光调制装置和使用该装置的投影型显示装置制造方法及图纸

按小于从对置基板４００的边缘至第一遮光部分３１的内周边缘的距离Ｗ１设定从对置基板４００的边缘至框架９１中的覆盖部分９５的内周边缘的距离Ｗ＃－［ｐ］（Ｗ＃－［ｐ］　＜Ｗ１）。因此，不必担心来自相对于覆盖部分９５的内周边缘从外侧（θ＃－［０］侧）入射的入射光被覆盖部分９５遮挡，使入射光可靠地入射在整个图象区域，因而可防止投影图象的周边部分变暗，提高投影图象的质量。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及配有液晶板等电光学装置的光调制装置和使用该装置的投影型显示装置。
技术介绍
作为用于投影型显示装置中的电光学装置的液晶板主要由形成有像素电极和像素转换元件的有源矩阵基板、形成有对置电极的对置基板和配置在有源矩阵基板与对置基板之间的液晶构成。在有源矩阵基板与对置基板之间，在用密封层划分的区域内填充液晶，在有源矩阵基板和对置基板之间对各像素控制取向状态。因此，在把这种结构的液晶板用作光调制装置的投影型显示装置中，利用聚焦光学系统对从光源射出的光进行聚焦，同时将其导向液晶板，利用液晶板对这种光进行光调制，然后利用投影透镜将预定的图象放大投影在屏幕等投影面上。以上那样构成的液晶板一般用设置了对应于像素区域的开口部的遮光性保持部件保持，但像素区域的轮廓一般由在有源矩阵基板和对置基板之间设置的Cr(铬)等周边可见的遮光部分限定。但是，在液晶板的光入射侧，由于形成保持部件的开口部边缘的覆盖部分与液晶板(对置基板)的光入射面相对，相对于遮光部分平面地重叠，所以从相对于覆盖部分内周边边缘从外侧入射的入射光因其入射角度会被覆盖部分遮挡，因而投影图象的周边部分会变暗，存在投影图象质量受损的情况。本专利技术的目的在于提供能够提高投影图象质量的光调制装置和使用该装置的投影型显示装置。专利技术的公开本专利技术的光调制装置包括电光学装置和保持该电光学装置的保持部件，其中电光学装置包括配置在光入射侧的第一透光性基板，配置在光射出侧的第二透光性基板，配置在第一、第二透光性基板的相对面之间的液晶，设置在第二透光性基板的光入射面周边的驱动电路，其特征在于，在电光学装置的第一、第二透光性基板之间设有规定图象区域的第一遮光部分，在保持部件中设有覆盖第一透光性基板的光入射面周边的覆盖部分，当从第一透光性基板的边缘至保持部件中覆盖部分的内周边缘的距离为Wp，从第一透光性基板的边缘至第一遮光部分的内周边缘的距离为W1时，按下式(1)表示的关系设定所述Wp、W1。Wp＜W1…(1)再有，此处的‘覆盖部分的内周边缘’是覆盖部分中最突向图象区域侧的部位，称为距第一透光性基板的光入射面最远的部位。此外，把距第一透光性基板边缘的距离称为沿第一透光性基板面方向的距离。在本专利技术中，由于将从第一透光性基板的边缘至覆盖部分的内周边缘距离Wp设定得小于从第一透光性基板的边缘至第一遮光部分的内周边缘的距离W1，所以不必担心覆盖部分的内周边缘超过第一遮光部分伸入图象区域内。因此，由于相对于覆盖部分的内周边缘，覆盖部分不能遮挡从外侧入射的入射光，入射光可可靠地入射在整个图象区域上，所以投影图象的周边部分不变暗，可提高投影图象的质量。此外，在本专利技术的光调制装置中，在射向电光学装置的入射光中，当相对于覆盖部分的内周边缘从内侧进入的入射光的入射角度为θi，相对于该覆盖部分的内周边缘从外侧进入的入射光的入射角度为θo，从覆盖部分的内周边缘至第一透光性基板的光入射面的距离为dp，第一透光性基板的厚度为d1，从第一透光性基板的边缘至第一遮光部分的外周边缘的距离为W1’，第一透光性基板的折射率为n1时，最好按下式(2)表示的关系设定Wp、W1、W1’。W1'+dptanθi+d1sinθin12-sin2θi...(2)]]>≤Wp≤W1-dptanθo-d1sinθon12-sin2θo]]>在用紫外线固化型密封材料密封第一透光性基板和第二透光性基板的情况下，在第一遮光部分的外侧必须预先保留第一透光性基板的透光性部分，但由于第一透光性基板的厚度为d1，所以仍从覆盖部分的内周边缘内侧入射的入射光，因其入射角度不会被保持部件的覆盖部分遮挡，因而存在穿过第一透光性基板的所述透光性部分从第一遮光部分的外周边缘漏出的情况。