本发明专利技术公开了一种阻垢装置、烹饪设备及其控制方法，该阻垢装置包括外壳，所述外壳的两端分别设有进水口和出水口，所述进水口和所述出水口上均设有水管接头，还包括：第一滤网，其固定设置在所述外壳内并位于所述进水口下侧；活动模块，其活动设置在所述外壳内并位于所述出水口一侧，所述活动模块可沿进水口或出水口方向移动；第二滤网，其固定设置在所述活动模块上；阻垢颗粒，其设置在所述第一滤网与所述第二滤网之间；电感弹簧，其设置在第二滤网与所述外壳靠近所述出水口的一侧之间；控制器,其包括电感检测模块，所述电感检测模块与所述电感弹簧电连接，通过电感检测模块检测电感变化量来识别阻垢颗粒状态，并且提示用户及时添加阻垢颗粒。加阻垢颗粒。加阻垢颗粒。
【技术实现步骤摘要】
一种阻垢装置、烹饪设备及其控制方法
[0001]本专利技术涉及厨房电器
，特别涉及一种阻垢装置、烹饪设备及其控制方法。
技术介绍
[0002]目前，烹饪设备如：蒸箱或蒸烤箱产品通过蒸发器加热后产生蒸汽后进去腔体对食物进行烹饪，但长期使用蒸发器底部会出现水垢，其水垢厚度随时间和使用频率增加不但影响加热效率，同时也具有健康隐患。水垢主要是由水中金属离子与成垢阴离子结合而生成的难溶盐。包括钙盐、磷盐、镁盐、钡盐等，其中钙盐是日常生活最常见的难溶盐，碳酸钙是其中分布最为广泛的水垢。其中六方碳酸石、文石和方解石属三方晶系，是在热力学理论当中较为稳定的结构，也是在水中经过不同过程最终稳定的产物。而晶体生长需具备特定的活性中心，即活性生长点。当这些中心吸附上聚合物阻垢剂大分子时，晶体就会大大减少增长的速度，甚至停止增长。结垢的过程实际是难溶盐离子在水中由晶核慢慢成长为晶体的过程，抑制结垢就是破坏晶体的结晶过程。
[0003]传统的阻垢技术是通过软水来实现的，通过降低水中的钙、镁等离子的浓度而使得水的总硬度降低起到阻垢的目的，需要通过专门的软水剂工作时往往有废水产生，且作用时间长有效组分的浓度衰减快，需要进行适时检测后对其及时的补充更新，显著影响了用户体验。新型阻垢技术通过阻垢颗粒缓释出活性因子通过弱电作用干扰阴、阳离子的成核过程，使其晶核发生畸变，从而大大降低了水垢晶体形成的概率。较低的缓释浓度即可达到高的阻垢效率，每吨水中只需0.5克的有效含量就可以达到阻垢率95％以上。但由于该技术没有降低水中的钙镁离子的浓度，现有的检测技术无法识别其失效模式，因此无法提醒用户添加阻垢颗粒，给用户的使用带来不便。
技术实现思路
[0004]本专利技术旨在至少在一定程度上解决现有相关技术中存在的问题之一，为此，本专利技术提供一种阻垢装置、烹饪设备及其控制方法。
[0005]一种阻垢装置，包括外壳，所述外壳的两端分别设有进水口和出水口，所述进水口和所述出水口上均设有水管接头，还包括：
[0006]第一滤网，其固定设置在所述外壳内并位于所述进水口下侧；
[0007]活动模块，其活动设置在所述外壳内并位于所述出水口一侧，所述活动模块可沿进水口或出水口方向移动；
[0008]第二滤网，其固定设置在所述活动模块上；
[0009]阻垢颗粒，其设置在所述第一滤网与所述第二滤网之间；
[0010]电感弹簧，其设置在第二滤网与所述外壳靠近所述出水口的一侧之间；
[0011]控制器,其包括电感检测模块，所述电感检测模块与所述电感弹簧电连接。
[0012]进一步地，所述活动模块包括分别设置在所述外壳内部两侧的导向槽，以及设置在所述导向槽内的移动块，所述第二滤网设置在两所述移动块之间。
[0013]进一步地，所述阻垢颗粒为聚合物成分，至少包括强酸性基团-SO3H、弱酸性基团-COOH、羟基-OH中的一种。
[0014]进一步地，所述第一滤网与所述第二滤网的孔径均大于50目。
[0015]进一步地，所述第一滤网的孔径大于所述第二滤网的孔径。
[0016]进一步地，在所述外壳上设有可观察所述阻垢颗粒的透明视窗，在所述透明视窗设有投料口。
[0017]进一步地，所述投料口上通过导管连接有自动投料盒。
[0018]一种烹饪设备，包括通过管路依次连通的腔体、蒸发器、水泵以及储水箱，所述储水箱与所述水泵之间的管路上连通有如上所述的阻垢装置，所述储水箱的出水高度高于所述阻垢装置的进水高度。
[0019]一种如上所述的烹饪设备的控制方法，包括如下步骤：
[0020]S1：在蒸模式、蒸烤模式烹饪前或结束后启动所述水泵将所述阻垢装置内的水排出；
[0021]S2：启动电感检测模块；
[0022]S3：根据电感检测模块检测的电感变化量ΔL是否超过预设限值，若否，则返回步骤S1；若是，则通过所述控制器发出提示信号或控制自动投料盒添加阻垢颗粒到达设定量；
