一种适用于CVD合金零件制备的散热结构制造技术

本实用新型专利技术涉及化学气相沉积设备技术领域，尤其涉及一种适用于CVD合金零件制备的散热结构，解决现有技术中存在冷却效果差、生产效率低的缺点，包括沉积台和顶板，所述沉积台的顶部固定连接有散热台，所述散热台的顶部放置有样品，且沉积台的一侧固定设置有冷却水箱，所述沉积台和散热台的内部共同开设有内槽，所述内槽的内部滑动设置有冷却件，通过伺服电机、驱动齿轮、从动齿轮、螺纹杆、升降块等结构的设置，在冷却前冷却水箱就可持续地将冷却液送入至冷却件的内部进行预冷，使冷却件始终处于低温状态，冷却时通过升降机构将冷却件送至样品底部，能够及时地对样品进行降温，大大地提高了生产效率，具有较强的实用性。具有较强的实用性。具有较强的实用性。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于CVD合金零件制备的散热结构


[0001]本技术涉及化学气相沉积设备
，尤其涉及一种适用于CVD合金零件制备的散热结构。

技术介绍

[0002]适用于制备合金零件的化学气相沉积装置有微波等离子体CVD装置、热丝CVD装置、直流CVD装置等。其中，微波等离子体CVD是使用高能微波将混合气源直接电离为亚稳态活性基团；热丝CVD是使用2000℃左右的高温金属丝将混合气源直接加热电离；直流CVD是在高压电场的作用下高能电子对混合气源进行轰击电离。无论使用何种CVD装置制备合金零件都必须考虑到合金零件的散热问题。
[0003]现有技术中用于CVD合金零件制品的散热结构存在以下缺陷：一是冷却功能单一，不能实现较好的冷却效果；二是冷却回路启动冷却时需要一段时间，不能即使对样品进行及时冷却，生产效率低。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中存在冷却效果差、生产效率低的缺点，而提出的一种适用于CVD合金零件制备的散热结构。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种适用于CVD合金零件制备的散热结构，包括沉积台和顶板，所述沉积台的顶部固定连接有散热台，所述散热台的顶部放置有样品，且沉积台的一侧固定设置有冷却水箱，所述沉积台和散热台的内部共同开设有内槽，所述内槽的内部滑动设置有冷却件，所述冷却件的底部通过螺栓固定连接有升降杆，所述升降杆的底部焊接有连接板，连接板的一侧通过沉头螺栓固定连接有升降块，所述内槽的内部转动安装有螺纹杆，所述升降块螺纹连接在所述螺纹杆的外部；
[0007]所述顶板的内部开设有安装槽，所述安装槽的内部安装有风扇。
[0008]优选的，所述冷却件的内部开设有冷却回路，冷却回路的进口和出口均固定连接有软管，所述冷却水箱的一侧依次通过法兰盘固定连接有进水管和出水管，所述进水管和出水管的另一端与所述软管固定连接。
[0009]优选的，所述沉积台的底部开设有凹槽，凹槽的顶部通过螺栓固定安装有伺服电机，所述伺服电机的输出端通过联轴器连接有转轴，所述转轴的外部套设有驱动齿轮，所述螺纹杆的靠近端部的外侧套设有从动齿轮，驱动齿轮和从动齿轮啮合连接。
[0010]优选的，所述内槽的内壁一侧设置有一体结构的侧板，内槽的底壁和侧板的底部分别安装有第一轴承和第二轴承，所述螺纹杆的两端分别套设在所述第一轴承和第二轴承的内部。
[0011]优选的，所述内槽的内壁两侧均通过铆钉固定有滑轨，所述冷却件的两侧均通过沉头螺栓固定有滑块，所述滑块与滑轨滑动连接。
[0012]本技术的有益效果是：
[0013]1、本技术中通过风扇、冷却水箱、冷却件等结构的设置，冷却时设备不仅仅利用风扇进行风冷，还同时利用冷却水箱对样品进行水冷，两种冷却方式同步进行，有效地提升了冷却的效果。
[0014]2、本技术中通过伺服电机、驱动齿轮、从动齿轮、螺纹杆、升降块等结构的设置，在冷却前冷却水箱就可持续地将冷却液送入至冷却件的内部进行预冷，使冷却件始终处于低温状态，冷却时通过升降机构将冷却件送至样品底部，能够及时地对样品进行降温，大大地提高了生产效率，具有较强的实用性。
附图说明
[0015]图1为本技术提出的一种适用于CVD合金零件制备的散热结构的正面剖视图；
[0016]图2为本技术提出的一种适用于CVD合金零件制备的散热结构的A处放大图。
[0017]图中：1沉积台、2冷却水箱、3散热台、4样品、5顶板、6风扇、7内槽、8冷却件、9冷却回路、10进水管、11出水管、12侧板、13螺纹杆、14升降杆、15连接板、16凹槽、17伺服电机、18软管、19驱动齿轮、20从动齿轮、21升降块。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
