掩膜版、显示面板和显示设备制造技术

本申请公开了一种掩膜版、显示面板和显示设备。该掩膜版包括：掩膜版包括：透明基板；不透光膜层，该不透光膜层设置于透明基板上，不透光膜层中设置有多个第一透光区域和多个第二透光区域，第一透光区域中的第一子区域和第二透光区域为全透光区域，第一透光区域中的剩余区域为非全透光区域。该掩膜版被用于曝光形成显示面板的平坦层中的过孔，使设置于该过孔中的金属电极层与显示面板的源漏极层之间的夹角较小且多样化，降低了金属电极层的可视度，解决了显示面板黑态时，强光下发灰的现象。强光下发灰的现象。强光下发灰的现象。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版、显示面板和显示设备


[0001]本申请一般涉及显示
，具体涉及一种掩膜版、显示面板和显示设备。

技术介绍

[0002]在显示
，有机发光显示屏(英文：Organic Light Emitting Display，简称：OLED)具有有自发光、色彩丰富、宽视角和低功耗等优点，迎合了现代人们对显示技术的要求，成为显示
中的重点研究方向之一。
[0003]相关技术中，常用的显示面板至少包括依次叠加的基板、驱动功能膜层、显示功能膜层和薄膜封装层，其中，驱动功能膜层与显示功能膜层之间设置有平坦层，驱动功能膜层中间隔设置的源漏极层需要与构成显示功能膜层的多个子像素的金属电极层一一对应接触，以保证显示面板的显示功能的实现。
[0004]在显示面板的制作过程中，通过掩模(mask)工艺在平坦层上形成多个过孔以暴露源漏极层，在每个过孔中保形的形成与该过孔对应的子像素。由于该平坦层通常为有机膜层，形成过孔的平坦层边缘与源漏极层之间具有夹角，通常情况下，形成子像素的金属电极层材料具有较高的反射率，在显示面板处于非点亮状态，且周围环境光为高亮度光线时，金属电极层中与源漏极层具有夹角的部分会反射环境光，金属电极层的可视度高，人眼观察到的显示面板发灰。