[0023]S4：检测当前电感值L1，并根据预设限值计算下一次需要添加阻垢颗粒时的电感值L2。
[0024]进一步地，所述电感值的计算公式为：
[0025]L＝NΦ/I,其中L为电感，N为匝数，Φ为磁通量，I为电流；
[0026]Φ＝μNIS/l,其中μ为磁导率，S为磁路截面积，l为磁路总长度。
[0027]与现有技术相比，本专利技术的至少包括以下有益效果：
[0028]本专利技术中电感弹簧顶压第二滤网，当第一滤网与第二滤网之间的阻垢颗粒减少的时候，电感弹簧由压缩状态变为伸长状态，此时电感值变少，当超过了预设限值，则提示用户需添加阻垢颗粒或通过自动投料盒添加阻垢颗粒到达设定量，该方式能够提醒用户及时补充阻垢颗粒，以使阻垢装置运作稳定。
附图说明
[0029]图1为本专利技术一种阻垢装置的结构示意图(未出示自动投料盒)；
[0030]图2为本专利技术一种烹饪设备的部分立体示意图；
[0031]图3为本专利技术一种烹饪设备的控制方法的流程图。
具体实施方式
[0032]为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都应当属于本专利技术请求保护的技术方案范围。
[0033]如图1-3所示，一种阻垢装置，包括外壳1，所述外壳1的两端分别设有进水口10和
出水口11，所述进水口10和所述出水口11上均设有水管接头，还包括：
[0034]第一滤网2，其固定设置在所述外壳1内并位于所述进水口10下侧；
[0035]活动模块3，其活动设置在所述外壳1内并位于所述出水口11一侧，所述活动模块3可沿进水口10或出水口11方向移动；
[0036]第二滤网4，其固定设置在所述活动模块3上；
[0037]阻垢颗粒5，其设置在所述第一滤网2与所述第二滤网4之间；
[0038]电感弹簧6，其设置在第二滤网4与所述外壳1靠近所述出水口11的一侧之间；
[0039]控制器,其包括电感检测模块，所述电感检测模块与所述电感弹簧6电连接。
[0040]所述电感弹簧6顶压第二滤网4，当第一滤网2与第二滤网4之间的阻垢颗粒5减少的时候，电感弹簧6由压缩状态变为伸长状态，此时电感值变少，当超过了预设限值，则提示用户需添加阻垢颗粒或通过自动投料盒添加阻垢颗粒到达设定量，该方式能够提醒用户及时补充阻垢颗粒，以使阻垢装置运作稳定。
[0041]本专利技术所述活动模块3包括分别设置在所述外壳1内部两侧的导向槽30，以及设置在所述导向槽30内的移动块31，所述第二滤网4设置在两所述移动块31之间，通过电感弹簧6顶压第二滤网4，当阻垢颗粒5减少的时候，移动块31在电感弹簧6的作用下沿着导向槽30向本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种阻垢装置，包括外壳(1)，所述外壳(1)的两端分别设有进水口(10)和出水口(11)，所述进水口(10)和所述出水口(11)上均设有水管接头，其特征在于，还包括：第一滤网(2)，其固定设置在所述外壳(1)内并位于所述进水口(10)下侧；活动模块(3)，其活动设置在所述外壳(1)内并位于所述出水口(11)一侧，所述活动模块(3)可沿进水口(10)或出水口(11)方向移动；第二滤网(4)，其固定设置在所述活动模块(3)上；阻垢颗粒(5)，其设置在所述第一滤网(2)与所述第二滤网(4)之间；电感弹簧(6)，其设置在第二滤网(4)与所述外壳(1)靠近所述出水口(11)的一侧之间；控制器,其包括电感检测模块，所述电感检测模块与所述电感弹簧(6)电连接。2.根据权利要求1所述的阻垢装置，其特征在于，所述活动模块(3)包括分别设置在所述外壳(1)内部两侧的导向槽(30)，以及设置在所述导向槽(30)内的移动块(31)，所述第二滤网(4)设置在两所述移动块(31)之间。3.根据权利要求1所述的阻垢装置，其特征在于，所述阻垢颗粒(5)为聚合物成分，至少包括强酸性基团-SO3H、弱酸性基团-COOH、羟基-OH中的一种。4.根据权利要求1所述的阻垢装置，其特征在于，所述第一滤网(2)与所述第二滤网(4)的孔径均大于50目。5.根据权利要求4所述的阻垢装置，其特征在于，所述第一滤网(2)的...
【专利技术属性】
技术研发人员：王琦，高宁，彭锦宇，潘叶江，
申请(专利权)人：华帝股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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