薄膜的摩擦方法技术

技术编号:2716990 阅读:146 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种薄膜的摩擦方法,其特征为对薄膜表面实施第1阶段摩擦处理后,在第1阶段挤入量以下的条件对薄膜表面实施第2阶段摩擦处理。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及对制造光学元件等中所用的带状薄膜表面连续实施摩擦处理的方法。
技术介绍
在制造液晶显示装置以及该装置中使用的光学元件时,使用在一个方向上对薄膜表面实施了摩擦处理的基板薄膜。基板薄膜被广泛用于液晶元件中液晶分子的取向处理(参照特开平6-110059号公报)。另外,已知通过直接在基板薄膜上形成液晶性高分子层,或者将该液晶性高分子层转印到透光性基板薄膜上来制造改良视角的板、位相差板、色补偿板等的光学元件的方法(参照特开平7-113993号公报)。在对带状基板薄膜实施摩擦处理时,一般是在输送带状膜的同时,由旋转的摩擦辊实施。最终制品中的液晶分子或液晶性高分子的取向方向,多数是在相对于薄膜基板长度方向倾斜的方向上。在该情况下,为了提高制品的有效利用率并使生产性良好,为使摩擦方向相对于薄膜的长度方向倾斜,使摩擦辊的旋转轴向薄膜输送方向倾斜一角度,由此实施摩擦处理(参照特开平6-242316号公报)。在进行摩擦处理时,为保持液晶板或光学元件的质量以及提高有效利用率,在其前后除去薄膜基板上附着的灰尘或异物是重要的。对已实施了摩擦处理的玻璃基板采用湿式洗涤并干燥的方法(参照特开平4-221925号公报),但为带状薄膜时,除了灰尘和异物以外,作为影响品质维护和有效利用率的缺陷可举出摩擦不均。摩擦辊的直径和对基板薄膜的挤压力不恒定时,会产生摩擦不均现象。通过洗涤不能除去摩擦不均现象,优选在摩擦后对卷曲的带状薄膜进行洗涤、干燥。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种消除对带状膜实施摩擦处理过程中产生的摩擦不均的方法。同时还提供一种在摩擦处理前后除去薄膜上附着的异物和灰尘的方法。本专利技术第1方面涉及一种,其特征为在对薄膜表面实施第1阶段摩擦处理后,采用比第1阶段缓和的条件对该薄膜表面实施第2阶段摩擦处理。本专利技术第2方面涉及一种,其特征为在本专利技术第1或第2方面中,在第2阶段摩擦处理过程中摩擦辊是旋转的或停止的。附图的简单说明附图说明图1为在本专利技术摩擦处理方法中所用装置的简略图。专利技术的实施方式本专利技术的带状膜是对其表面实施摩擦处理或者对其表面上形成的取向膜实施摩擦处理的,只要该薄膜为可赋予液晶取向性能的材料,对其没有特别限制。取向基板用带状膜是由高分子材料形成的,也可以任意使用由高分子材料和其它材料(例如铜、不锈钢、钢等的金属箔等)构成的多层结构。取向基板用薄膜本身也可以为铜、不锈钢、钢等的金属箔。作为该材料优选为高分子材料,可以使用热固化树脂或热塑性树脂中的任何一种。例如可举出聚酰亚胺、环氧树脂、酚醛树脂等的热固化树脂;尼龙等的聚酰胺;聚醚酰亚胺;聚醚酮;聚醚醚酮(PEEK);聚酮;聚醚砜;聚苯撑硫醚;聚苯撑氧化物;聚对苯二甲酸乙烯酯、聚萘乙烯酯、聚对苯二甲酸丁烯酯等的聚酯;聚缩醛;聚碳酸酯;聚(甲基)丙烯酸酯;纤维素三醋酸酯等的纤维素类树脂;聚乙烯醇等的热塑性树脂等。在取向基板上形成取向膜或液晶性高分子膜时需要加热的情况下,如果考虑耐热性,更优选的是由聚对苯二甲酸乙烯酯、聚苯撑硫醚、PEEK、聚乙烯醇等的热塑性树脂形成的。这些材料为加热下也不会消除或降低摩擦处理效果的材料。作为构成薄膜表面取向膜的材料可使用各种材料,优选使用高分子化合物。例如聚酰亚胺薄膜、烷基链改性类的聚乙烯醇、聚乙烯丁缩醛树脂、聚甲基丙烯酸甲酯等。另外作为无机物,为SiO斜向蒸镀膜等的无机物斜向蒸镀膜。为聚酰亚胺的情况下,在涂布聚酰胺酸后以100℃到300℃的温度加热使其固化。可采用现有技术中公知的合适方法制造取向基板带状膜或其基膜。