蒸镀坩埚制造技术

本发明专利技术公开了一种蒸镀坩埚，涉及蒸镀设备技术领域，能够降低喷嘴喷出蒸气的速率波动，并降低镀膜材料在喷嘴内侧附着并持续生长的可能。所述蒸镀坩埚包括：坩埚本体，坩埚本体包括底壁和环绕底壁设置的侧壁，底壁和侧壁围成具有开口的容纳腔；侧壁靠近容纳腔的表面为第一表面，第一表面包括与底壁平行的支撑面；网板组件，网板组件包括至少一块具有网孔的网板，网板组件抵接于支撑面；喷嘴，喷嘴安装于容纳腔的开口处，且喷嘴具有喷气孔。本发明专利技术的蒸镀坩埚用于蒸镀工艺。镀坩埚用于蒸镀工艺。镀坩埚用于蒸镀工艺。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀坩埚


[0001]本专利技术涉及蒸镀设备
，尤其涉及蒸镀坩埚。

技术介绍

[0002]蒸镀是指在真空条件下，采用一定的加热方式使镀膜材料(或称膜料)气化并沉积到基片表面的工艺；广泛应用于显示面板的制作过程。蒸镀坩埚是蒸镀工艺中最重要的设备之一，现有技术提供的蒸镀坩埚，通常包括具有容纳腔的坩埚本体和设置于坩埚本体开口处的喷嘴。
[0003]现有技术中的蒸镀坩埚，随着蒸镀工艺的持续进行，坩埚本体内的镀膜材料逐渐减少，镀膜材料的蒸气生成速度逐渐降低，坩埚本体内的气体压力降低，导致喷嘴喷气速率出现波动；而且会在喷嘴内侧附着并持续生长镀膜材料(通常为镀膜材料的蒸气在喷嘴内侧壁上凝华形成)，影响蒸镀工艺的稳定性，以及蒸镀产品的合格率。

