一种COF曝光机专用精密多功能工件台制造技术

本发明专利技术涉及一种COF曝光机专用精密多功能工件台，包括吸附板、XYθ工作台和Z工作台，所述的吸附板设置在XYθ工作台的顶部，XYθ工作台底部连接Z工作台，XYθ工作台包括θ驱动板、XY驱动板和XYθ工作台基板，Z工作台包括Z顶部基板、Z驱动基板和Z基板，COF基材通过吸附板吸附在多功能工件台上，所述的吸附板有效区域内表面上设有密集的小孔。本发明专利技术的有益效果是：可以XYZθ四个方向运动，保证基材地对位标记和掩模版上的mark对位的一致性。吸附平台表面喷涂一层特氟龙材质，耐磨损，摩擦系数较低，不会对COF基材造成划伤。吸附台表面是致密的小孔，当基材通过吸附平台时，吸附平台会分区真空吸附，保证了COF基材地平整度。保证了COF基材地平整度。保证了COF基材地平整度。

【技术实现步骤摘要】
一种COF曝光机专用精密多功能工件台


[0001]本专利技术涉及一种COF曝光机专用精密多功能工件台，属于COF基板制造


技术介绍

[0002]COF基板是精密的柔性线路封装基板，其制造过程中，是卷对卷生产的，由于COF基板线路的精密性，产品的精度的要求比较高，品质要求极其严格，生产过程是不好控制的。由于COF基材的柔软性，产品在搬送过程中，极容易造成产品皱褶不平，而且吸附台面容易划伤COF基材背面。
[0003]现有的COF生产曝光用的工件台多数固定不动的或者是没法全方位移动的，多数表面是单一的金属材质，和产品接触后容易对产品造成划伤，工件台表面的吸附槽吸附产品时会对产品造成凹凸不平的吸附痕迹，直接影响曝光后的良率，现有的工件台无法检测曝光机的曝光能量均匀性。现有的曝光机工件台一般是单层的固定式的，产品吸附后，无法进行XYZθ方向的移动。现有的曝光机吸附平台一般是条型槽吸附，对于COF这种比较软的基材容易造成吸附条型痕迹，并造成表面皱褶，严重影响线路的良率。现有的曝光机吸附平台的条型槽吸附时，时间是一致，的没法分区吸附，对于COF这种比较软的基材容易，造成基材拱起或者褶皱。曝光机的能量均匀性，每次都需要人工进行手动测试，效率低，而其数据计算不准确，最终影响曝光机的性能。

