嵌段共聚物及其制造方法、嵌段共聚物氢化物、聚合物组合物以及成型体技术

本发明专利技术提供一种可以成为嵌段共聚物氢化物前体的嵌段共聚物。嵌段共聚物包含聚合物嵌段[A]和[B]。聚合物嵌段[A]包含至少具有2个选自芳香族烃单环和芳香族杂单环中的单环的多环芳香族乙烯基单体单元。嵌段共聚物中的1,2

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】嵌段共聚物及其制造方法、嵌段共聚物氢化物、聚合物组合物以及成型体


[0001]本专利技术涉及嵌段共聚物及其制造方法、嵌段共聚物氢化物、聚合物组合物以及成型体。

技术介绍

[0002]近年来，作为可以用于形成光学膜等的光学特性优异的材料，将如下的嵌段共聚物进行加氢而得到的氢化嵌段共聚物备受瞩目，该嵌段共聚物具有由乙烯基萘等具有2个以上芳香族烃单环的单体单元构成的聚合物嵌段和由脂肪族共轭二烯单体单元构成的聚合物嵌段。
[0003]而且，在专利文献1中，公开了通过对将特定的乙烯基萘类与特定的二烯类进行共聚反应而得到的A-B-A型三嵌段共聚物进行利用了金属催化剂的加氢、得到氢化嵌段共聚物的方法；以及由该氢化嵌段共聚物形成的光学膜。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2006-111650号公报。

