感光性膜及永久遮罩阻剂的形成方法技术

本发明专利技术的感光性膜具备：具有表面粗糙度为0.1～0.4μm的第1面的载体膜、及形成于所述第1面上的感光层，载体膜的雾度为30～65％，且将具有与感光层的折射率的差为

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性膜及永久遮罩阻剂的形成方法


[0001]本专利技术涉及一种感光性膜及永久遮罩阻剂的形成方法。

技术介绍

[0002]随着各种电子机器的高性能化，正在推进半导体的高集成化。随之，对形成于印刷配线板、半导体封装衬底等的永久遮罩阻剂要求各种性能。
[0003]为了形成永久遮罩阻剂，广泛地使用将由感光性树脂组合物所形成而成的层(以下，称为“感光层”)形成于支撑膜(载体膜)上的感光性膜。随着配线间距的微细化，而要求在感光性膜的感光层形成分辨率优异的阻剂图案。
[0004]当使用感光性膜形成阻剂图案时，一般是将感光层层压于衬底上后，在未剥离支撑膜的情况下，从支撑膜上对感光层进行曝光。为了应对此类曝光处理，提出使用雾度较小的支撑膜(例如，参照专利文献1～3)。
[0005]
技术介绍
文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本专利特开平07-333853号公报
[0008]专利文献2：国际公开第2008/093643号
[0009]专利文献3：日本专利特开2015-166866号公报

