周边曝光装置及其方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种周边曝光装置及其方法，该周边曝光装置及其方法可提高生产量并使污染基板表面的原因达到最小限度。周边曝光装置对基板（Ｗ）的周边区域照射包含紫外线的光，来对光阻剂墨液进行曝光，该装置包括：紫外线照射单元（９），其设于处于基板上方的位置，从形成在框体的照射口（９ｍ）经由照射用透镜（９ｅ）将包含紫外线的光照射至基板的周边区域；照度测量部（１１），其设于紫外线照射单元，测量紫外线的照度；以及照度测量部移动机构，其使照度测量部移动至紫外线照射单元的照射口的面对位置以及从照射口离开的退避位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，该对形成于基板的图案区域周围的周边区域照射包含紫外线的光来进行周边曝光。
技术介绍
一般而言，关于在曝光装置中图案将被曝光的基板，例如在液晶基板中，当时是对大约500mm×500mm的尺寸的基板进行处理，现在是对放大至2160mm×2460mm这样的大型尺寸的基板进行处理。从该大型的基板切断、分离成预设的各个基板片，以制作出搭载于一般图像接收设备上的基板。基板被从大型的状态切断、分离时，为了其管理与制造工序的管理，利用激光束等预先在分离前的基板上进行曝光，从而在各基板片上形成文字、记号、图形或者是由其组合而形成的识别记号、判断分离位置用的切断位置识别码、或者是对准标记等(以下称为识别标记)。此外，在基板上，在图案区域的周围，即周边区域存在着不需要的光阻剂墨液(photoresist ink)，由于该光阻剂墨液会成为后续工序的障碍，所以必须要预先使其曝光。在包含不需要的光阻剂墨液的周边区域中，需要如上所述显示识别标记，该周边区域被设定成预定宽度。然后，在该周边区域中形成识别标记的位置不仅配置于周边区域的中央部，也可以在图案区域附近的某个地方，或是在基板的蚀刻侧的某部分，或者是在相反侧的图案区域的附近。基板在其图案区域被曝光后，借助于周边曝光装置而曝光，以便通过对周边区域进行曝光来除去不需要的光阻剂墨液，从而在切断、分离成各基板片时易于处理(例如参照专利文献1、2)。而且，在基板的制造工序中，制造生产线上存在有对图案区域进行曝光的曝光装置、对周边区域的光阻剂墨液进行曝光的周边曝光装置、对识别标记进行曝光(显示)的曝光装置等各种曝光装置，一般，进行如下工序首先，由曝光装置对图案区域进行曝光；然后，利用激光照射曝光装置在基板的周边区域照射激光，从而标记出(曝光)识别标记；接着，利用周边曝光装置对基板的周边区域照射包含预定波长的紫外线的光，以进行曝光。通过激光的照射而标记出识别标记的曝光装置，作为一个例子，进行如下的动作。即，针对要标记出形成于基板的周边区域的识别标记的地方，从配置于载置基板的台座的上方的曝光单元输出激光束。然后，以使载置基板的台座与曝光单元相对移动的方式，在直线方向和与该直线方向正交的正交方向上依时间顺序依次扫瞄，同时，使照射位置在相对移动方向上错开，从而使基板上的照射点在成为直角坐标的平面上形成排列以标记出识别标记(例如，参照专利文献3)。该识别标记的形成方法(显示方法)，由于利用激光束的点曝光形成在总是与激光束位于相对的位置的涂布了光阻剂墨液的基板上，所述识别标记被标记在预定的宽度中，所以在与台座直线移动方向正交的正交方向上，经常一边用微小的激光束进行扫瞄一边曝光识别标记。此外，还有一种这样的曝光装置被公开光源用于使基板的周边区域的不需要的光阻剂墨液曝光，该光源具有通过使光导的射出端的倍率变化而改变曝光光的形状的结构(例如参照专利文献4)。在该曝光装置中，在调节的过程中，采用使投影激光束所成的像的大小产生变化的方式，通过使局部投影的光路扩大或缩小来控制从光导射出的光的宽度，因此所照射的曝光光束具有关于光路中心对称地放大或缩小的宽度。另外，还提出一种这样的曝光装置，其中周边曝光单元被设置于设在基板上方的固定导轨或移动导轨的至少一方的导轨上(例如参照专利文献5)。专利文献1日本特许第2910867号公报；专利文献2日本特许第3418656号公报；专利文献3日本特许第3547418号公报； 专利文献4日本特许第3175059号公报；专利文献5日本特许第3091460号公报。然而，在以往的周边曝光装置中，存在以下所示的问题。(1)在对基板进行曝光的制造工序中，伴随基板尺寸的大型化，台座变大。