取向膜的制造装置和制造方法、液晶装置以及电子机器制造方法及图纸

一种制造装置，制造在相面对的一对基板间夹持液晶而成的液晶装置的取向膜，具有：成膜室；蒸镀部，其具有蒸镀源，在上述成膜室内通过物理的蒸镀法在上述基板上蒸镀取向膜材料，形成取向膜；遮挡板，其形成在上述蒸镀部与上述基板之间，具有用来有选择地蒸镀取向膜材料的缝隙状开口部分，将上述基板中的不形成取向膜的区域覆盖起来；以及限制部件，其设置在上述蒸镀源与上述遮挡板之间，并且设置在上述蒸镀源的附近，用来对上述蒸镀源的上述取向膜材料发生升华的升华方向进行限制。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种制造取向膜的制造装置、取向膜的制造方法、液晶装置以及电子机器。
技术介绍
液晶投影仪等投射型显示装置中，使用液晶装置作为光调制部。这样的液晶装置，在一对基板间的周边部中设有密封部件，其中央部密封有液晶层。在该一对基板的内面侧形成给液晶层施加电压的电极，在这些电极的内面侧，形成有在不施加选择电压时控制液晶分子的取向的取向膜。这样所构成的液晶装置，根据不施加选择电压时与施加选择电压时的液晶分子的取向变化来调制光源光，形成图像光。另外，作为上述的取向膜一般使用的是，对由添加有侧链烷基的聚酰亚胺等构成的高分子膜的表面上实施过研磨处理的膜。研磨处理是指通过柔软的布所构成的滚筒，以给定的方向摩擦高分子膜的表面，使得高分子取向为给定方向。液晶分子因取向性高分子与液晶分子之间的分子间相互作用，而沿着取向性高分子设置。因此，在不施加选择电压时，能够让液晶分子取向为给定的方向。另外，通过侧链烷基，还能够对液晶分子赋予预倾(pre-tilt)。但是，在采用具有这种有机取向膜的液晶装置作为投影仪的光调制部的情况下，有可能因光源所照射的强光或热导致取向膜逐渐分解。这样，在长时间的使用后，有可能无法使液晶分子排列成所期望的预倾角等，液晶分子的取向控制功能降低，液晶投影仪的显示品质下降等。因此，有人提出了使用由耐光性以及耐热性优秀的无机材料构成的取向膜。这样的无机取向膜的制造方法，已知的例如有通过斜向蒸镀法成膜氧化硅(SiO2)膜的方法。在通过斜向蒸镀法制造无机取向膜的情况下，为了让取向膜形成所期望的取向状态，需要控制取向膜材料的入射角度。控制取向膜材料的入射角度的技术，公知的有特开2002-365639号公报。该技术中，在具有取向膜材料的蒸镀源与基板之间，设置形成有缝隙的遮挡板，通过从该缝隙穿过来以给定的入射角度有选择地进行蒸镀，来形成所期望的取向膜。该技术中，特别要将形成有缝隙的遮挡板设置在基板的附近。这样，通过让从蒸镀源升华的蒸镀物进入到基板与遮挡板之间，能够防止蒸镀物通过与所期望的入射角度不同的角度蒸镀到基板上。因此，所得到的取向膜能够无偏差地以给定的蒸镀角形成。但是，从蒸镀源升华的取向膜材料，以蒸镀源为中心呈放射状扩散流动，因此通过遮挡板的开口部分成膜在基板上的只是一部分，剩下的会附着到上述遮挡板的底面、或设置于成膜室的壁面上的防镀板上。像这样的取向膜材料在基板以外处的附着，基板的大小越大，其量也越大。也即，随着基板大小增大，成膜室也增大，由于蒸镀源与基板(遮挡板)之间的距离延长，因此会导致附着的面积增大。其结果是，需要频繁进行例如通过清洗将附着在遮挡板或防镀板上的取向膜材料去除，或更换这些遮挡板或防镀板之后，将其中所附着的取向膜材料通过清洗来去除之类的维护，因此使得作业负荷增大，导致生产性降低。
