一种反应条件可控的CVD反应腔装置制造方法及图纸

技术编号:27250481 阅读:34 留言:0更新日期:2021-02-04 12:27
本实用新型专利技术涉及CVD反应腔装置技术领域,尤其涉及一种反应条件可控的CVD反应腔装置,解决现有技术中存在的缺点,包括底座和顶板,所述底座的顶部分别通过螺栓固定有支脚和侧板,所述支脚的顶部固定连接有反应腔,所述反应腔的底部滑动设置有顶杆,顶杆的顶部通过螺栓固定连接有安装板,通过伺服电机、驱动齿轮、从动齿轮、刻度表、顶杆等结构的设置,针对不同的沉积材料,可以利用伺服电机来带动升降块移动,经连杆机构带动顶杆推动来改变加热器与样片之间的距离,从而可对加热时间和温度高低进行选取调控,进而确保样片在最佳的反应加热时间内完成沉积处理,提升了沉积的质量,具有较强的实用性。强的实用性。强的实用性。

【技术实现步骤摘要】
一种反应条件可控的CVD反应腔装置


[0001]本技术涉及CVD反应腔装置
,尤其涉及一种反应条件可控的CVD反应腔装置。

技术介绍

[0002]化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物,也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素间化合物,而且它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。
[0003]现有技术中反应腔内的加热器都是固定的,针对不用的沉积材料使用时,由于沉积反应的温度条件不同,故不能对反应的加热时间和在该时间段内的温度高低同时进行选取调控,进而会影响到材料的沉积质量,存在一定的局限性。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种反应条件可控的CVD反应腔装置。
[0005]为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:
[0006]一种反应条件可控的CVD反应腔装置,包括底座和顶板,所述底座的顶部分别通过螺栓固定有支脚和侧板,所述支脚的顶部固定连接有反应腔,所述反应腔的底部滑动设置有顶杆,顶杆的顶部通过螺栓固定连接有安装板,所述安装板的顶部通过螺丝固定安装有呈阵列分布的加热器,且反应腔的内壁焊接有载物板,所述载物板的顶部放置有若干个样片;
[0007]所述侧板的一侧通过螺栓固定有电机安装板,电机安装板的底部通过螺丝固定安装有伺服电机,所述伺服电机的输出端通过联轴器连接有转轴,所述转轴的外部套设有驱动齿轮,所述驱动齿轮啮合连接有从动齿轮,所述从动齿轮的内部套设有螺纹杆,所述螺纹杆上螺纹连接有升降块,所述升降块的两侧分别焊接有指示针和连接板,连接板的底部通过螺钉固定有推杆,所述推杆的另一端活动铰接有摆杆,摆杆的另一端活动铰接有转动杆,所述转动杆的另一端与所述顶杆的底端活动铰接。
[0008]优选的,所述顶板上通过法兰盘固定连接有进气管,且顶板的底部通过螺丝固定安装有喷头,进气管与所述喷头固定连接。
[0009]优选的,所述电机安装板的顶部和侧板的一侧分别安装有第一轴承和第二轴承,所述螺纹杆的两端分别套设在所述第一轴承和第二轴承的内部。
[0010]优选的,所述升降块上开设有螺孔,所述螺纹杆螺纹连接在螺孔的内部。
[0011]优选的,所述侧板的一侧设有与所述指示针相匹配的刻度表。
[0012]优选的,所述反应腔的一侧焊接有导向板,导向板的内部开设有导向孔,所述推杆嵌入在所述导向孔的内部,且推杆的外部套设有弹簧,弹簧的两端分别通过卡扣与所述连接板的底部和导向板的顶部固定连接。
[0013]优选的,所述反应腔的一侧的开设有滑槽,所述连接板与滑槽的内部滑动连接。
[0014]优选的,所述反应腔的底部开设有滑孔,所述顶杆与滑孔的内部滑动连接。
[0015]优选的,所述反应腔的底部一侧焊接有支撑板,所述转动杆与支撑板的一侧活动铰接。
[0016]本技术的有益效果是:与现有技术相比较,本技术结构简单、设计合理,通过伺服电机、驱动齿轮、从动齿轮、刻度表、顶杆等结构的设置,针对不同的沉积材料,可以利用伺服电机来带动升降块移动,经连杆机构带动顶杆推动来改变加热器与样片之间的距离,从而可对加热时间和温度高低进行选取调控,进而确保样片在最佳的反应加热时间内完成沉积处理,提升了沉积的质量,具有较强的实用性。
附图说明
[0017]图1为本技术提出的一种反应条件可控的CVD反应腔装置的主视图;
[0018]图2为本技术提出的升降机构的结构示意图;
[0019]图3为本技术提出的安装板的俯视图。