因此，该漏出的入射光照射设在第二透光性基板周边部分的驱动电路，成为驱动电路误动作的原因。但是，通过将距离Wp设定在按式(2)给出的范围内，就不必担心因来自入射角为θo的外侧入射光使投影图象质量的下降，此外来自入射角为θi的内侧的入射光不会从第一遮光部分的外周边缘漏出，因而不必担心第二透光性基板的周边部分的驱动电路被光照射。因此，在第一遮光部分的外侧即使形成透光部分，也可以防止驱动电路的误动作。再有，在本专利技术的光调制装置中，在第一透光性基板和覆盖部分之间设有第三透光性基板，在射向电光学装置的入射光内，当相对于覆盖部分的内周边缘从内侧进入的入射光的入射角度为θi，相对于该覆盖部分的内周边缘从外侧进入的入射光的入射角度为θo，从覆盖部分的内周边缘至第三透光性基板的光入射面的距离为dp’，第一透光性基板的厚度为d1，第三透光性基板的厚度为d2，从第一透光性基板的边缘至第一遮光部分的外周边缘的距离为W1’，第一透光性基板和第三透光性基板的各自折射率分别为n1、n2时，最好按下式(3)表示的关系设定所述Wp、W1、W1’。W1'+dp'tanθi+d1sinθin12-sin2θi+d2sinθin22-sin2θi]]>≤Wp≤W1-dp'tanθo-d1sinθon12-sin2θo-d2sinθon22-sin2θo...(3)]]>在这种情况下，通过将第三透光性基板作为防尘用透光性基板，在第一透光性基板的光入射面上防止附着灰尘和伤痕，因而不必担心这些灰尘和伤痕被放大投影。而且，此时在第三透光性基板和第一透光性基板之间设有第二遮光部分，从第一透光性基板的边缘至第二遮光部分的内周边缘的距离为W2，最好按下式(4)表示的关系设定Wp、W1、W2。Wp＜W2＜W1…(4)在这种情况下，由于在第一透光性基板和第三透光性基板之间设有第二遮光部分，将从第一透光性基板的边缘至第二遮光部分的内周边缘的距离W2设定在式(4)的范围内，所以用该第二遮光部分可以遮挡穿过覆盖部分内侧边缘的来自内侧的入射光。因此，在第一遮光部分中，不必考虑这种入射光，但由于与来自内侧的入射光有关，必须考虑通过第二遮光部分的内周边缘的入射光，所以将从第一透光性基板的边缘至第一遮光部分的外周边缘的距离W1’设定得更大。此外，当从第一透光性基板的边缘至第二遮光部分的外周边缘的距离为W2’时，最好按下式(5)、(6)表示的关系设定Wp、W1、W1’、W2、W2’。W2'+dp'tanθi+d2sinθin22-sin2θi...(5)]]>≤Wp≤W2-dp'tanθo-d2sinθon22-sin2θo]]>W1'+d1sinθin12-sin2θi≤W2≤W1-d1sinθ本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光调制装置，包括电光学装置和用于保持该电光学装置的保持部件，其中电光学装置包括配置在光入射侧的第一透光性基板，配置在光射出侧的第二透光性基板，配置在第一、第二透光性基板的相对面之间的电光学物质，设置在所述第二透光性基板的光入射面周边的驱动电路， 其特征在于，在所述电光学装置的第一、第二透光性基板之间设有规定图象区域的第一遮光部分，在所述保持部件中设有覆盖所述第一透光性基板的光入射面周边的覆盖部分，当从所述第一透光性基板的边缘至所述保持部件中所述覆盖部分的内周边缘的距离为Ｗ↓［ｐ］，从所述第一透光性基板的边缘至所述第一遮光部分的内周边缘的距离为Ｗ１时，所述Ｗ↓［ｐ］、Ｗ１的关系按下式表示： Ｗ↓［ｐ］＜Ｗ１。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：小川恭范，渡边信男，斋藤広美，户田茂生，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]