无机取向膜的形成方法、无机取向膜、电子设备用基板、液晶面板和电子仪器技术

一种无机取向膜、具有这种无机取向膜的电子设备用基板、液晶面板和电子仪器、以及这种无机取向膜的形成方法，本发明专利技术的无机取向膜的形成方法，是在基材上形成无机取向膜的方法，其特征在于，包括：第一研磨工序，对基材的形成了无机取向膜的面，从相对该面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θ↓［ａ］的方向照射离子束；成膜工序，在照射了离子束的基材上形成主要由无机材料构成的膜；第二研磨工序，从相对该表面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θ↓［ｂ］的方向向所述膜的表面照射离子束。根据本发明专利技术提供耐光性好、且可产生预倾角的无机取向膜。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及无机取向膜的形成方法、无机取向膜、电子设备用基板、液晶面板和电子仪器。
技术介绍
已知有在屏幕上投影图像的投影型显示装置。该投影型显示装置中，对该图像形成主要使用液晶面板。通常，为使液晶分子取向为一定方向，这种液晶面板具有设定成形成预定的预倾(pretilt)角的取向膜。制造这些取向膜的方法已知有用人造丝等布沿一个方向摩擦在基板上形成的由聚酰亚胺等的高分子化合物构成的薄膜的摩擦处理方法(例如，参照专利文献1)。但是，由聚酰亚胺等的高分子化合物构成的取向膜有时会因使用环境、使用时间等，产生光劣化。若产生了这种光劣化，取向膜、液晶层等的构成材料分解，该分解生成物有时会对液晶的性能等带来恶劣影响。另外，该摩擦处理中产生静电和尘埃，由此有可靠性等降低的问题。专利文献1特开平10-161133号公报(权利要求的范围)
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种耐光性好、且可以更可靠地控制预倾角的无机取向膜，提供一种具有这种无机取向膜的电子设备用基板、液晶面板和电子设备以及提供一种这种无机取向膜的形成方法。由下述的本专利技术来实现这种目的。本专利技术的无机取向膜的形成方法，是在基材上形成无机取向膜的方法，其特征在于，包括 第一研磨工序，向形成所述基材的无机取向膜的面，从相对该面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θa的方向上照射离子束；成膜工序，在照射了所述离子束的所述基材上形成主要由无机材料构成的膜；第二研磨工序，从相对所述基材的形成了所述膜的面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θb的方向，向所述膜的表面照射离子束。由此，可以得到耐光性好、且可以可靠控制预倾角的无机取向膜。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述第一研磨工序中，最好在所述基材的形成了所述膜的面上形成具有预定的方向性的凹部。由此，可以形成控制液晶分子的取向性的能力特别好的无机取向膜。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述第一研磨工序的所述预定的角度θa最好为2度以上。由此，可以更有效地在基材上形成具有预定的方向性的凹部，可以更可靠地形成适度的预倾角。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述第一研磨工序的所述照射离子束时的所述离子束的加速电压最好是400～1400V。由此，可以更有效地在基材上形成具有适当的倾斜面的凹部。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，在所述第一研磨工序中照射的所述离子束的离子束电流最好是100～1000mA。由此，可以在基材上的随机位置上更有效地形成多个凹部，结果，可以提高无机取向膜的控制液晶分子的取向性的能力。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述第一研磨工序中所述基材附近的气氛压力最好为5.0×10-1Pa以下。由此，可以提高离子束的直行性，更高效地在基材上形成具有适当角度的倾斜面的凹部。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述第二研磨工序中，最好在所述膜上形成具有预定的方向性的凹部。由此，可以形成控制液晶分子的取向性的能力特别好的无机取向膜。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述第二研磨工序中所述预定的角度θb最好为2度以上。由此，可以更有效地形成具有预定的方向性的凹部，可以更可靠地形成适度的预倾角。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述第二研磨工序中所述照射离子束时的所述离子束的加速电压最好是400～1400V。由此，可以更有效地在无机取向膜上形成具有适当的倾斜面的凹部。