在进行周边曝光时，如果测量照明光的照度的照度计设置于台座上，则台座的移动距离会变长，提高生产量很困难。(2)并且，在专利文献5的曝光装置中，基板的宽度必须对应为例如从500mm至2460mm，在该情况下，如果在基板的上方设置移动轨道等，光源单元等会移动较长距离，有可能成为异物落到基板上、基板表面污染的原因。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题点而完成的，其课题在于提供一种，该可提高生产量，并可使污染基板表面的原因达到最小限度。为了解决上述课题，第一方面的周边曝光装置对基板的周边区域照射包含紫外线的光，来对光阻剂墨液进行曝光，该周边曝光装置构成为具有紫外线照射单元，其设于成为基板上方的位置，从形成于框体的照射口经由照射用透镜将包含紫外线的光照射至基板的周边区域；照度测量部，其设于紫外线照射单元，测量紫外线的照度；以及照度测量部移动机构，其使照度测量部移动至面对紫外线照射单元的照射口的面对位置以及从照射口离开的退避位置。对于这样构成的周边曝光装置(以下称为本装置)，其照度测量部设置于紫外线照射单元。因此，不需要载置紫外线照射单元或基板的台座等做大幅度的移动，就可以测量照度。而且，可以提高生产量。本装置在需要照度测量时或不需要照度测量时，使照度测量部在面对紫外线照射单元的照射口的面对位置与从照射口离开的退避位置之间移动。因此，在某一基板的周边曝光结束而进行下一个基板的周边曝光时，可使照度测量部移动至面对紫外线照射单元的照射口的面对位置，进行照度的测量。并且，在本装置中，第二方面的紫外线照射单元配置成可在与基板的移动方向正交的方向上自由移动。这样构成的本装置可将紫外线照射单元的照射位置调节至基板的周边区域的位置上。另外，第三方面的周边曝光装置的面对位置位于照射用透镜与基板之间。对于本装置，由于从照射用透镜向基板照射平行的照明光，所以如果面对位置位于照射用透镜与基板之间，则可测量到与实际的基板表面的照度相同的照度。另外，本专利技术的周边曝光方法包括下列步骤第一移动步骤，使设于紫外线照射单元的测量紫外线照度的照度测量部，从离开照射口的退避位置向面对紫外线照射单元的照射口的面对位置移动；测定步骤，用照度测量部测量紫外线的照度；调节步骤，对紫外线的照射光进行调节；校准步骤，通过基板的基板位置与台座的基准位置来进行该基板的校准作业；第二移动步骤，使照度测量部从面对位置向退避位置移动；以及紫外线照射步骤，对周边区域照射包含紫外线的光来进行曝光。按照该顺序，在本方法中，用照度测量部测量紫外线的照度来调节照明光后，对基板进行紫外线照射，因此，可适当地对光阻剂墨液进行曝光。此时，仅通过使设于紫外线照射单元的照度测量部从退避位置向面对位置移动，然后从面对位置向退避位置移动，就可以测量照度，因此可提高生产量。在本专利技术的中，可获得以下所示的优良效果。对于本装置，由于不必使紫外线照射单元大幅度地移动而测量照明光的照度，因此可提高生产量。并且，对于本装置，由于在预定的定时中由测量器测量紫外线照射单元的照射光的照度，所以可始终进行稳定的曝光作业。附图说明图1是省略本专利技术的激光束、紫外线照射周边曝光装置的一部分而从侧面方向示意性示出装置内的剖面图。图2是省略本专利技术的激光束、紫外线照射周边曝光装置的一部分而从背面方向示意性示出装置内的剖面图。图3(a)、(b)是示出在本专利技术的激光束、紫外线照射周边曝光装置中使用的基板的一例的俯视图。图4是示出本专利技术的激光束、紫外线照射周边曝光装置的台座的立体图。图5是示意性示出本专利技术的激光束本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种周边曝光装置，该周边曝光装置对基板的周边区域照射包含紫外线的光，来对光阻剂墨液进行曝光，其特征在于，该周边曝光装置具有：紫外线照射单元，其设于处于上述基板上方的位置，从形成在框体的照射口经由照射用透镜将包含紫外线的光照射至上述基 板的周边区域；照度测量部，其设于上述紫外线照射单元，测量紫外线的照度；以及照度测量部移动机构，其使上述照度测量部移动至上述紫外线照射单元的照射口的面对位置以及从上述照射口离开的退避位置。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：剑持晴康，佐藤博明，池田泰人，森昌人，
申请(专利权)人：株式会社ORC制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]