一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于半导体技术领域，具体涉及一种石英环用的抛光液供给装置。一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置，包括抛光液桶、抛光液桶盖、搅拌装置、抛光液供给水泵、纯水桶、原液桶，纯水桶的底部通过纯水泵联通抛光液桶，原液桶的底部通过抛光液调节水泵联通抛光液桶，抛光液桶盖上设有抛光液回水口，抛光液回水口通过管路连接抛光机的抛光液出液口；抛光液桶盖上安装有音叉式密度计和温度传感器，抛光液桶的下方装有半导体制冷块，音叉式密度计分别连接纯水泵、抛光液调节水泵，温度传感器连接半导体制冷块。本实用新型专利技术可自动调节抛光液浓度和温度，提高抛光效率和精度，操作简单，使用方便。使用方便。使用方便。

【技术实现步骤摘要】
一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置


[0001]本技术属于半导体
，具体涉及一种石英环用的抛光液供给装置。

技术介绍

[0002]随着半导体芯片产业景气向上，半导体用石英环是半导体制造的整个流程中的关键零部件。尤其是对抛光后的半导体用石英环的技术参数要求极高。
[0003]石英环的抛光加工，需要将石英环放置于粘有聚氨酯抛光皮的大理石上，通过水泵将抛光液输送到抛光皮上进行抛光工作，传统的抛光液供给系统主要是一个造波泵放置在抛光液中搅拌，然后抛光液通过水泵进行输送，此方法由于抛光液沉淀和抛光液损耗，因而在抛光过程中抛光液浓度会不断降低，抛光效率降低。另外，由于在抛光过程中石英玻璃与抛光皮不断摩擦产生热量，抛光液温度升高，大理石与石英玻璃膨胀变形，因而抛光精度降低，影响抛光品质。