[0020]图中:1底座、2支脚、3侧板、4顶板、5反应腔、6安装板、7加热器、8载物板、9样片、10喷头、11进气管、12顶杆、13转动杆、14支撑板、15摆杆、16导向板、17推杆、18伺服电机、19弹簧、20刻度表、21螺纹杆、22升降块、23连接板、24指示针、25驱动齿轮、26电机安装板、27从动齿轮。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。
[0022]参照图1-3,一种反应条件可控的CVD反应腔装置,包括底座1和顶板4,所述底座1的顶部分别通过螺栓固定有支脚2和侧板3,支脚2的顶部固定连接有反应腔5,反应腔5的底部滑动设置有顶杆12,顶杆12的顶部通过螺栓固定连接有安装板6,安装板6的顶部通过螺丝固定安装有呈阵列分布的加热器7,且反应腔5的内壁焊接有载物板8,载物板8的顶部放置有若干个样片9;侧板3的一侧通过螺栓固定有电机安装板26,电机安装板26的底部通过螺丝固定安装有伺服电机18,伺服电机18的输出端通过联轴器连接有转轴,转轴的外部套设有驱动齿轮25,驱动齿轮25啮合连接有从动齿轮27,从动齿轮27的内部套设有螺纹杆21,螺纹杆21上螺纹连接有升降块22,升降块22的两侧分别焊接有指示针24和连接板23,连接板23的底部通过螺钉固定有推杆17,推杆17的另一端活动铰接有摆杆15,摆杆15的另一端活动铰接有转动杆13,转动杆13的另一端与顶杆12的底端活动铰接,通过伺服电机18、驱动齿轮25、从动齿轮27、刻度表20、顶杆12等结构的设置,针对不同的沉积材料,可以利用伺服电机18来带动升降块22移动,经连杆机构带动顶杆12推动来改变加热器7与样片之间的距
离,从而可对加热时间和温度高低进行选取调控,进而确保样片9在最佳的反应加热时间内完成沉积处理,提升了沉积的质量,具有较强的实用性,顶板4上通过法兰盘固定连接有进气管11,且顶板4的底部通过螺丝固定安装有喷头10,进气管11与喷头10固定连接,电机安装板26的顶部和侧板3的一侧分别安装有第一轴承和第二轴承,螺纹杆21的两端分别套设在第一轴承和第二轴承的内部,升降块22上开设有螺孔,螺纹杆21螺纹连接在螺孔的内部,侧板3的一侧设有与指示针24相匹配的刻度表20,反应腔5的一侧焊接有导向板16,导向板16的内部开设有导向孔,推杆17嵌入在导向孔的内部,且推杆17的外部套设有弹簧19,弹簧19的两端分别通过卡扣与连接板23的底部和导向板16的顶部固定连接,反应腔5的一侧的开设有滑槽,连接板23与滑槽的内部滑动连接,反应腔5的底部开设有滑孔,顶杆12与滑孔的内部滑动连接,反应腔5的底部一侧焊接有支撑板14,转动杆13与支撑板14的一侧活动铰接。
[0023]本实施例中,设备在使用时,反应腔5内部首先由真空泵和管道将内部抽至真空状态,根据沉积材料和样片9的材质使用者本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反应条件可控的CVD反应腔装置,包括底座(1)和顶板(4),其特征在于,所述底座(1)的顶部分别通过螺栓固定有支脚(2)和侧板(3),所述支脚(2)的顶部固定连接有反应腔(5),所述反应腔(5)的底部滑动设置有顶杆(12),顶杆(12)的顶部通过螺栓固定连接有安装板(6),所述安装板(6)的顶部通过螺丝固定安装有呈阵列分布的加热器(7),且反应腔(5)的内壁焊接有载物板(8),所述载物板(8)的顶部放置有若干个样片(9);所述侧板(3)的一侧通过螺栓固定有电机安装板(26),电机安装板(26)的底部通过螺丝固定安装有伺服电机(18),所述伺服电机(18)的输出端通过联轴器连接有转轴,所述转轴的外部套设有驱动齿轮(25),所述驱动齿轮(25)啮合连接有从动齿轮(27),所述从动齿轮(27)的内部套设有螺纹杆(21),所述螺纹杆(21)上螺纹连接有升降块(22),所述升降块(22)的两侧分别焊接有指示针(24)和连接板(23),连接板(23)的底部通过螺钉固定有推杆(17),所述推杆(17)的另一端活动铰接有摆杆(15),摆杆(15)的另一端活动铰接有转动杆(13),所述转动杆(13)的另一端与所述顶杆(12)的底端活动铰接。2.根据权利要求1所述的一种反应条件可控的CVD反应腔装置,其特征在于,所述顶板(4)上通过法兰盘固定连接有进气管(11),且顶板(4)的底部通过螺丝固定安装有喷头(10),进气管(11)与所述喷头(10)固定连接。3.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱双林李春敏马国忠胡人文王恩强黄道平沈伟
申请(专利权)人:苏州索科特新材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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