技术实现思路

[0004]为了克服上述现有技术的不足之处，本专利技术提供一种COF曝光机专用精密多功能工件台，可以XYZθ四个方向运动，保证基材地对位标记和掩模版上的mark对位的一致性，表面喷涂一层特氟龙材质，耐磨损，摩擦系数较低，不会对COF基材造成划伤。
[0005]本专利技术是通过如下技术方案实现的：一种COF曝光机专用精密多功能工件台，其特征在于：包括吸附板、XYθ工作台和Z工作台，所述的吸附板设置在XYθ工作台的顶部，XYθ工作台底部连接Z工作台，XYθ工作台包括θ驱动板、XY驱动板和XYθ工作台基板，Z工作台包括Z顶部基板、Z驱动基板和Z基板，COF基材通过吸附板吸附在多功能工件台上，所述的吸附板有效区域内表面上设有密集的小孔 。
[0006]所述的吸附板包括铝合金基材和特氟龙涂层，特氟龙涂层喷涂在铝合金基材表面。
[0007]所述的吸附板分为4个区域，4个区域的吸附板的小孔上分别植入光量感应装置，光量感应装置通过导线将数据传输到控制电脑。
[0008]所述的吸附板的铝合金基材采用S6061-T6铝合金。
[0009]所述的小孔直径为0.5mm。
[0010]所述的吸附板4个区域上植入光量感应装置均匀设置在每个区域的边角和中心位置，光量感应装置每个区域设置9个。
[0011]本专利技术的有益效果是：可以XYZθ四个方向运动，保证基材地对位标记和掩模版上
的mark对位的一致性。吸附平台表面喷涂一层特氟龙材质，耐磨损，摩擦系数较低，不会对COF基材造成划伤。吸附台表面是致密的小孔，当基材通过吸附平台时，吸附平台会分区真空吸附，基材会密实地吸附在平台上，保证了COF基材地平整度。吸附平台内置UV光受光器可以时时地显示曝光能量地均匀性。为生产效率和品质的提升，提供了强有力的保障。此专利技术是结合COF基板生产实际，为企业节约了大量的成本和时间。
附图说明
[0012]下面根据附图和实施例对本专利技术进一步说明。
[0013]图1是本专利技术的结构示意图；图2是本专利技术吸附板的结构示意图；图3是图2的A-A剖视图；图4是本专利技术的吸附板吸附COF基材的示意图；图5是本专利技术的吸附板吹起COF基材的示意图；图6是本专利技术的光量感应装置植入位置示意图；图7是本专利技术的使用状态参考图。
[0014]图中：1、吸附板；2、XYθ工作台；3、Z工作台；4、θ驱动板；5、XY驱动板；6、XYθ工作台基板；7、Z顶部基板；8、Z驱动基板；9、Z基板；10、COF基材；11、小孔；12、铝合金基材；13、特氟龙涂层。
具体实施方式
[0015]如图1到图7所示的一种COF曝光机专用精密多功能工件台，其特征在于：包括吸附板1、XYθ工作台2和Z工作台3，所述的吸附板1设置在XYθ工作台2的顶部，XYθ工作台2底部连接Z工作台3，XYθ工作台包2括θ驱动板4、XY驱动板5和XYθ工作台基板6，Z工作台3包括Z顶部基板7、Z驱动基板8和Z基板9，COF基材10通过吸附板1吸附在多功能工件台上，所述的吸附板1有效区域内表面上设有密集的小孔11 。
[0016]所述的吸附板1包括铝合金基材12和特氟龙涂层13，特氟龙涂层13喷涂在铝合金基材12表面。
[0017]所述的吸附板1分为4个区域，4个区域的吸附板的小孔上分别植入光量感应装置，光量感应装置通过导线将数据传输到控制电脑。
[0018]所述的吸附板1的铝合金基材12采用S6061-T6铝合金。
[0019]所述的小孔11直径为0.5mm。
[0020]所述的吸附板14个区域上植入光量感应装置均匀设置在每个区域的边角和中心位置，光量感应装置每个区域设置9个。
[0021]当COF基材10通过精密工件平台时，会被被牢牢吸附，当对位装置检测到玻璃掩膜版对位MARK于COF基材10对位标记之前的位置偏差之后，为保证COF基材10和玻璃掩模版完成对位，并保证COF基材10始终保持在曝光机的焦点深度内，θ驱动板4能水平角度移动，XY驱动板5能XY方向移动，“Z工作台3能上下移动，保证COF基板10的对位mark 和玻璃掩模版上的mark一致。
[0022]特氟龙涂层13是低摩擦系数的材质，当COF基材10从表面接触通过时，可以避免
COF基材10的划伤。密集的0.5mm小孔11可以保证COF基材10被吸附的均匀性，同时可以避免基材的吸附凹痕。
[0023]当COF基材10通过吸附板1表面，吸附板1吸附的顺序是分区吸附。能保证COF基材10的顺序吸附，避免部分COF基材10的拱起，皱褶等不良。当曝光完成后，会从密集的小孔11内反吹真空，将COF基材10向上吹起，便于基材被搬运。
[0024]能量检测设备使用方法：当需要测试曝光能量均匀性时，直接打开曝光模式，让UV光照射吸附板1就可以，四个感应区域，每个区域都有9个感应装置，并会将感应到的光量值直接传输给控制系统，控制系统会根据传输过来的数据分析计算除平均值，还可以分别算出四个分区的平均值，再用四个分区的平均值算出最终的平均值，两种计算模式可以随意选择，根据生产需要选择。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种COF曝光机专用精密多功能工件台，其特征在于：包括吸附板（1）、XYθ工作台（2）和Z工作台（3），所述的吸附板（1）设置在XYθ工作台（2）的顶部，XYθ工作台（2）底部连接Z工作台（3），XYθ工作台包（2）括θ驱动板（4）、XY驱动板（5）和XYθ工作台基板（6），Z工作台（3）包括Z顶部基板（7）、Z驱动基板（8）和Z基板（9），COF基材（10）通过吸附板（1）吸附在多功能工件台上，所述的吸附板（1）有效区域内表面上设有密集的小孔（11） 。2.根据权利要求1所述的一种COF曝光机专用精密多功能工件台，其特征在于：所述的吸附板（1）包括铝合金基材（12）和特氟龙涂层（13），特氟龙涂层（13）喷涂在铝合金基材（12）表...

【专利技术属性】
技术研发人员：戚爱康，计晓东，孙彬，沈洪，李晓华，
申请(专利权)人：江苏上达电子有限公司，
类型：发明
国别省市：