无机取向膜的形成方法、无机取向膜、电子设备用基板技术

一种无机取向膜的形成方法、无机取向膜、电子设备用基板、液晶面板和电子仪器，所述无机取向膜的形成方法，是在基材上形成主要由无机材料构成的无机取向膜的方法，其特征在于，包括：研磨工序，对基材的形成无机取向膜的面，从相对该面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θ↓［ｂ］的方向照射离子束；成膜工序，在照射了离子束的基材上形成无机取向膜。研磨工序中预定角度θ↓［ｂ］是２度以上。研磨工序中照射离子束时的离子束的加速电压是４００～１４００Ｖ。根据本发明专利技术提供耐光性好、且可产生预倾角的无机取向膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及无机取向膜的形成方法、无机取向膜、电子设备用基板、液晶面板和电子仪器。
技术介绍
已知有在屏幕上投影图像的投影型显示装置。该投影型显示装置中，对该图像形成主要使用液晶面板。通常，这种液晶面板为使液晶分子取向为一定方向，具有设定为形成预定的预倾角的取向膜。为制造这些取向膜，已知有用人造丝等布沿一个方向摩擦在基板上成膜的由聚酰亚胺等的高分子化合物构成的薄膜的摩擦处理的方法(例如，参照专利文献1)。但是，由聚酰亚胺等的高分子化合物构成的取向膜有时会因使用环境、使用时间等，产生光劣化。若产生了这种光劣化，取向膜、液晶层等的构成材料分解，该分解生成物有时会对液晶的性能等带来了恶劣影响。另外，通过该摩擦处理产生了静电和尘埃，由此有可靠性等降低的问题。专利文献1特开平10-161133号公报(权利要求的范围)
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种耐光性好、且可以更可靠地控制预倾角的无机取向膜，并且提供一种具有这种无机取向膜的电子设备用基板、液晶面板和电子仪器，并且还提供一种这种无机取向膜的形成方法。由下述的本专利技术来实现这种目的。本专利技术的无机取向膜的形成方法，是在基材上形成由主要无机材料构成的无机取向膜的方法，其特征在于，包括研磨工序，对所述基材的形成无机取向膜的面，从相对该面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θb的方向，照射离子束；成膜工序，在照射了所述离子束的所述基材上形成所述无机取向膜。由此，可以得到耐光性好、且可以可靠控制预倾角的无机取向膜。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述研磨工序中，最好通过向所述基材照射所述离子束，而在所述基材上形成具有预定的方向性的凹部。由此，可以形成控制液晶分子的取向性能力特别好的无机取向膜。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述研磨工序的所述预定的角度θb最好为2度以上。由此，可以有效形成具有预定的方向性的凹部，可以更可靠地形成适度的预倾角。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，在所述研磨工序中照射所述离子束时的所述离子束的加速电压最好是400～1400V。由此，可以更有效地形成具有适当的倾斜面的凹部。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，在所述研磨工序中照射的所述离子束的离子束电流最好是100～1000mA。由此，可以提高无机取向膜的控制液晶分子的取向性的能力。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，所述研磨工序中所述基材附近的气氛的压力最好为5.0×10-3Pa以下。由此，可以提高离子束的直行性，可以更有效地形成具有预定方向性的凹部。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，最好由溅射法进行所述成膜工序中所述无机取向膜的形成。由此，可以更有效地成膜无机取向膜。本专利技术的无机取向膜的形成方法中，最好所述无机材料以硅的氧化物为主成分。由此，所得到的液晶面板具有更好的耐光性。本专利技术的无机取向膜，其特征在于由本专利技术的无机取向膜的形成方法形成。由此，可以提供耐光性好、且可以可靠控制预倾角的无机取向膜。本专利技术的无机取向膜中，最好无机取向膜的平均厚度为0.02～0.3μm。由此，可以形成更合适的预倾角，可以更合适地控制液晶分子的取向状态。本专利技术的电子设备用基板，其特征在于在基板上具有电极和本专利技术的的无机取向膜。由此，可以提供耐光性好的电子设备用基板。