透光性物品的检查方法技术

本发明专利技术提供一种能够正确检查透光性物品的内部的光学不均匀性的有无的透光性物品的检查方法。一种透光性物品的检查方法，其使用于光平版印刷，检查在由透光性材料构成的透光性物品（４）的内部，有无相对于曝光光光学特性部分或局部变化的不均匀性（具体是内部缺陷（１６）），其中，向所述透光性物品导入具有２００ｎｍ以下的波长的检查光，在所述检查光在该透光性物品内部传播的光路中，通过检测部分或局部产生的比所述检查光的波长长的光（１５），来检查所述透光性物品中的光学不均匀性的有无。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及检查在例如由相对于ArF准分子激光或F2准分子激光等 持有非常强大能量的光具有透光性性质的透光性材料构成的透光性物品 的内部，有无相对于所述光光学特性部分变化的不均匀性的透光性物品的 检查方法、玻璃基板的检查方法及装置、检査玻璃基板的内部缺陷后制造 掩模坯料用玻璃基板的掩模坯料用玻璃基板的制造方法、使用该掩模坯料 用玻璃基板的掩模坯料的制造方法、使用该掩模坯料的曝光用掩模的制造 方法、和使用该曝光用掩模的半导体装置的制造方法。
技术介绍
近年来，根据形成于半导体器件上的图案的微细化，在光平版印刷技 术中使用的曝光光向ArF准分子激光(曝光光波长193nm)、 F2准分子激 光(曝光波长157nm)的短波长化发展。在上述光平版印刷技术中使用的 曝光用掩模或制造该曝光用掩模的掩模坯料中，形成在掩模坯料用透光性 基板(例如玻璃基板)上的、相对于上述曝光光的曝光波长而遮断光的遮 光膜或使相位变化的相位移动膜的开发正在急速进展，己提出了各种膜材 料。另外，在光平版印刷技术中使用的曝光装置(例如步进曝光装置)中， 具备透镜等光学部件，这些光学部件使用对曝光光吸收少即透过性优异的 材料。要求在上述掩模坯料用透光性基板、用于制造该掩模坯料用透光性基 板的透光性物品(例如合成石英玻璃基板)、使用于曝光装置的透镜等光 学部件的内部，不存在光学不均匀性(因异物或气泡等缺陷引起的光学特 性的变化)。在专利文献l中公开了，对玻璃基板入射He—Ne激光，检测 因玻璃基板所存在的光学不均匀性、例如内部缺陷(异物或气泡等)而散射的散射光，由此检测上述光学不均匀性的缺陷检测装置及缺陷检测方 法。专利文献l:特开平8—261953号公报 专利文献2:特开平8 — 31723号公报 专利文献3:特开2003 — 81654号公报即使是由通过上述的缺陷检测装置判定为不存在光学不均匀性(例如 内部缺陷)的透光性基板(例如合成石英玻璃基板)、掩模坯料用透光性 基板(例如掩模坯料用玻璃基板)制造而成的曝光用掩模，在使用作为曝 光光的ArF准分子激光在半导体基板上复制曝光用掩模的掩模图案的图 案复制之际，也产生因后述的透光性基板引起的复制图案缺陷，从而有时 复制精度下降。另外，曝光装置中使用的透镜等光学部件也与上述相同， 图案复制时产生因光学部件引起的复制图案缺陷，从而有时复制精度下 降。该原因可认为如下所述，即，在将He—Ne激光等可见光激光作为检 查光时，虽没有发生散射等光学变化，但是将ArF准分子激光或F2准分 子激光等高能量光作为曝光光进行实际的图案复制之际，使局部(或部分) 光学特性变化(例如，使透过率下降，使相位差变化)的光学不均匀性(例 如因局部脉纹、内容物、异质物引起的内部缺陷)存在于透光性基板或光 学部件中。
技术实现思路
本专利技术是考虑到上述问题而做的专利技术，其目的在于，提供能够正确检 查在光平版印刷时使用的曝光装置的光学部件或曝光用掩模的基板等透 光性物品中的、给向被复制体上的图案复制带来较大影响的光学不均匀性 的有无的。本专利技术的其他目的在于提供可使向半导体基板上的图案复制的复制 精度良好的半导体装置的制造方法、用于制造该半导体装置的可使向被复 制体上的图案复制的复制精度良好的曝光用掩模及其制造方法、用于制造 该曝光用掩模的掩模坯料及其制造方法、用于制造该掩模坯料的掩模坯料 用透光性基板及其制造方法。与技术方案1所述的专利技术相关的透光性物品的捡査方法，其使用于光 平版印刷，检查在由透光性材料构成的透光性物品的内部，有无相对于曝 光光光学特性部分或局部变化的不均匀性，其特征在于，向所述透光性物品导入具有200nm以下的波长的检査光，在所述检查光在该透光性物品内 部传播的光路中，通过检测部分或局部产生的比所述检查光的波长长的 光，来检査所述透光性物品中的光学不均匀性的有无。