指纹识别模组及其制备方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

技术编号:27292669 阅读:34 留言:0更新日期:2021-02-06 12:02
本申请实施例提供了一种指纹识别模组及其制备方法、显示面板、显示装置。该指纹识别模组,包括:基底,以及依次层叠于基底一侧的驱动器件层、第一导电结构、压电结构和第二导电结构;第一导电结构与驱动器件层电连接;压电结构包括至少一个聚焦单元,聚焦单元包括呈第一夹角的第一部和第二部,使得第一部发射的至少部分超声波与第二部发射的至少部分超声波聚焦于基底远离驱动器件结构的一侧的设计位置。本申请实施例实现了压电结构中的每一个聚焦单元可以等效于一个声透镜,通过声透镜使压电结构发出的超声波聚焦,即采用物理方式使得指纹谷、脊声阻抗差异更加明显,进而有效提高超声波指纹识别产品的灵敏度或准确率。声波指纹识别产品的灵敏度或准确率。声波指纹识别产品的灵敏度或准确率。

【技术实现步骤摘要】
指纹识别模组及其制备方法、显示面板、显示装置


[0001]本申请涉及显示
,具体而言,本申请涉及一种指纹识别模组及其制备方法、显示面板、显示装置。

技术介绍

[0002]指纹识别作为一种识别人的生物特征的技术近年来被越来越多的应用到更多的显示产品中,为人机交互(使用者与显示产品)功能的实现提供了更多的便利,同时也更大程度地保护了用户的隐私。
[0003]在现有的指纹识别技术中,超声波指纹识别作为一种无损检测手段,在一些特定场合,例如当使用者的手指上含有油渍或污渍时,比基于光学、电磁波等技术的传感器更有独特的优势。
[0004]但是现有的超声波指纹识别产品存在灵敏度或准确率较低的缺陷。