本专利技术的液晶面板，其特征在于具有本专利技术的无机取向膜和液晶层。由此，可以提供耐光性好的液晶面板。本专利技术的液晶面板，其特征在于具有一对本专利技术的无机取向膜，在一对所述无机取向膜之间具有液晶层。由此，可以提供耐光性好的液晶面板。本专利技术的电子仪器，其特征在于具有本专利技术的液晶面板。由此，可以提供可靠性高的电子仪器。本专利技术的电子仪器，其特征在于具有包括本专利技术的液晶面板的光阀，至少使用一个该光阀来投影图像。由此，可以提供可靠性高的电子仪器。本专利技术的电子仪器，其特征在于具有对应于形成图像的红色、绿色和蓝色的三个光阀，光源，将来自该光源的光分为红光、绿光和蓝光、将所述各光导入到对应的所述光阀的颜色分离光学系统，合成所述各图像的颜色合成光学系统，和投影所述合成后的图像的投影光学系统，且所述光阀具有本专利技术的液晶面板。由此，可以提供可靠性高的电子仪器。根据本专利技术，可以提供耐光性好、且更可靠地控制预倾角的无机取向膜，提供一种包括这种无机取向膜的电子设备用基板、液晶面板和电子仪器，并且提供这种无机取向膜的形成方法。附图说明图1是表示本专利技术的液晶面板的第一实施形态的模式纵截面图； 图2是表示由本专利技术的方法形成的无机取向膜的部分纵截面图；图3是模式地表示基材的表面状态的立体图；图4是在基材上形成凹部所用的研磨装置的模式图；图5是形成无机取向膜用的离子束溅射装置的模式图；图6是表示本专利技术的液晶面板的第二实施形态的模式纵截面图；图7是表示适用本专利技术的电子仪器的移动型(或笔记本型)的个人计算机的结构的立体图；图8是表示适用了本专利技术的电子仪器的携带电话机(还包含PHS)的结构的立体图；图9是表示适用了本专利技术的电子仪器的数字静物相机的结构的立体图；图10是模式地表示适用了本专利技术的电子仪器的投影型显示装置的光学系统的图。具体实施例下面，参照附图详细说明本专利技术的无机取向膜的形成方法、电子设备用基板、液晶面板和电子仪器。首先，在说明无机取向膜的形成方法之前，说明本专利技术的液晶面板。图1是表示本专利技术的液晶面板的第一实施形态的模式纵截面图，图2是表示由本发专利技术的方法形成的无机取向膜的部分纵截面图，图3是模式地表示基材的表面状态的立体图。另外，下面的说明中，将图2中的上侧称为“上部”，将下侧称为“下部”。如图1所示，液晶面板1A具有液晶层2、无机取向膜3A、4A、透明导电膜5、6、偏振光膜7A、8A和基板9、10。液晶层2主要由液晶分子构成。作为构成液晶层2的液晶分子，若是向列型液晶、碟状液晶等可取向的液晶分子，则可以使用任何一种液晶分子，但是，在TN型液晶面板的情况下，最好是使用形成向列型液晶的液晶分子，例如，可举出有苯基环己烷衍生物液晶、联苯衍生物液晶、联苯基环己烷衍生物液晶、三联苯衍生物液晶、苯基醚衍生物液晶、苯酯衍生物液晶、二环己烷衍生物液晶、甲亚胺衍生物液晶、氧化偶氮基衍生物液晶、嘧啶衍生物液晶、二噁烷衍生物液晶、立方烷衍生物液晶等。进一步，这些向列型液晶分子中还包含导入了一氟基、二氟基、三氟基、三氟甲基、三氟甲氧基、二氟甲氧基等的氟系取代基的液晶分子。在液晶层2的两个面上配置有无机取向膜3A、4A。另外，无机取向膜3A在后述的由透明导电膜5和基板9构成的基材100上形成。无机取向膜4A在由后述的透明导电膜6和基板10构成的基材101上形成。无机取向膜3A、4A具有控制构成液晶层2的液晶分子的(没有施加电压时)取向状态的功能。例如由后述的方法(本专利技术的无机取向膜的形成方法)形成这种无机取向膜3A、4A，如图2所示，其表面为可控制液晶的取向状态的形状。其表面形状对应于后述的透明导电膜5、6的表面形状。无机取向膜3A、4A主要由无机材料构成。一般，由于无机材料与有机材料相比，具有更好的化学稳定性，所以与由现有的有机材料构成的取向膜相比，具有特别好的耐光性。作为上述这样的无机材料，例如，可以使用SiO2和SiO等的硅氧化物、MgO、ITO等的金属氧化物等。其中特别最好使用硅的氧化物。由此，所得到的液晶面板具有更本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种无机取向膜的形成方法，是在基材上形成主要由无机材料构成的无机取向膜的方法，其特征在于，包括：研磨工序，对所述基材的形成所述无机取向膜的面，从相对该面的垂直方向仅倾斜了预定的角度θ↓［ｂ］的方向照射离子束；成膜工序，在照射 了所述离子束的所述基材上形成所述无机取向膜。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：太田英伸，远藤幸弘，岩本修，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]