由热塑性树脂形成的带状膜可采用通常的T型模挤出法等的成形方法容易得到。带状膜的厚度可适宜地进行选择,例如可采用10μm~10mm的范围。合适的宽度通常在1~500cm的范围内进行选择。另外,为热塑性树脂时,可以是在不妨碍摩擦处理效果的范围内,由公知方法在单轴方向(优选在MD方向)或双轴方向适宜延伸形成的薄膜。以下根据附图进行说明。图1表示实施本专利技术装置的一种形式。从带状膜辊(图中未示出)送出的薄膜1经过一对输送辊(图中未示出)供给输送带2。输送带优选具有经过镜面加工的金属表面。为确保与薄膜的紧密性,优选镜面加工的程度为0.4S(JIS B0031-1982),更优选为0.1S。只要该带子有金属表面,则无需全部由金属制成,但考虑到为提高镜面精度和强度,优选其全部由金属制成。作为金属,可使用铜、不锈钢、钢等的各种材料。也可以实施镀硬铬等的表面处理。从强度、硬度、耐久性观点出发,优选不锈钢。另外根据本专利技术,为防止薄膜表面松弛,必须使输送带不松弛。因此优选输送带的张力为2~20kgf/mm2。更优选为2~12kgf/mm2。张力大小在该范围以外时难以输送,即使可暂时输送,也会产生取向不均等的质量下降问题,因此不优选。输送带2由支撑驱动辊3和4驱动,向薄膜1的前进方向转动。在将薄膜1提供给输送带2的位置处,由夹辊5和支撑驱动辊3挤压输送带2和薄膜1,将输送带和薄膜之间的空气排除,使二者紧密接触。夹辊的材料没有特别限制,但是为使薄膜与输送带贴紧,并在摩擦面上不产生擦伤,优选该材料为如丁腈橡胶那样的具有弹性的材料。输送带2的表面实施了镜面加工,而且张力非常高,因此薄膜1是以与输送带表面贴紧地方式输送的。如果如上所述在具有镜面加工过金属表面的输送带上使取向基板薄膜贴紧地连续实施摩擦处理,则即使摩擦辊轴相对于薄膜输送方向倾斜地实施斜向摩擦,也不会产生向薄膜宽度方向的错位和皱纹,并且可均匀稳定地、长时间连续地实施摩擦处理,因此优选。在第1摩擦辊6的外围面上设置有摩擦布等的摩擦材料。摩擦材料的材料和形状可根据实施摩擦处理的薄膜表面的材料适当地选择。一般可使用采用了人造丝、尼龙、棉等纤维的摩擦布。使摩擦辊的旋转轴可在相对于薄膜输送方向呈直角~倾斜的角度之间旋转。倾斜角度优选为例如从0°到45°。摩擦辊6在与薄膜输送方向相同方向或相反方向旋转,对薄膜表面连续地实施摩擦处理。可根据所要求的光学元件的性状和薄膜表面材料的种类等适当地设定摩擦处理的条件范围,通常是以0.5~100m/分,优选以1~30m/分的输送速度移动薄膜,摩擦辊的旋转线速度,以线速度比计,在1~1000、优选在5~200的范围内进行选择。摩擦压力为使摩擦材料与薄膜稍微相接的程度即可。摩擦布的毛尖挤入为100μm~5000μm,更优选挤入为100μm~2000μm左右。第2摩擦辊7与第1摩擦辊6一样,在其外围面上设置了摩擦布等的摩擦材料。与第1摩擦辊一样,可优选使用采用了人造丝、尼龙、棉等纤维的摩擦布。作为导电性纤维材料,可并用碳纤维。使摩擦辊7的中心轴可在相对于薄膜输送方向呈直角~倾斜的角度之间旋转。倾斜角度优选为例如从0°到45°。摩擦辊7在以除去摩擦不均为主要目的的情况下以及在以除去由于摩擦偶尔切削薄膜表面产生的异物、灰尘为主要目的的情况下,其操作条件优选适当地变更,另外,可改变摩擦材料的材料和形状。在以除去摩擦不均为主要目的的情况下,优选使摩擦辊7静止,或者以远比摩擦辊6低的线速度,例如1~3000m/分、更优选为1~1000m/分的速度进行操作。毛尖的挤入优选为0.1mm~10mm左右。另一方面,在以除去异物、灰尘为主要目的的情况下,优选使其旋转,旋转方向与薄膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:清原稔和平井知生福田靖
申请(专利权)人:新日本石油化学株式会社
类型:发明
国别省市:

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