技术实现思路

[0004]本技术针对传统供给装置抛光液浓度不断降低，因而抛光效率降低，在抛光过程中温度升高，影响大理石与石英环的面型，十分影响抛光精度的技术问题，目的在于提供一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置。
[0005]一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置，包括抛光液桶、位于所述抛光液桶上方的抛光液桶盖、设置在所述抛光液桶内的搅拌装置、设置在所述抛光液桶底部的抛光液供给水泵，还包括一用于放置纯水的纯水桶、一用于放置高浓度抛光液的原液桶，所述纯水桶的底部通过纯水泵联通所述抛光液桶，所述原液桶的底部通过抛光液调节水泵联通所述抛光液桶，所述抛光液桶盖上设有抛光液回水口，所述抛光液回水口通过管路连接抛光机的抛光液出液口；
[0006]所述抛光液桶盖上安装有音叉式密度计和温度传感器，所述音叉式密度计和所述温度传感器的感应端均向下伸入于所述抛光液桶内，所述抛光液桶的下方装有半导体制冷块，所述音叉式密度计的信号输出端分别连接所述纯水泵的控制端、所述抛光液调节水泵的控制端，所述温度传感器的信号输出端连接所述半导体制冷块的控制端；
[0007]驱动所述搅拌装置，对所述抛光液桶内的抛光液进行搅拌，通过所述抛光液供给水泵将经搅拌后的所述抛光液供给所述抛光机，所述抛光液在所述抛光机中经抛光回流到所述抛光液回水口，进而流入所述抛光液桶中，所述抛光液桶中的抛光液浓度改变，抛光液温度升高，所述音叉式密度计实时检测所述抛光液浓度并传输给所述纯水泵和所述抛光液调节水泵，所述温度传感器实时检测所述抛光液温度并传输给所述半导体制冷块；
[0008]当所述抛光液浓度降低至预设浓度下限时，所述抛光液调节水泵开始工作，所述抛光液调节水泵将原液桶内的抛光液送入所述抛光液桶内，当所述抛光液浓度达到预设正常浓度范围时，所述抛光液调节水泵停止工作；
[0009]当所述抛光液浓度升高至预设浓度上限时，所述纯水泵开始工作，所述纯水泵将
纯水桶内的纯水送入所述抛光液桶内，当所述抛光液浓度达到预设正常浓度范围时，所述纯水泵停止工作；
[0010]当所述抛光液温度升高至预设温度上限时，所述半导体制冷块开始工作，对所述抛光液桶进行制冷，进而对所述抛光液桶内的抛光液进行制冷，当抛光液温度达到预设正常温度范围时，所述半导体制冷块停止工作。
[0011]通过上述设计的本技术，能自动供给具有正常浓度范围和正常温度范围的抛光液，能提高抛光效率，提高抛光精度等优点，解决了传统供给装置抛光液浓度不断降低，因而抛光效率降低的问题，也解决了传统供给装置在抛光过程中温度升高，影响大理石与石英环的面型，影响抛光精度的问题。
[0012]所述纯水泵装有接触器，所述抛光液调节水泵装有另一接触器，所述音叉式密度计的信号输出端分别连接所述纯水泵的接触器、所述抛光液调节水泵的接触器。
[0013]所述搅拌装置包括搅拌电机、三个搅拌器，三个所述搅拌器分别为中间搅拌器及位于所述中间搅拌器左右两侧的左右搅拌器，三个所述搅拌器伸入于所述抛光液桶内，所述中间搅拌器上装有刮液板，所述刮液板与所述抛光液桶的内壁形状相吻合；
[0014]所述中间搅拌器的顶部与所述搅拌电机的驱动轴固定，所述中间搅拌器顶部还连接一中间齿轮，由所述搅拌电机驱动带动所述中间搅拌器转动工作、所述中间齿轮转动，两个所述左右搅拌器的顶部分别连接一侧边齿轮，所述中间齿轮和所述侧边齿轮啮合连接，在所述中间齿轮转动时，带动两侧的所述侧边齿轮转动，进而带动两侧的所述左右搅拌器转动工作。
[0015]所述抛光液桶上方放有中间开孔的环形的过滤网，所述过滤网上方为所述抛光液桶盖，所述过滤网上设有振动器，所述抛光液回水口的下方朝向所述过滤网；
[0016]当所述抛光液在所述抛光机中经过抛光回流到所述抛光液回水口后，在所述振动器的振动下，回流的所述抛光液经过所述过滤网过滤后回流到所述抛光液桶中。
[0017]所述抛光液桶的一侧设有水位计，所述抛光液桶的另一侧设有溢水口，通过所述水位计可以查看所述抛光液桶中抛光液的含量。
[0018]所述水位计的信号输出端连接所述纯水泵的控制端，所述水位计实时检测所述抛光液桶内的抛光液水位并传输给所述纯水泵，当所述抛光液水位下降至预设水位下限时，所述纯水泵开始工作，所述纯水泵将纯水桶内的纯水送入所述抛光液桶内，当所述抛光液水位达到预设正常水位范围时，所述纯水泵停止工作。
[0019]所述抛光液桶的外壁上包裹有用于保温的保温棉。
[0020]所述抛光液桶的底部为倒锥形结构，所述抛光液桶底部设有开孔，所述开孔通过管路与所述抛光液供给水泵相连，所述抛光液供给水泵通过另一管路与所述抛光机的供液口相连。
[0021]所述纯水桶内设有造波泵。
[0022]所述纯水桶的底部为倒锥形结构，所述纯水桶底部设有开孔，所述开孔通过管路与所述纯水泵相连，所述纯水泵通过另一管路与所述抛光液桶的进水口相连，所述进水口位于所述抛光液桶盖上。
[0023]所述原液桶的底部为倒锥形结构，所述原液桶底部设有开孔，所述开孔通过管路与所述抛光液调节水泵相连，所述抛光液调节水泵通过另一管路与所述抛光液桶的进液口
相连，所述进液口位于所述抛光液桶盖上。
[0024]本技术的积极进步效果在于：本技术采用一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置，具有如下显著优点：
[0025]1、可自动调节抛光液浓度，提高抛光效率；
[0026]2、可自动调节抛光液温度，提高抛光精度；
[0027]3、操作简单，可同时给多台抛光机提供抛光液，方便使用，效率高、成本低，减少资源浪费。
附图说明
[0028]图1为本技术一种结构示意图；
[0029]图2为图1的另一角度示意图；
[0030]图3为本技术部分内部示意图；
[0031]图4为本技术搅拌器的一种结构示意图；
[0032]图5为本技术过滤网的一种结构示意图。
具体实施方式
[0033]为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置，包括抛光液桶、位于所述抛光液桶上方的抛光液桶盖、设置在所述抛光液桶内的搅拌装置、设置在所述抛光液桶底部的抛光液供给水泵，其特征在于，还包括一用于放置纯水的纯水桶、一用于放置高浓度抛光液的原液桶，所述纯水桶的底部通过纯水泵联通所述抛光液桶，所述原液桶的底部通过抛光液调节水泵联通所述抛光液桶，所述抛光液桶盖上设有抛光液回水口，所述抛光液回水口通过管路连接抛光机的抛光液出液口；所述抛光液桶盖上安装有音叉式密度计和温度传感器，所述音叉式密度计和所述温度传感器的感应端均向下伸入于所述抛光液桶内，所述抛光液桶的下方装有半导体制冷块，所述音叉式密度计的信号输出端分别连接所述纯水泵的控制端、所述抛光液调节水泵的控制端，所述温度传感器的信号输出端连接所述半导体制冷块的控制端。2.如权利要求1所述的一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置，其特征在于，所述纯水泵装有接触器，所述抛光液调节水泵装有另一接触器，所述音叉式密度计的信号输出端分别连接所述纯水泵的接触器、所述抛光液调节水泵的接触器。3.如权利要求1所述的一种用于半导体用石英环的抛光液自动供给装置，其特征在于，所述搅拌装置包括搅拌电机、三个搅拌器，三个所述搅拌器分别为中间搅拌器及位于所述中间搅拌器左右两侧的左右搅拌器，三个所述搅拌器伸入于所述抛光液桶内，所述中间搅拌器上装有刮液板，所述刮液板与所述抛光液桶的内壁形状相吻合；所述中间搅拌器的顶部与所述搅拌电机的驱动轴固定，所述中间搅拌器顶部还连接一中间齿轮，由所述搅拌电机驱动带动所述中间搅拌器转动工作、所述中间齿轮转动，两个所述左右搅拌器的顶部分别连接一侧边齿轮，所述中间齿轮和所述侧边齿轮啮合连接，在所述中间齿轮转动时，...

【专利技术属性】
技术研发人员：单佩，顾曹鑫，
申请(专利权)人：上海菲利华石创科技有限公司，
类型：新型
国别省市：