技术实现思路

[0004]本专利技术的实施例提供一种蒸镀坩埚，能够增加蒸镀过程中蒸镀坩埚内的气体压力，降低喷嘴喷出蒸气的速率波动，同时降低镀膜材料在喷嘴内侧附着以及持续生长的可能。
[0005]为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：
[0006]一种蒸镀坩埚，包括：坩埚本体，坩埚本体包括底壁和环绕底壁设置的侧壁，底壁和侧壁围成具有开口的容纳腔；侧壁靠近容纳腔的表面为第一表面，第一表面包括与底壁平行的支撑面；网板组件，网板组件包括至少一块具有网孔的网板，网板组件抵接于支撑面；喷嘴，喷嘴安装于容纳腔的开口处，且喷嘴具有喷气孔。
[0007]在一些实施例中，侧壁包括朝向容纳腔内侧延伸的凸缘，凸缘位于底壁与容纳腔的开口之间，且凸缘沿容纳腔的周向为环形；支撑面为凸缘远离底壁的表面。
[0008]在一些实施例中，第一表面还包括沿垂直于底壁方向延伸的第一延伸段和第二延伸段，第二延伸段位于第一延伸段远离底壁的一侧，且第一延伸段的直径小于第二延伸段的直径；支撑面的一侧与第一延伸段连接，另一侧与第二延伸段连接。
[0009]在一些实施例中，网板的数量为多个，多个网板层叠设置，且任意相邻两个网板之间具有避让间隙。
[0010]在一些实施例中，网板包括下层网板和上层网板，下层网板包括网板本体和环绕网板本体设置的支撑框，支撑框的内侧设有台阶；上层网板套设于支撑框内，且上层网板抵接于台阶远离网板本体的表面。
[0011]在一些实施例中，支撑框远离网板的边缘设有多个向内延伸的卡接凸起，多个卡接凸起沿支撑框的周向间隔设置；上层网板的周向边缘设有多个与卡接凸起对应的卡槽，且上层网板卡接于卡接凸起与台阶之间，上层网板能够相对支撑框转动。
[0012]在一些实施例中，上层网板的卡槽所在位置处的径向尺寸大于台阶的内侧边缘的
直径。
[0013]在一些实施例中，网板包括平面网板，平面网板包括网孔区和环绕网孔区的平板区，网孔区内设有多个网孔，且网孔区与平板区的厚度相等；网板组件还包括环形支撑件，环形支撑件安装于任意两个相邻的平面网板之间，且环形支撑件的两端分别与两个平面网板抵接。
[0014]在一些实施例中，避让间隙内填充有氮化硅颗粒。
[0015]在一些实施例中，网板组件由耐高温且不与镀膜材料反应的材料制成。
[0016]本专利技术实施例的蒸镀坩埚，在坩埚本体内增加网板组件，蒸镀时，镀膜材料放置于网板组件与底壁之间。网板组件能够减小蒸气(镀膜材料蒸发或升华形成的蒸气)扩散通道(从网板组件下方区域扩散至喷嘴处的通道)的截面面积，进而增加容纳腔下侧(容纳腔内网板组件靠近底壁一侧的空间)的气压。一方面，增加容纳腔下侧的气压，可以使蒸气穿过网板组件的速率更加稳定；还可以增加容纳腔下侧的蒸气量，进而降低由于蒸气生成量波动导致的容纳腔下侧的气压波动，降低蒸气穿过网板组件的速率波动，降低喷嘴喷气速率的波动。另一方面，根据理想气体状态方程(PV＝nRT)可知，增加容纳腔下侧的气压，有利于提升容纳腔下侧的温度；即，提升蒸气的温度。蒸气温度的提升，可以降低蒸气在喷嘴内侧附着以及持续生长的可能(温度高不容易凝华)。综上，相较于现有技术，本专利技术实施例提供的蒸镀坩埚，通过在镀膜材料与喷嘴之间增加网板组件，能够增加蒸镀工艺的稳定性，以及蒸镀产品的合格率。
附图说明
[0017]图1为本专利技术实施例的蒸镀坩埚的结构示意图；
[0018]图2为实施例一中的坩埚本体的结构示意图；
[0019]图3为实施例二中的坩埚本体的结构示意图；
[0020]图4为本专利技术实施例的下层网板的俯视图；
[0021]图5为图4中A-A的剖视图；
[0022]图6为本专利技术实施例的上层网板的俯视图；
[0023]图7为图6中B-B的剖视图；
[0024]图8为本专利技术实施例的上层网板与下层网板的装配结构示意图；
[0025]图9为本专利技术实施例中卡接凸起与卡槽相对时的俯视图；
[0026]图10为本专利技术实施例中卡接凸起与卡槽错位时的俯视图；
[0027]图11为本专利技术实施例的平面网板的俯视图；
[0028]图12为图11中C-C的剖视图；
[0029]图13为本专利技术实施例的环形支撑件的结构示意图。
[0030]附图标记
[0031]1-坩埚本体；11-底壁；12-侧壁；121-第一表面；1211-支撑面；1212-第一延伸段；1213-第二延伸段；2-网板组件；20-网板；21-下层网板；211-网板本体；212-支撑框；213-台阶；214-卡接凸起；22-上层网板；221-卡槽；23-平面网板；231-网孔区；232-平板区；24-环形支撑件；3-喷嘴；31-喷气孔。
具体实施方式
[0032]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0033]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0034]术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本专利技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0035]本专利技术实施例提供了一种蒸镀坩埚，参照图1和图2，包括：坩埚本体1，坩埚本体1包括底壁11和环绕底壁11设置的侧壁12，底壁11和侧壁12围成具有开口的容纳腔；侧壁12靠近容纳腔的表面为第一表面121，第一表面121包括与底壁11平行的支撑面1211；网板组件2，网板组件2包括至少一块具有网孔的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括：坩埚本体，所述坩埚本体包括底壁和环绕所述底壁设置的侧壁，所述底壁和所述侧壁围成具有开口的容纳腔；所述侧壁靠近所述容纳腔的表面为第一表面，所述第一表面包括与所述底壁平行的支撑面；网板组件，所述网板组件包括至少一块具有网孔的网板，所述网板组件抵接于所述支撑面；喷嘴，所述喷嘴安装于所述容纳腔的开口处，且所述喷嘴具有喷气孔。2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述侧壁包括朝向所述容纳腔内侧延伸的凸缘，所述凸缘位于所述底壁与所述容纳腔的开口之间，且所述凸缘沿所述容纳腔的周向为环形；所述支撑面为所述凸缘远离所述底壁的表面。3.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述第一表面还包括沿垂直于所述底壁方向延伸的第一延伸段和第二延伸段，所述第二延伸段位于所述第一延伸段远离所述底壁的一侧，且所述第一延伸段的直径小于所述第二延伸段的直径；所述支撑面的一侧与所述第一延伸段连接，另一侧与所述第二延伸段连接。4.根据权利要求1～3中任一项所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述网板的数量为多个，多个所述网板层叠设置，且任意相邻两个所述网板之间具有避让间隙。5.根据权利要求4所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述网板包括：下层网板，所述下层网板包括网...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐天宇，黄秦霏，肖昂，刘洋，郭雄飞，徐豹，朱伍权，付佳佳，孟德芬，易平安，赵希瑾，贾克飞，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：