技术实现思路

[0005]本申请针对现有方式的缺点,提出一种指纹识别模组及其制备方法、显示面板、显示装置,用以解决现有技术存在超声波指纹识别产品的灵敏度或准确率较低的技术问题。
[0006]第一个方面,本申请实施例提供了一种指纹识别模组,包括:基底,以及依次层叠于基底一侧的驱动器件层、第一导电结构、压电结构和第二导电结构;
[0007]第一导电结构与驱动器件层电连接;
[0008]压电结构包括至少一个聚焦单元,聚焦单元包括呈第一夹角的第一部和第二部,使得第一部发射的至少部分超声波与第二部发射的至少部分超声波聚焦于基底远离驱动器件结构的一侧的设计位置。
[0009]第二个方面,本申请实施例提供了一种显示面板,包括:显示模组和如第一个方面提供的指纹识别模组;
[0010]显示模组的一侧与指纹识别模组的基底远离驱动器件结构的一侧相贴合。
[0011]第三个方面,本申请实施例提供了一种显示装置,包括:如第一个方面提供的指纹识别模组;
[0012]或,如第二个方面提供的显示面板。
[0013]第四个方面,本申请实施例提供一种指纹识别模组的制备方法,包括:
[0014]在基底的一侧,制备包括至少一个驱动器件结构的驱动器件层;
[0015]在驱动器件层远离基底的一侧,制备包括至少一个凸起的支撑结构的支撑层,使得支撑结构与驱动器件结构对应;支撑结构包括呈第一夹角的第一子表面和第二子表面;
[0016]在支撑层远离基底的一侧制备第一导电结构,使得第一导电结构与驱动器件结构电连接;
[0017]在支撑层和第一导电结构远离基底的一侧,制备包括至少一个聚焦单元的压电结构,聚焦单元与支撑结构一一对应,聚焦单元包括呈第一夹角的第一部和第二部,使得第一
部发射的至少部分超声波与第二部发射的至少部分超声波聚焦于基底远离驱动器件结构的一侧的设计位置;
[0018]在压电结构远离基底的一侧制备第二导电结构。
[0019]本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括:压电结构中聚焦单元的第一部和第二部呈第一夹角,使得由第一部发射的至少部分超声波与由第二部发射的至少部分超声波可以聚焦,即压电结构中的每一个聚焦单元可以等效于一个声透镜,通过声透镜使压电结构发出的超声波聚焦,可以在超声波发射功率一定的情况下,提高焦点处超声波的强度,从而加大测得的指纹谷、脊声阻抗差异,即采用物理方式使得指纹谷、脊声阻抗差异更加明显,进而有效提高超声波指纹识别产品的灵敏度或准确率。
[0020]相对于平面波而言,超声波聚焦可以更好的集中检测区域的声压幅值,并且可以改善空间内的声场混叠,增加指纹识别的精度。
[0021]另外,多个聚焦单元相互配合,可以产生多焦点聚焦,从而实现指纹识别的阵列式检测。
[0022]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,这些将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0023]本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
[0024]图1为本申请实施例提供的一种指纹识别模组的结构示意图;
[0025]图2为本申请实施例提供的一种指纹识别模组中,省略了第一导电结构和第二导电结构后,压电结构的超声波聚焦原理示意图;
[0026]图3为本申请实施例提供的一种指纹识别模组的基底、驱动器件层和第一导电结构的结构示意图;
[0027]图4为本申请实施例提供的一种指纹识别模组的超声波聚焦原理示意图;
[0028]图5为超声波的辐射状态示意图;
[0029]图6为本申请实施例提供的一种指纹识别模组的制备方法的流程示意图;
[0030]图7为本申请实施例提供的一种指纹识别模组的制备方法的展开方法的流程示意图。
[0031]图8为本申请实施例提供的一种指纹识别模组的制备方法的展开方法中,在基底的一侧,制备包括至少一个驱动器件结构的驱动器件层后的膜层结构示意图;
[0032]图9为本申请实施例提供的一种指纹识别模组的制备方法的展开方法中,在驱动器件层远离基底的一侧,制备包括至少一个凸起的支撑结构的支撑层,使得支撑结构与驱动器件结构对应。支撑结构包括呈第一夹角的第一子表面和第二子表面后的膜层结构示意图;
[0033]图10为本申请实施例提供的一种指纹识别模组的制备方法的展开方法中,在支撑结构上、通孔内壁以及露出的部分驱动器件结构上沉积第一导电层后的膜层结构示意图;
[0034]图11为本申请实施例提供的一种指纹识别模组的制备方法的展开方法中,在支撑层和第一导电结构远离基底的一侧,制备包括至少一个聚焦单元的压电结构,聚焦单元与
支撑结构一一对应,聚焦单元包括呈第一夹角的第一部和第二部,使得第一部发射的至少部分超声波与第二部发射的至少部分超声波聚焦于基底远离驱动器件结构的一侧的设计位置后的膜层结构示意图;
[0035]图中:
[0036]10-基底;11-显示区;
[0037]20-驱动器件层;21-驱动器件结构;
[0038]30-支撑层;31-支撑结构;31a-第一子表面;31b-第二子表面;32-过孔;
[0039]40-第一导电结构;41-导电单元;
[0040]50-压电结构;51-聚焦单元;51a-第一部;51b-第二部;
[0041]60-第二导电结构;
[0042]A-聚焦方向;B-串联方向;
[0043]1-超声波主瓣;2-超声波旁瓣;3-空值。
具体实施方式
[0044]下面详细描述本申请,本申请的实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外,如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的,则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能解释为对本申请的限制。
[0045]本
技术人员可以理解,除非另外定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语),具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是,诸如通用字典中定义的本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种指纹识别模组,其特征在于,包括:基底,以及依次层叠于所述基底一侧的驱动器件层、第一导电结构、压电结构和第二导电结构;所述第一导电结构与所述驱动器件层电连接;所述压电结构包括至少一个聚焦单元,所述聚焦单元包括呈第一夹角的第一部和第二部,使得所述第一部发射的至少部分超声波与所述第二部发射的至少部分超声波聚焦于所述基底远离所述驱动器件结构的一侧的设计位置。2.根据权利要求1所述的指纹识别模组,其特征在于,所述第一部和所述第二部的靠近所述第一导电结构一侧的表面与第一平面的交线为波浪线或锯齿线,所述第一平面同时垂直于所述基底、所述第一部和所述第二部。3.根据权利要求1或2所述的指纹识别模组,其特征在于,所述第一部的中垂线与所述第二部的中垂线的交点位于所述设计位置。4.根据权利要求3所述的指纹识别模组,其特征在于,所述超声波的主波瓣的方向与垂直于所述基底的方向之间的第二夹角,与所述第一夹角的二分之一的和为90
°
;所述第二夹角对应于所述超声波的波长与线声源的长度之比的反正弦函数,所述线声源的长度为所述第一部或第二部的长度。5.根据权利要求1所述的指纹识别模组,其特征在于,所述指纹识别模组还包括:支撑层;所述支撑层位于所述驱动器件层与所述第一导电结构之间;所述支撑层包括至少一个由所述驱动器件层向所述第一导电结构凸起的支撑结构,所述支撑结构与所述聚焦单元一一对应。6.根据权利要求5所述的指纹识别模组,其特征在于,所述支撑结构的声阻抗不大于所述基底的声阻抗,且所述支撑结构的声阻抗不小于所述压电结构的声阻抗。7.根据权利要求1所述的指纹识别模组,其特征在于,所述聚焦单元阵列布置;所述驱动器件层包括至少一个驱动器件结构,所述驱动器件结构与所述聚焦单元对应;所述第一导电结构包括与所述聚焦单元对应的至少一个导电单元,位于同一行或同一列的所述第一导电单元相串连,串连方向与第一方向相垂直,所述第一方向为所述聚焦单元与所述设计位置之间的连线在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:勾越李秀锋韩艳玲姬雅倩李佩笑
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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