一种氮化铝陶瓷基板的高效抛光设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种氮化铝陶瓷基板的高效抛光设备，包括壳体，壳体的内部上端固定安装有抛光室，抛光室的下端滑动安装有收料室，壳体的底侧外表面四角位置均固定安装有支撑架，支撑架的底侧外表面均固定安装有底座，底座的底侧表面面积大于支撑架的底侧表面面积，抛光室的底侧内表面滑动安装有固定架，固定架的左侧外表面中央位置固定安装有固定架拉手，固定架的顶侧外表面左端前侧和左端后侧均活动安装有第一活动件。本实用新型专利技术可以起到方便固定基板、便于对不同高度的基板进行调节抛光、双面抛光、降低了抛光过程中所可能产生的偏差、方便了抛光操作人员的使用和保证了最终的氮化铝陶瓷基板的抛光质量的作用。的氮化铝陶瓷基板的抛光质量的作用。的氮化铝陶瓷基板的抛光质量的作用。

【技术实现步骤摘要】
一种氮化铝陶瓷基板的高效抛光设备


[0001]本技术涉及氮化铝陶瓷基板加工设备
，具体是一种氮化铝陶瓷基板的高效抛光设备。

技术介绍

[0002]在2025中国制造的大背景下，我国半导体行业也迎来了强势的增长，在混合微电子领域中，广泛使用电气绝缘、机械强度都比较优良的氧化铝陶瓷基板作为安装半导体器件、制作无源元件用的基板。但是，随着电子设备仪器的小型轻量化，以及混合集成度大幅提高，使得基板上单位面积所需的散热量不断增大，特别是在大功率电路中更为显著。氧化铝陶瓷由于导热性相对较差，室温下导热率约为15-35W/(m
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K)，所以已经不足以适应超大功率的散热需求。这种情况下人们采用所谓复合结构基板，在高散热密度部分采用氧化铍陶瓷板或钼基板，其他部分仍然用的是氧化铝陶瓷基板，以适应高散热密度的要求。但是，复合结构基板在价格、电性能、热性能方面还不十分令人满意，于是迫切要求研制出适合于高集成度、高散热性混合集成电路用陶瓷基板。于是氮化铝陶瓷基板就应运而生了。氮化铝陶瓷基板是解决高散热密度问题的一种新型的，最适合于半导体芯片安装的陶瓷基板。氮化铝单晶的导热率约250W/(m
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K)，从理论上来讲，室温下氮化铝单晶的导热率可以达到320W/(m
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K)，所以氮化铝材料很适合用制造高散热基板，氮化铝陶瓷的化学稳定性对水、有机溶剂、碱很稳定，对酸有弱腐蚀现象。氮化铝陶瓷不仅可以和氧化铝陶瓷一样在生坯上加工通孔，而且还可以在烧成后进行激光打孔。总之，高导热性氮化铝陶瓷基板，在一些领域里可以替代氧化铝陶瓷基板。其中，对氮化铝陶瓷基板的生产加工过程中需要用到抛光设备，使氮化铝陶瓷基板的表面粗糙度降低，以获得光亮、平整的表面。
[0003]但是，现有技术中的氮化铝陶瓷基板的抛光设备，由于大多数是依靠人力对氮化铝陶瓷基板进行抛光，其中在抛光过程中，不便于调节，抛光时容易出现偏差，使用也不方便，导致影响最终的氮化铝陶瓷基板的抛光质量。

