制备滤色器的黑矩阵的方法技术

根据本发明专利技术提供了一种制备滤色器的黑矩阵的方法，其包括：在透明基板的表面上形成憎水有机材料的光遮挡层；通过构图光遮挡层形成了黑矩阵；在黑矩阵的顶表面上形成阻挡层；以及加热形成有阻挡层的黑矩阵，并使用紫外光照射黑矩阵的上部分。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种制备滤色器的黑矩阵的方法，包括：在透明基板的表面上形成憎水有机材料的光遮挡层；通过构图所述光遮挡层形成了黑矩阵；在所述黑矩阵的顶表面上形成阻挡层；以及加热形成有所述阻挡层的黑矩阵，并使用紫外光照射所述黑矩阵的上部分。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金圣雄，金佑植，车泰运，裵纪德，金晟镇，辛承柱，白锡淳，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]