【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及调整装置,尤其是涉及一种投影系统中的调整装置。
技术介绍
在投影
内,尤其采用光管或类似光管的匀光系统需要相对于光源和物面同时有一定的调节范围,一方面要求在沿光轴水平移动,保证光源焦点在入射端面内;另一方面要求出射端面能够相对光源焦点有水平与竖直两个方向的转动。现有公知的投影系统调整装置,具有在升降座下表面中心位置设置一升降螺栓,通过转动升降螺栓使升降座产生上下位移;在升降座上表面中央层叠有第一滑座和第二滑座,并利用设置在两滑座周缘的凸条限制滑座沿前后和左右方向移动,第一滑座前端设有第一调整螺栓,以调整第一滑座前后位移,第二滑座右端设有第二调整螺检,以调整第二滑座左右位移;最后在第二滑座上表面中央设置一旋转座,旋转座中心设有一旋转轴,使其可相对于第二滑座自由旋转,旋转座一侧设有旋转调整螺栓,以控制旋转座的转动,使光学引擎承载在调整装置时,可达到前后、上下、左右和旋转角度的调整。这种调整结构复杂,体积较大,角度调整仅限于水平方向的调整,竖直方向角度无法调节,不能适应于物面中心位置偏差的补偿,且调整不方便。
技术实现思路
为解决现有技术存在的上述问题,本专利技术的目的在于提供一种结构紧-->凑,调节方便,可实现沿调节方向的水平移动和水平与竖直两个方向转动的投影系统中的调整装置。为达到上述目的,本专利技术采用的技术方案是:该一种投影系统中的调整装置,具有一基座,在基座的上方设有调节座,调节座上方设有承载座,其特征在于:所述基座上设有水平调节机构,基座和调节座上设有调节座相对基座水平转动的水平转动调节机构,承载座的一端铰接在调节座上,承载座的另一 ...
【技术保护点】
一种投影系统中的调整装置,具有一基座,在基座的上方设有调节座,调节座上方设有承载座,其特征在于:所述基座上设有水平调节机构,基座和调节座上设有调节座相对基座水平转动的水平转动调节机构,承载座的一端铰接在调节座上,承载座的另一端设有承载座相对于调节座竖直方向转动的竖直转动调节机构。
【技术特征摘要】
1.一种投影系统中的调整装置,具有一基座,在基座的上方设有调节座,调节座上方设有承载座,其特征在于:所述基座上设有水平调节机构,基座和调节座上设有调节座相对基座水平转动的水平转动调节机构,承载座的一端铰接在调节座上,承载座的另一端设有承载座相对于调节座竖直方向转动的竖直转动调节机构。2.根据权利要求1所述的一种投影系统中的调整装置,其特征在于:所述水平调节机构为在基座上沿调节方向设置的腰形孔,基座由螺钉通过腰形孔固定在投影系统的机体上;所述水平转动调节机构具有在基座的一侧设置的转轴,调节座上具有与基座转轴相配合的转孔,调节座通过转孔套装在基座的转轴上,调节座上设有以转孔为中心的圆弧槽,螺钉通过圆弧槽固定在基座上;所述竖...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭瑞,王双礼,胡冬梅,
申请(专利权)人:河南南方辉煌图像信息技术有限公司,
类型:发明
国别省市:41[中国|河南]
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