[0019]参照图1-2，一种适用于CVD合金零件制备的散热结构，包括沉积台1和顶板5，所述沉积台1的顶部固定连接有散热台3，散热台3的顶部放置有样品4，且沉积台1的一侧固定设置有冷却水箱2，沉积台1和散热台3的内部共同开设有内槽7，内槽7的内部滑动设置有冷却件8，冷却件8的底部通过螺栓固定连接有升降杆14，升降杆14的底部焊接有连接板15，连接板15的一侧通过沉头螺栓固定连接有升降块21，内槽7的内部转动安装有螺纹杆13，升降块21螺纹连接在螺纹杆13的外部；顶板5的内部开设有安装槽，安装槽的内部安装有风扇6，通过风扇6、冷却水箱2、冷却件8等结构的设置，冷却时设备不仅仅利用风扇6进行风冷，还同时利用冷却水箱2对样品进行水冷，两种冷却方式同步进行，有效地提升了冷却的效果，冷却件8的内部开设有冷却回路9，冷却回路9的进口和出口均固定连接有软管18，冷却水箱2的一侧依次通过法兰盘固定连接有进水管10和出水管11，进水管10和出水管11的另一端与软管18固定连接，通过伺服电机17、驱动齿轮19、从动齿轮20、螺纹杆13、升降块21等结构的设置，在冷却前冷却水箱2就可持续地将冷却液送入至冷却件8的内部进行预冷，使冷却件8始终处于低温状态，冷却时通过升降机构将冷却件8送至样品底部，能够及时地对样品进行降温，大大地提高了生产效率，具有较强的实用性；
[0020]其中，沉积台1的底部开设有凹槽16，凹槽16的顶部通过螺栓固定安装有伺服电机17，伺服电机17的输出端通过联轴器连接有转轴，转轴的外部套设有驱动齿轮19，螺纹杆13的靠近端部的外侧套设有从动齿轮20，驱动齿轮19和从动齿轮20啮合连接，内槽7的内壁一侧设置有一体结构的侧板12，内槽7的底壁和侧板12的底部分别安装有第一轴承和第二轴承，螺纹杆13的两端分别套设在第一轴承和第二轴承的内部，内槽7的内壁两侧均通过铆钉
固定有滑轨，冷却件8的两侧均通过沉头螺栓固定有滑块，滑块与滑轨滑动连接。
[0021]本实施例中，设备在使用时，沉积台1和顶板5均固定安装在化学气相沉积设备的反应腔内部，当样品4处于沉积状态时，风扇6和不工作，冷却件8位于如图1所示位置，冷却水箱2内部的冷却液持续地通过进水管10、出水管11、软管18以及冷却回路9形成循环回路对冷却件8进行冷却，保持冷却件8的低温状态，在沉积处理结束后，开始对样品4进行降温；
[0022]进一步的，此时风扇6的驱动装置驱动，带动风扇6对样品4进行风冷，同时伺服电机17启动，伺服电机17带动驱动齿轮19转动，使与之啮合连接的从动齿轮20转动，从动齿轮20则带动螺纹杆13转动，由于升降块21与螺纹杆13为螺纹连接关系，故螺纹杆13转动后升降块21则向上移动，带动升降杆14和冷却件8向上滑动，当升降块21移动至侧板12位置时，冷却件8正好移动至滑轨的末端，与样品4接触对样品4进行及时降温，需要说明的是，凹槽16与内槽7的内部相连通，驱动齿轮19和从动齿轮20均位于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于CVD合金零件制备的散热结构，包括沉积台(1)和顶板(5)，其特征在于，所述沉积台(1)的顶部固定连接有散热台(3)，所述散热台(3)的顶部放置有样品(4)，且沉积台(1)的一侧固定设置有冷却水箱(2)，所述沉积台(1)和散热台(3)的内部共同开设有内槽(7)，所述内槽(7)的内部滑动设置有冷却件(8)，所述冷却件(8)的底部通过螺栓固定连接有升降杆(14)，所述升降杆(14)的底部焊接有连接板(15)，连接板(15)的一侧通过沉头螺栓固定连接有升降块(21)，所述内槽(7)的内部转动安装有螺纹杆(13)，所述升降块(21)螺纹连接在所述螺纹杆(13)的外部；所述顶板(5)的内部开设有安装槽，所述安装槽的内部安装有风扇(6)。2.根据权利要求1所述的一种适用于CVD合金零件制备的散热结构，其特征在于，所述冷却件(8)的内部开设有冷却回路(9)，冷却回路(9)的进口和出口均固定连接有软管(18)，所述冷却水箱(2)的一侧依次通过法兰盘固定连接有进水管(10)和出水管(11)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱双林，李春敏，马国忠，胡人文，王恩强，黄道平，沈伟，
申请(专利权)人：苏州索科特新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：