技术实现思路

[0005]鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种可以改善显示面板黑态时，在强环境光下发灰的掩膜版、显示面板和显示设备。
[0006]第一方面，本申请提供了一种掩膜版，包括：
[0007]透明基板；r/>[0008]不透光膜层，不透光膜层设置于透明基板上，不透光膜层中设置有多个第一透光区域和多个第二透光区域，第一透光区域中的第一子区域和第二透光区域为全透光区域，第一透光区域中的剩余区域为非全透光区域；
[0009]第二方面，本申请提供了一种显示面板，包括：
[0010]基板；
[0011]驱动功能膜层，驱动功能膜层设置于基板上；
[0012]平坦层，平坦层设置于驱动功能膜层远离基板的一侧，平坦层上设置有多个过孔，用于暴露驱动功能膜层中间隔设置的源漏极层，多个过孔基于如第一方面的掩膜版刻蚀制成；
[0013]显示功能膜层，显示功能膜层设置于平坦层远离基板的一侧，显示功能膜层中每个子像素的第一金属电极层的部分区域保形的设置于对应的过孔中，使第一金属电极层与源漏极连接；
[0014]第三方面，本申请提供了一种显示装置，包括第二方面的显示面板，或者，显示装
置的显示面板中，用于暴露源漏极层的平坦层中的过孔基于如第一方面的掩膜版刻蚀形成。
[0015]本申请的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：
[0016]本申请实施例提供的掩膜版、显示面板和显示设备，掩膜版包括：透明基板；不透光膜层，该不透光膜层设置于透明基板上，不透光膜层中设置有多个第一透光区域和多个第二透光区域，第一透光区域中的第一子区域和第二透光区域为全透光区域，第一透光区域中的剩余区域为非全透光区域。该掩膜版被用于曝光形成显示面板的平坦层中的过孔，使设置于该过孔中的金属电极层与显示面板的源漏极层之间的夹角较小且多样化，降低金属电极层的可视度。
附图说明
[0017]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
[0018]图1为相关技术提供的一种显示面板的结构示意图；
[0019]图2为相关技术提供的一种显示面板反射环境光时的光路图；
[0020]图3为本申请实施例提供的一种掩膜版部分截面的结构示意图；
[0021]图4为本申请实施例提供的一种掩膜版的俯视结构示意图；
[0022]图5为本申请实施例提供的一种掩膜版中的第一透光区域的结构示意图；
[0023]图6为本申请实施例提供的另一种掩膜版中的第一透光区域的结构示意图；
[0024]图7为本申请实施例提供的另一种掩膜版部分截面的结构示意图；
[0025]图8为本申请实施例提供的另一种掩膜版的俯视结构示意图；
[0026]图9为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
[0027]图10为本申请实施例提供的一种显示面板的结构示意图。
具体实施方式
[0028]下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关专利技术，而非对该专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与专利技术相关的部分。
[0029]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
[0030]图1是相关技术中提供的一种显示面板中显示区域(AA区)的结构示意图，如图1所示，该显示面板包括依次叠加的基板110，设置于基板110上的驱动功能膜层120，设置于驱动功能膜层120远离基板一侧的平坦层130，设置于该平坦层130远离基板一侧的显示功能膜层140，该显示功能膜层包括多个子像素和与多个子像素同层设置的像素定义层142，可选的，请继续参考图1，该显示面板还包括设置于子像素远离基板110一侧的薄膜封装层150。
[0031]其中，该平坦层130上设置有多个过孔V，用于暴露该驱动功能膜层120中间隔设置的源漏极层(SD层)121，显示功能膜层140中构成子像素的第一金属电极层1411的部分区域保形的设置于每个过孔V中，该像素定义层142中设置有多个过孔，用于暴露每个第一金属
电极层1411，有机发光层1412和第二金属电极层1413依次设置于像素定义层中的过孔中，形成子像素，其中，该第一金属电极层可以为阳极层，该第二金属电极层可以为阴极层，且像素定义层中的过孔与平坦层中的过孔在基板上的投影不重叠。
[0032]在图1中示出的显示面板的制造过程中，平坦层中的过孔通过掩模工艺制成，其中，形成过孔的平坦层边缘与暴露于过孔中的源漏极层之间具有较大的夹角，且每个过孔边缘的夹角基本一致，导致过孔中的第一金属电极层也会存在与源漏极层之间具有较大夹角的部分。其中，掩膜工艺指的是采用掩膜版进行的光刻工艺(也称构图工艺或图形化工艺)，通常包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离过程，是显示面板制作过程中常用的膜层刻蚀工艺。
[0033]相关技术中，显示面板制造过程中用于制造第一金属电极层的材料通常为具有较大反射率的金属材料，如图2所示，在显示面板处于非点亮状态，且周围环境光为高亮度光线时，平坦层130的多个过孔中的第一金属电极层1411与源漏极层121具有较大夹角的部分会向一个方向反射环境光L，当该反射光进入人眼时，人眼观察到显示面板发灰，金属电极层的可视度高，出现不良。
[0034]本申请实施例提供一种掩膜版，在显示面板的制造过程中，该掩膜版200可以用于刻蚀驱动功能膜层与显示功能膜层之间的平坦层，形成用于暴露驱动功能膜层中间隔设置的源漏极层的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括：透明基板；不透光膜层，所述不透光膜层设置于所述透明基板上，所述不透光膜层中设置有多个第一透光区域和多个第二透光区域，所述第一透光区域中的第一子区域和所述第二透光区域为全透光区域，所述第一透光区域中的剩余区域为非全透光区域。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一透光区域中的剩余区域为包围所述第一子区域的第二子区域，所述第二子区域为半透光区域。3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第一透光区域中第一边缘线与第二边缘线之间的距离为0.5-3微米，所述第一边缘线为所述第二子区域与所述第一子区域的分界线，所述第二边缘线为所述第二子区域与所述不透光膜层的分界线。4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一透光区域中的剩余区域包括包围所述第一子区域的第三子区域，以及包围所述第三子区域的第四子区域，所述第三子区域为不透光区域，所述第四子区域为全透光区域。5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述第一透光区域中第三边缘线与第四边缘线的之间距离为0.5-2微米，所述第三边缘线为所述第三子区域与所述第一子区域的分界线，所述第四边缘线为所述第三子区域与所述第四子区域的分界线。6.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述第一透光区域中第四边缘线与第五边缘线之间的距离为0.5-2.5微米，所述第四边缘线为所述第三子区域与所述第四子...

【专利技术属性】
技术研发人员：高文辉，张锴，宋二龙，王领然，柳建杰，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：