴高度位置。但是，当从台上施加给基板的气体压力发生变化时，基板实际的浮起高度有可能无法遵循理论数值而变动。因此，在即将开始涂敷前，根据第一光学式距离传感器测定实际或当时的基板高度，确认涂敷间隙是否正常。据此，能够进一步提高通过浮起式的非旋转涂敷法进行涂敷处理的可信性。另外，根据本专利技术的优选实施方式，在涂敷处理中，一边通过第一光学式距离传感器测定与基板上面的距离间隔，一边通过喷嘴升降部变化调整喷嘴的高度位置，保持间隙的尺寸为设定值。由此，可以将第一光学式距离传感器的距离测定功能应用于为了间隙的维持管理而进行的反馈控制中。另外，根据本专利技术的优选实施方式，具有为了检查第一光学式距离传感器的测定精度，测定喷嘴支撑体的高度位置的第二测定部。该第二测定部优选具有设置在喷嘴升降机构上的线性标尺。另外，在本专利技术的优选实施方式中，在对第一光学式距离传感器的测定精度进行检查之前，当预先使用测定器具通过实际测量将喷嘴定位在规定的基准高度位置时，记录通过第一光学式距离传感器获得的第一测定值与通过第二测定部获得的第二测定值。然后，当在上述检查中不使用测定器具从第二测定部获得第二测定值时，判断从第一光学式距离测定器获得的测定值是否在第一测定值规定本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂敷装置，其特征在于，包括：具有通过气体压力使被处理基板悬浮的第一浮起区域的台；将浮起状态的所述基板朝规定的搬送方向搬送并使其通过所述第一区域的基板搬送部；具有可升降地设置在所述第一浮起区域的上方的喷嘴，为了在通过所述第一浮起区域的所述基板上涂敷处理液而从所述喷嘴喷出所述处理液的处理液供给部；用于使所述喷嘴升降移动的喷嘴升降部；以及对即将在所述第一浮起区域被涂敷所述处理液的所述基板，测定所述基板的厚度与所述基板相对于所述台的浮起高度的第一测定部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：池田文彦，池本大辅，吉富济，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]