技术实现思路

[0004](一)技术问题
[0005]针对现有技术存在的不足，本技术提供一种氮化铝陶瓷基板的高效抛光设备，旨在解决现有技术中的氮化铝陶瓷基板的抛光设备在抛光作业时存在着由于大多数是依靠人力对氮化铝陶瓷基板进行抛光，其中在抛光过程中，不便于调节，抛光时容易出现偏差，使用也不方便，导致影响最终的氮化铝陶瓷基板的抛光质量的技术问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：该一种氮化铝陶瓷基板的高效抛光设备，包括壳体，所述壳体的内部上端固定安装有抛光室，所述抛光室的下端滑动安装有收料室，所述壳体的底侧外表面四角位置均固定安装有支撑架，所述支撑架的底侧外表面均固定安装有底座，所述底座的底侧表面面积大于所述支撑架的底侧表面面积，所
述抛光室的底侧内表面滑动安装有固定架，所述固定架的左侧外表面中央位置固定安装有固定架拉手，所述固定架的顶侧外表面左端前侧和左端后侧均活动安装有第一活动件，所述固定架的顶侧外表面右端前侧和右端后侧均活动安装有第二活动件，所述第一活动件和所述第二活动件均为可伸缩结构，所述第一活动件的右端转动安装有第一固定件，所述第二活动件的左端转动安装有第二固定件，所述固定架的顶侧外表面中央位置放置有氮化铝陶瓷基板，所述抛光室的顶侧内表面中央位置转动安装有抛光转轴，所述抛光转轴的底侧外表面固定安装有连接板，所述抛光室的前侧外表面左上端固定安装有第一开启按钮，所述第一开启按钮的底侧外表面固定连接有第一关闭按钮，所述抛光室的前侧外表面右上端固定安装有第二开启按钮，所述第二开启按钮的底侧外表面固定连接有第二关闭按钮，所述壳体的顶侧外表面固定安装有电机滑道，所述电机滑道的顶侧外表面中央位置滑动安装有电机箱，所述电机箱的内部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的下端转动安装有驱动轴，所述驱动轴的尾端贯穿通过于所述电机滑道的内部至所述抛光室的内部与所述抛光转轴的首端固定连接，所述电机箱的顶侧外表面中央位置固定安装有第三开启按钮，所述第三开启按钮的右侧外表面固定连接有第三关闭按钮。
[0008]优选地，所述固定架的内部开设有网孔，所述收料室的左侧外表面中央位置固定安装有收料室拉手。
[0009]优选地，所述连接板的底侧外表面在一个纵截面上固定安装有5个固定轴，所述固定轴的底侧外表面固定安装有抛光磨盘。
[0010]优选地，所述抛光转轴为可伸缩结构，所述第一开启按钮和所述第一关闭按钮通过与外界电源连通而控制所述抛光转轴的向下伸展和向上回缩。
[0011]优选地，所述第二开启按钮通过与外界电源连通而控制所述第一活动件、所述第二活动件的向上伸展和所述第一固定件、所述第二固定件的翻转。
[0012]优选地，所述第二关闭按钮通过与外界电源连通而控制所述第一固定件、所述第二固定件的翻转停止和所述第一活动件、所述第二活动件的向下回缩。
[0013]优选地，所述第三开启按钮和所述第三关闭按钮通过与外界电源连通而控制所述驱动电机在所述电机滑道内平移驱动与停止。
[0014](三)有益效果
[0015]该一种氮化铝陶瓷基板的高效抛光设备，通过设置有固定架、固定架拉手、第一活动件、第二活动件、第一固定件、第二固定件、抛光转轴、连接板、固定轴、抛光磨盘、第一开启按钮、第一关闭按钮、第二开启按钮、第二关闭按钮、电机滑道、电机箱、驱动电机、驱动轴、第三开启按钮和第三关闭按钮的共同作用，可以不仅实现机械化抛光，还可以方便固定住氮化铝陶瓷基板，便于对不同高度的氮化铝陶瓷基板进行同步调节抛光磨盘至氮化铝陶瓷基板表面的距离，以及可以对其进行翻转双面抛光，降低了抛光过程中所可能产生的偏差，而人力只需要控制住三项开关结构即可，方便了抛光操作人员的使用，保证了最终的氮化铝陶瓷基板的抛光质量。
附图说明
[0016]图1为本技术的结构示意图；
[0017]图2为本技术在氮化铝陶瓷基板正在翻转另一面准备进行抛光时的示意图；
[0018]图3为本技术的俯视图；
[0019]图4为本技术的左视图。
[0020]图中：1-壳体、2-抛光室、3-收料室、4-支撑架、5-底座、6-固定架、7-网孔、8-固定架拉手、9-第一活动件、10-第二活动件、11-第一固定件、12-第二固定件、13-氮化铝陶瓷基板、14-收料室拉手、15-抛光转轴、16-连接板、17-固定轴、18-抛光磨盘、19-第一开启按钮、20-第一关闭按钮、21-第二开启按钮、22-第二关闭按钮、23-电机滑道、24-电机箱、25-驱动电机、26-驱动轴、27-第三开启按钮、28-第三关闭按钮。
具体实施方式
[0021]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氮化铝陶瓷基板的高效抛光设备，其特征在于：包括壳体(1)，所述壳体(1)的内部上端固定安装有抛光室(2)，所述抛光室(2)的下端滑动安装有收料室(3)，所述壳体(1)的底侧外表面四角位置均固定安装有支撑架(4)，所述支撑架(4)的底侧外表面均固定安装有底座(5)，所述底座(5)的底侧表面面积大于所述支撑架(4)的底侧表面面积，所述抛光室(2)的底侧内表面滑动安装有固定架(6)，所述固定架(6)的左侧外表面中央位置固定安装有固定架拉手(8)，所述固定架(6)的顶侧外表面左端前侧和左端后侧均活动安装有第一活动件(9)，所述固定架(6)的顶侧外表面右端前侧和右端后侧均活动安装有第二活动件(10)，所述第一活动件(9)和所述第二活动件(10)均为可伸缩结构，所述第一活动件(9)的右端转动安装有第一固定件(11)，所述第二活动件(10)的左端转动安装有第二固定件(12)，所述固定架(6)的顶侧外表面中央位置放置有氮化铝陶瓷基板(13)，所述抛光室(2)的顶侧内表面中央位置转动安装有抛光转轴(15)，所述抛光转轴(15)的底侧外表面固定安装有连接板(16)，所述抛光室(2)的前侧外表面左上端固定安装有第一开启按钮(19)，所述第一开启按钮(19)的底侧外表面固定连接有第一关闭按钮(20)，所述抛光室(2)的前侧外表面右上端固定安装有第二开启按钮(21)，所述第二开启按钮(21)的底侧外表面固定连接有第二关闭按钮(22)，所述壳体(1)的顶侧外表面固定安装有电机滑道(23)，所述电机滑道(23)的顶侧外表面中央位置滑动安装有电机箱(24)，所述电机箱(24)的内部固定安装有驱动电机(25)，所述驱动电机(25)的下端转动安装有驱动轴(26)，所述驱动轴(26)的尾端贯穿通过于所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄会建，谌栋梁，
申请(专利权)人：江西创科新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：