与技术方案2所述的专利技术相关的透光性物品的检査方法，在技术方案 1所述的专利技术中，其特征在于，对于比所述检查光的波长长的光而言，该 光的波长大于200nm且在600nm以下。与技术方案3所述的专利技术相关的透光性物品的检査方法，在技术方案 l或2所述的专利技术中，其特征在于，所述透光性物品是光平版印刷时使用 的曝光装置的光学部件或光平版印刷时使用的曝光用掩模的基板中的任 意一种。与技术方案4所述的专利技术相关的透光性物品的检査方法，在技术方案 3所述的专利技术中，其特征在于，所述光学部件、所述曝光用掩模的基板由 合成石英玻璃构成。与技术方案5所述的专利技术相关的透光性物品的检査方法，在技术方案 1 4中任意一项所述的专利技术中，其特征在于，向所述透光性物品导入所述 检査光时，在将因该检査光的导入而使所述透光性物品的表面产生损伤的 原因物质从该透光性物品周边的气氛中排除的状态下，向该透光性物品导 入所述检查光。与技术方案6所述的专利技术相关的，在技术方案 1 5中任意一项所述的专利技术中，其特征在于，所述检査光的每单位面积的 能量为每1次脉冲10mJ/cm2以上50mJ/cm2以下。与技术方案7所述的专利技术相关的掩模坯料用透光性基板的制造方法， 其特征在于，具有准备工序，其准备具有导入检查光的表面的掩模坯料 用透光性基板，所述检查光具有200nm以下的波长；检查工序，其从所述 表面的一方导入所述检查光，在所述检查光在所述透光性基板内部传播的 光路中，通过检测部分或局部产生的比所述波长长的光，来检查所述透光 性基板中的光学不均匀性的有无；判别工序，其根据所述不均匀性的有无，判断是否为不产生因光学特性部分或局部变化而引起的复制图案缺陷的 透光性基板。与技术方案8所述的专利技术相关的掩模坯料用透光性基板的制造方法， 在技术方案7所述的专利技术中，其特征在于，在所述判别工序之后，将所述 透光性基板的主表面精密研磨，得到掩模坯料用透光性基板。与技术方案9所述的专利技术相关的掩模坯料用透光性基板的制造方法， 在技术方案7或8所述的专利技术中，其特征在于，对于比所述检查光的波长 长的光而言，该光的波长大于200nm且在600nm以下。与技术方案10所述的专利技术相关的掩模坯料用透光性基板的制造方法， 在技术方案7 9中任意一项所述的专利技术中，其特征在于，向所述透光性 基板导入所述检查光时，在将因该检査光的导入而使所述透光性基板的表 面产生损伤的原因物质从该玻璃基板周边的气氛中消除的状态下，向该透 光性基板导入所述检查光。与技术方案11所述的专利技术相关的掩模坯料用透光性基板的制造方法， 在技术方案7 10中任意一项所述的专利技术中，其特征在于，导入所述检査 光的所述表面是与形成作为掩模图案的薄膜的透光性基板的主表面正交 的侧面。与技术方案12所述的专利技术相关的掩模坯料用透光性基板的制造方法， 在技术方案11所述的专利技术中，其特征在于，在所述检查工序中，将具有 比所述侧面的宽度大的束形状的检查光导入该表面。与技术方案13所述的专利技术相关的掩模坯料用透光性基板的制造方法， 在技术方案7 12中任意一项所述的专利技术中，其特征在于，所述检查光的 每单位面积的能量为每1次脉冲10mJ/cm2以上50mJ/cm2以下。与技术方案14所述的专利技术相关的掩模坯料的制造方法，其特征在于， 在通过技术方案7 13中任意一项所述的掩模坯料用透光性基板的制造方 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透光性物品的检查方法，其使用于光平版印刷，检查在由透光性材料构成的透光性物品的内部，有无相对于曝光光光学特性部分或局部变化的不均匀性，其特征在于，　　　　向所述透光性物品导入具有２００ｎｍ以下的波长的检查光，在所述检查光在该透光性物品内部传播的光路中，通过检测部分或局部产生的比所述检查光的波长长的光，来检查所述透光性物品中的光学不均匀性的有无。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：田边胜，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]