技术实现思路

[0010][专利技术要解决的问题][0011]随着半导体的高集成化，而在永久遮罩阻剂上进一步积层底部填充材等材料，因此，永久遮罩阻剂需与积层的材料的密接性优异。一般来说，为了提高永久遮罩阻剂与底部填充材等的密接性，通过等离子体处理等对阻剂图案的表面实施粗化。因此，使用感光性膜的永久遮罩阻剂的形成步骤变得烦杂。因此，不仅要求形成分辨率优异的阻剂图案，而且要求即便省略对阻剂图案的表面进行粗化处理的步骤，仍可形成密接性优异的永久遮罩阻剂。
[0012]本专利技术的目的在于提供一种能够简易地形成分辨率及密接性优异的阻剂图案的感光性膜、及使用该感光性膜的永久遮罩阻剂的形成方法。
[0013][解决问题的技术手段][0014]本专利技术的一形态涉及一种感光性膜，其具备：具有表面粗糙度为0.1～0.4μm的第1面的载体膜、及形成于所述第1面上的感光层，且载体膜的雾度为30～65％，且将具有与感光层的折射率的差为
±
0.02以内的折射率的透明树脂层设置于第1面上所测得的在405nm波长下的分光雾度为0.1～9.0％。
[0015]所述载体膜也可以在第1面侧具有包含无机粒子及粘合剂树脂的树脂层。树脂层也可以包含平均粒径为0.1～3.0μm的无机粒子。
[0016]本专利技术的另一形态涉及一种永久遮罩阻剂的形成方法，其具备如下步骤：将所述
感光性膜以感光层、载体膜的顺序积层于衬底上；将活性光线经由载体膜照射至感光层的规定部分，而在感光层形成光硬化部；及将载体膜剥离之后，去除光硬化部以外的部分而形成阻剂图案的步骤；且阻剂图案的表面粗糙度为0.1～0.4μm。
[0017][专利技术效果][0018]根据本专利技术，能提供一种能够简易地形成分辨率及密接性优异的阻剂图案的感光性膜、及使用该感光性膜的永久遮罩阻剂的形成方法。
附图说明
[0019]图1是表示本实施方式的载体膜的示意剖视图。
[0020]图2是表示本实施方式的感光性膜的示意剖视图。
[0021]图3是表示本实施方式的永久遮罩阻剂的形成步骤的示意剖视图。
具体实施方式
[0022]以下，视需要一面参照附图一面对实施方式详细地进行说明。但，本专利技术并不受以下实施方式限定。另外，所谓用语“层”，以俯视图观察时，除了整个面所形成的形状的构造以外，也包含局部所形成的形状的构造。另外，使用“～”表示的数值范围表示分别包含“～”的前后所记载的数值作为最小值及最大值之范围。另外，本说明书中阶段性地记载的数值范围中，某阶段的数值范围的上限值或下限值也可以替换为另一阶段的数值范围的上限值或下限值。另外，本说明书中所记载的数值范围中，其数值范围的上限值或下限值也可以替换为实施例中所示的值。
[0023][感光性膜][0024]本实施方式的感光性膜具备：具有表面粗糙度为0.1～0.4μm的第1面的载体膜、及形成于所述第1面上的感光层，且载体膜的雾度为30～65％，且将具有与感光层的折射率的差为
±
0.02以内的折射率的透明树脂层设置于第1面上所测得的在405nm波长下的分光雾度为0.1～9.0％。通过使用此类感光性膜，不仅可形成分辨率优异的阻剂图案，而且即便省略对阻剂图案的表面进行粗化处理的步骤，仍可制作密接性优异的永久遮罩阻剂。
[0025](载体膜)
[0026]本实施方式的载体膜于与感光层相接的面(第1面)的一侧具有表面粗糙度为0.1～0.4μm的凹凸。图1是用于对本实施方式的载体膜的一例进行说明的示意剖视图。如图1所示，载体膜1可具有：基材层1b、及形成于基材层1b的一面上的树脂层1a。在成为所述第1面的树脂层1a的表面形成有凹凸。
[0027]图2是用于对本实施方式的感光性膜的一例进行说明的示意剖视图。图2所示的感光性膜10具备：包含基材层1b及树脂层1a的载体膜1、及设置于载体膜1的树脂层1a上的感光层2。
[0028]作为基材层1b，可使用具有透光性的聚合物膜。基材层1b的全光线透过率优选为85％以上，更优选为90％以上。基材层1b的雾度优选为4％以下，更优选为2％以下，进一步优选为1％以下。作为此类聚合物膜，例如可列举：聚对苯二甲酸乙二酯膜等聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜等聚烯烃膜。
[0029]基材层1b的厚度例如为5～250μm。基材层1b的厚度就操作性及分辨率的观点来
看，优选为5～100μm，更优选为10～70μm，进一步优选为15～40μm，特别优选为20～35μm。基材层1b的厚度如果为5μm以上，那么操作性优异，如果为250μm以下，那么可调节光罩到感光层的距离，从而更容易抑制因衍射现象的影响导致分辨率下降的情况。
[0030]树脂层1a可包含无机粒子及粘合剂树脂。就将表面粗糙度调整为目标范围的观点来看，无机粒子在树脂层1a中优选含有1～20质量％，更优选含有1～10质量％。通过使树脂层1a包含无机粒子，从而更容易在载体膜的与感光层相接的面(第1面)上形成表面粗糙度为0.1～0.4μm的凹凸。并且，容易将该凹凸的形状转印至感光层的表面。
[0031]作为无机粒子，例如可列举：二氧化硅粒子、碳酸钙粒子、氧化铝粒子、氧化钛粒子及硫酸钡粒子。就缩小无机粒子与粘合剂树脂的折射率差的观点来看，优选使用二氧化硅粒子作为无机粒子。树脂层1a也可以包含平均粒径为0.1～3.0μm的无机粒子。为了容易调整表面粗糙度，树脂层1a中所包含的无机粒子的平均粒径也可为0.5～3.0μm或1.0～2.8μm。
[0032]作为粘合剂树脂，可使用热硬化性树脂，例如可为丙烯酸树脂、氨基甲酸酯树脂等。就分辨率的观点来看，粘合剂树脂的折射率与以光学方式相接于树脂层1a而设置的感光层2的折射率的差越小越好。具体而言，树脂层1a与感光层2的折射率的差的绝对值优选为0.2以下，更优选为0.1以下，进一步本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种感光性膜，其具备：具有表面粗糙度为0.1～0.4μm的第1面的载体膜、及形成于所述第1面上的感光层，且所述载体膜的雾度为30～65％，且将具有与所述感光层的折射率的差为
±
0.02以内的折射率的透明树脂层设置于所述第1面上所测得的在405nm波长下的分光雾度为0.1～9.0％。2.根据权利要求1所述的感光性膜，其中所述载体膜中，在所述第1面侧具有包含无机粒子及粘合剂树脂的树脂层。3.根据权利要求2所述的感光性膜，其中所述树脂...

【专利技术属性】
技术研发人员：饵取英树，北村佳子，布施好章，古室伸仁，
申请(专利权)人：株式会社木本，
类型：发明
国别省市：