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，在所述第二研磨工序中照射的所述离子束的离子束电流最好是100～1000mA。由此，可以在膜上的随机位置上更有效地形成多个凹部，结果，可以提高无机取向膜的控制液晶分子的取向性的能力。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述第二研磨工序中所述膜附近的气氛压力最好为5.0×10-1Pa以下。由此，可以提高离子束的直行性，更有效地形成具有预定方向性的凹部。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，最好由溅射法进行所述成膜工序的所述膜的形成。由此，可以更有效地形成膜。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，最好所述无机材料是以硅的氧化物为主成分。由此，所得到的液晶面板具有更好的耐光性。本专利技术的无机取向膜，其特征在于由本专利技术的无机取向膜的形成方法形成。由此，可以提供耐光性好、且可以可靠控制预倾角的无机取向膜。本专利技术的无机取向膜中，最好无机取向膜的平均厚度为0.02～0.3μm。由此，可以形成更合适的预倾角，可以更合适地控制液晶分子的取向状态。本专利技术的电子设备用基板，其特征在于在基板上具有电极和本专利技术的的无机取向膜。由此，可以提供耐光性好的电子设备用基板。本专利技术的液晶面板，其特征在于具有本专利技术的无机取向膜和液晶层。由此，可以提供耐光性好的液晶面板。本专利技术的液晶面板，其特征在于具有一对本专利技术的无机取向膜，在一对所述无机取向膜之间具有液晶层。由此，可以提供耐光性好的液晶面板。本专利技术的电子仪器，其特征在于具有本专利技术的液晶面板。由此，可以提供可靠性高的电子仪器。本专利技术的电子仪器，其特征在于具有包括本专利技术的液晶面板的光阀，使用至少一个该光阀来投影图像。由此，可以提供可靠性高的电子仪器。本专利技术的电子仪器，具有对应于形成图像的红色、绿色和蓝色的三个光阀；光源；将来自该光源的光分为红光、绿光和蓝光，将所述各光导入到对应的所述光阀的颜色分离光学系统；合成所述各图像的颜色合成光学系统；和投影所述合成后的图像的投影光学系统，其特征在于所述光阀包括本专利技术的液晶面板。由此，可以提供可靠性高的电子仪器。根据本专利技术，可以提供耐光性好且更可靠地控制预倾角的无机取向膜，提供一种具有这种无机取向膜的电子设备用基板、液晶面板和电子仪器，以及提供这种无机取向膜的形成方法。附图说明图1是表示本专利技术的液晶面板的第一实施形态的模式纵截面图；图2是表示由本专利技术的方法形成的无机取向膜的表面状态的模式部分立体图；图3是表示由本专利技术的方法形成的无机取向膜的部分纵截面图；图4是说明本专利技术的无机取向膜的形成方法用的图；图5是形成凹部所用的研磨装置的模式图；图6是形成膜用的离子束溅射装置的模式图；图7是表示本专利技术的液晶面板的第二实施形态的模式纵截面图；图8是表示适用本专利技术的电子仪器的移动型(或笔记本型)个人计算机的结构的立体图； 图9是表示适用本专利技术的电子仪器的携带电话机(还包含PHS)的结构的立体图；图10是表示适用本专利技术的电子仪器的数字静物相机的结构的立体图；图11是表示适用本专利技术的电子仪器的投影型显示装置的光学系统的模式图。具体实施例下面，参照附图，详细说明本专利技术的无机取向膜的形成方法、电子设备用基板、液晶面板和电子仪器。首先，在说明无机取向膜的形成方法之前，说明本专利技术的液晶面板。图1是表示本专利技术的液晶面板的第一实施形态的模式纵截面图，图2是模式地表示由本专利技术的方法形成的无机取向膜的表面状态的部分立体图，图3是表示由本专利技术的方法形成的无机取向膜的部分纵截面图。另外，下面的说明中，将图3中的上侧称为“上部”，将下侧称为“下部”。如图1所示，液晶面板1A具有液晶层2、无机取向膜3A、4A、透明导电膜5、6、偏振光膜7A、8A和基板9、10。这种构成中，分别由基板9、透明导电膜5(电极)和无机取向膜3A，或基板10、透明导电膜6(电极)和无机取向膜4A构成本专利技术的电子设备用基板200。液晶层2主要由液晶分子构成。作为构成液晶层2的液晶分子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种无机取向膜的形成方法，是在基材上形成无机取向膜的方法，其特征在于，包括：第一研磨工序，对所述基材的形成无机取向膜的面，从相对该面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θ↓［ａ］的方向，照射离子束；成膜工序，在照射了所述离子束的所述 基材上形成主要由无机材料构成的膜；第二研磨工序，从相对所述基材的形成了所述膜的面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θ↓［ｂ］的方向，向所述膜的表面照射离子束。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：太田英伸，远藤幸弘，岩本修，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]