【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种激光衰减器，特别是一种应用于各种激光科学实验和激光加工的激光功率衰减器。
技术介绍
在各种科学实验和激光加工的应用中，提出对激光功率的衰减可调的要求。在以往的应用中，有采用吸收型中性玻璃作为衰减片来实现对激光功率的衰减，然而在较高功率下却会漂白，而且不能连续可调；也有采用普通的介质膜来实现对激光功率的衰减，虽然功率衰减可以连续调节，而且也可以经受一定功率的辐照，但不适合较高功率的应用。
技术实现思路
如上所述，如何解决高破坏阈值的膜片设计选择，以及多余激光功率的吸收和散热，乃是本专利技术所要解决的技术问题，为此，本专利技术的目的在于提供一种应用于各种激光科学实验和激光加工的激光功率衰减器。本专利技术的技术解决方案如下根据本专利技术的激光衰减器，包括一个或一对镀有对入射角敏感的介质膜光学平板，介质膜设计为5°入射角时对入射激光反射最大，而在40°入射角时对入射激光透射最大，从而大大提高介质膜破坏阈值；在吸收反射光的部分采用石墨或陶瓷作为吸收材料，石墨或陶瓷的片状材料贴附在衰减器内壁；并视情况在衰减器外部装上金属散热片；所述介质膜光学平板对入射激光的入射角在5°～40°连续可调，并由一调节齿轮盘连续调节。本专利技术设计简单，适用于对激光的功率衰减和调节。附图说明图1为激光衰减器实施列的结构示意图。具体实施例方式根据图1给出本专利技术激光衰减器的一个较好实施例，如图所示，激光1进入衰减器2中，经一对介质膜片3、4后被反射损耗的激光5、6射到衰减内壁的吸收片7、8上，其转化成的热量主要通过散热片9、10排出。通过调节齿轮盘11、12调节介质膜片3、...
【技术保护点】
一种激光衰减器，包括在激光入射通路上设置有对入射角敏感的介质膜光学平板和在衰减器内壁贴附吸收反射激光的吸收材料，其特征在于：该介质膜光学平板设计成５°入射角时入射激光反射最大。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：叶震寰，楼祺洪，董景星，魏运荣，凌磊，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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