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]然而，专利文献1中公开的将A-B-A型三嵌段共聚物加氢而成的氢化嵌段共聚物在加氢反应通常所使用的有机溶剂中的溶解性低。因此，在专利文献1公开的技术中存在着加氢反应结束后氢化嵌段共聚物从加氢反应使用的有机溶剂中析出、在制造工艺上难以处理的问题。
[0009]因此，本专利技术的目的在于提供一种氢化嵌段共聚物，该氢化嵌段共聚物是将包含具有2个以上芳香族烃单环的单体单元和脂肪族共轭二烯单体单元的嵌段共聚物进行加氢而得到的，本专利技术的目的还在于提供一种用于得到加氢反应后容易处理的嵌段共聚物氢化物的技术。
[0010]用于解决问题的方案
[0011]本专利技术人为了实现上述目的而进行了深入研究。然后本专利技术人构想通过使用包含含有特定单体单元的聚合物嵌段、且1,2-乙烯基键的含有比例在规定的范围内的嵌段共聚物作为加氢反应的前体，能够得到对有机溶剂的溶解性高的嵌段共聚物氢化物。然后，本专利技术人发现如果在能够调节嵌段共聚物中的1,2-乙烯基键的含有比例的化合物的存在下，将至少具有2个芳香族烃单环的芳香族乙烯基化合物与脂肪族共轭二烯化合物进行嵌段共聚来得到嵌段共聚物，则可以成为对有机溶剂的溶解性高的嵌段共聚物氢化物的前体，以此完成了本专利技术。
[0012]即，本专利技术的目的在于有利地解决上述问题，本专利技术的嵌段共聚物的特征在于，包
含以来自芳香族乙烯基化合物的结构单元为主成分的聚合物嵌段[A]和以来自脂肪族共轭二烯化合物的结构单元为主成分的聚合物嵌段[B]，上述聚合物嵌段[A]包含多环芳香族乙烯基单体单元，上述多环芳香族乙烯基单体单元至少具有2个选自芳香族烃单环和芳香族杂单环中的单环，上述嵌段共聚物中的1,2-乙烯基键的含有比例与1,4-乙烯基的含有比例的质量比(1,2-乙烯基键/1,4-乙烯基键)为5/95以上且90/10以下。像这样，如果使嵌段共聚物的聚合物嵌段[A]包含特定的多环芳香族乙烯基单体单元、且嵌段共聚物中的1,2-乙烯基键的含有比例和1,4-乙烯基键的含有比例为特定值，则能够提供该嵌段共聚物作为对有机溶剂的溶解性高的嵌段共聚物氢化物的前体。另外，在本专利技术中，1,2-乙烯基键的含有比例和1,4-乙烯基键的含有比例能够使用1H-NMR进行测定。
[0013]在此，在本专利技术的嵌段共聚物中，嵌段共聚物中的上述来自芳香族乙烯基化合物的结构单元的含有比例优选为5质量％以上且95质量％以下。这是因为如果嵌段共聚物中的来自芳香族乙烯基化合物的结构单元的含有比例在上述下限值以上，则嵌段共聚物的机械强度稳定。此外，还是因为如果嵌段共聚物中的来自芳香族乙烯基化合物的结构单元的含有比例在上述上限值以下，则能够提高将该嵌段共聚物进行加氢而形成的嵌段共聚物氢化物对有机溶剂的溶解性。
[0014]此外，在本专利技术的嵌段共聚物中，嵌段共聚物中的上述来自脂肪族共轭二烯化合物的结构单元的含有比例优选为5质量％以上且95质量％以下。这是因为如果嵌段共聚物中的来自脂肪族共轭二烯化合物的结构单元的含有比例在上述下限值以上，则能够进一步提高将该嵌段共聚物进行加氢而形成的嵌段共聚物氢化物对有机溶剂的溶解性。此外，还是因为如果嵌段共聚物中的来自脂肪族共轭二烯化合物的结构单元的含有比例在上述上限值以下，则该嵌段共聚物的机械强度提高。
[0015]另外，在本专利技术中，结构单元的含有比例能够使用1H-NMR进行测定。
[0016]进而，本专利技术的目的在于有利地解决上述问题，本专利技术的嵌段共聚物氢化物的特征在于，是将上述嵌段共聚物进行加氢而形成的嵌段共聚物氢化物。这是因为如果是将本专利技术的嵌段共聚物进行加氢而形成的嵌段共聚物氢化物，则能够提供对有机溶剂的溶解性高的嵌段共聚物氢化物。
[0017]此外，本专利技术的目的在于有利地解决上述问题，本专利技术的聚合物组合物的特征在于包含上述嵌段共聚物氢化物。如果是包含本专利技术的嵌段共聚物氢化物的聚合物组合物，则能够提供能够优选用于各种用途优选的聚合物组合物。
[0018]进而，本专利技术的目的在于有利地解决上述问题，本专利技术的成型体的特征在于，是将上述聚合物组合物进行成型而成的。将本专利技术的聚合物组合物进行成型而成的成型体能够优选用作例如光学膜等光学部件。
[0019]而且，本专利技术的目的在于有利地解决上述问题，本专利技术的嵌段共聚物的制造方法的特征在于，包含在无规化剂的存在下、使芳香族乙烯基化合物与脂肪族共轭二烯化合物进行嵌段共聚的聚合工序，上述芳香族乙烯基化合物包含多环芳香族乙烯基化合物，上述多环芳香族乙烯基化合物至少具有2个选自芳香族烃单环和芳香族杂单环中的单环。根据本专利技术的嵌段共聚物的制造方法，能够有效地制造本专利技术的嵌段共聚物。
[0020]此外，在本专利技术的嵌段共聚物的制造方法中，上述无规化剂的使用量相对于1mol的聚合催化剂优选为0.01mol以上且10mol以下。这是因为如果无规化剂的使用量为上述下
限值以上，则能够增加得到的嵌段共聚物中的1,2-乙烯基键的量。此外，还是因为如果无规化剂的使用量为上述上限值以下，则能够增加得到的三嵌段共聚物的比例。
[0021]专利技术效果
[0022]根据本专利技术，能够提供一种对有机溶剂的溶解性高、由此可以成为加氢反应后容易处理的嵌段共聚物氢化物的前体的嵌段共聚物及其制造方法。此外，根据本专利技术，能够提供一种加氢反应后容易处理的嵌段共聚物氢化物和包含它的聚合物组合物。进而，根据本专利技术，能够提供一种将本专利技术的聚合物组合物进行成型而成的成型体。
具体实施方式
[0023]以下，对本专利技术的实施方式进行详细说明。
[0024]在此，本专利技术的嵌段共聚物能够用作用于制造本专利技术的嵌段共聚物氢化物的前体。而且，包含本专利技术的嵌段共聚物氢化物的聚合物组合物能够用于成型成例如光学膜等成型体。进而，根据本专利技术的嵌段共聚物的制造方法，能够有效地制造本专利技术的嵌段共聚物。
[0025](嵌段共聚物)
[0026]本专利技术的嵌段共聚物包含聚合物嵌段[A]和聚合物嵌段[B]，可以任意地包含聚合物嵌段[C]。而且，在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种嵌段共聚物，包含以来自芳香族乙烯基化合物的结构单元为主成分的聚合物嵌段[A]和以来自脂肪族共轭二烯化合物的结构单元为主成分的聚合物嵌段[B]，所述聚合物嵌段[A]包含多环芳香族乙烯基单体单元，所述多环芳香族乙烯基单体单元至少具有2个选自芳香族烃单环和芳香族杂单环中的单环，所述嵌段共聚物中的1,2-乙烯基键的含有比例与1,4-乙烯基键的含有比例的质量比(1,2-乙烯基键/1,4-乙烯基键)为5/95以上且90/10以下。2.根据权利要求1所述的嵌段共聚物，其中，所述嵌段共聚物中的所述来自芳香族乙烯基化合物的结构单元的含有比例为5质量％以上且95质量％以下。3.根据权利要求1或2所述的嵌段共聚物，其中，所述嵌段共聚物中的所述来自脂肪族共轭二烯化合物的结构单元的含有比例为5质量％以上...

【专利技术属性】
技术研发人员：安祐辅，
申请(专利权)人：日本瑞翁株式会社，
类型：发明
国别省市：