技术实现思路
本专利技术正是鉴于以上问题而提出的，其目的在于提供一种能够减轻取向膜的制造时的维护负荷，并由此提高生产性的取向膜的制造装置、取向膜的制造方法、以及具有通过该制造方法制造的取向膜的液晶装置、电子机器。用来实现上述目的的本专利技术的取向膜的制造装置，制造在相面对的一对基板间夹持液晶而成的液晶装置的取向膜，具有成膜室；蒸镀部，其具有蒸镀源，在上述成膜室内通过物理的蒸镀法在上述基板上蒸镀取向膜材料，形成取向膜；遮挡板，其形成在上述蒸镀部与上述基板之间，具有用来有选择地蒸镀取向膜材料的缝隙状开口部分，将上述基板中的没有形成取向膜的区域覆盖起来；以及，第1限制部件，其设置在上述蒸镀源与上述遮挡板之间，并且设置在上述蒸镀源的附近，用来对上述蒸镀源的上述取向膜材料发生升华的升华方向进行限制。通过该取向膜的制造装置，由于在蒸镀源的附近，设有用来对上述蒸镀源的升华方向进行限制的第1限制部件，因此在成膜时附着在遮挡板的底面或成膜室的壁面中所设置的防镀板上的取向膜的量，能够通过该第1限制部件减少。因此，能够减轻因取向膜材料在遮挡板或防镀板中附着而引起的维护时的作业负荷，实现生产性的提高。另外，本专利技术的取向膜的制造装置中，优选上述第1限制部件具有能够开闭的缝隙，该缝隙将上述蒸镀源的升华方向限制为朝向上述遮挡板的开口部分。在通过蒸镀部升华取向膜材料时，在升华开始初期，升华速度不稳定，因此在该状态下进行成膜的情况下，所得到的取向膜中有可能产生不均。因此，通过令在第1限制部件中进行限制的缝隙能够开闭，并在升华开始初期将该缝隙关闭来将蒸镀源覆盖起来，能够一直等待到升华速度稳定再进行成膜。而且，通过像这样将蒸镀源覆盖起来，能够防止取向膜材料附着到成膜室中。另外，本专利技术的取向膜的制造装置中，优选具有设置在上述第1限制部件中且覆盖上述蒸镀源的侧面的防镀部件。这样一来，因升华而从蒸镀源流向其侧方的取向膜材料，不会附着到例如成膜室内的壁面中所设置的防镀板上，能够附着在上述防镀部件上。因此，能够减轻因取向膜材料在防镀板中附着而引起的维护时的作业负荷，实现生产性的提高。另外，本专利技术的取向膜的制造装置中，优选具有设置在上述遮挡板与上述第1限制部件之间、且用来对上述第1限制部件所限制的蒸镀源的升华方向进一步进行限制的第2限制部件。这样一来，能够通过这些限制部件(第1限制部件以及第2限制部件)以更好的精度对蒸镀源的升华方向进行限制，取向膜材料不会在遮挡板侧扩散，能够流入到遮挡板的开口部分内。因此，能够减少取向膜材料在遮挡板乃至防镀板中附着，减轻维护时的作业负荷。另外，本专利技术的取向膜的制造装置中，优选在上述遮挡板与上述第1限制部件之间，具有多个上述第2限制部件，上述升华后的取向膜材料通过上述多个第2限制部件的位置，排列在近似一个方向上。通过这样，能够通过这些限制部件以更好的精度对蒸镀源的升华方向进行限制。另外，上述取向膜的制造装置中，优选在上述遮挡板中，形成有多个上述开口部分。在经遮挡板的开口部分往基板上蒸镀取向膜材料时，取向膜材料的一部分经开口部分附着于遮挡板的开口部分的内周部。因此，缝隙状的开口部分的缝隙宽度会变窄，由该开口部分限制的入射角度等的成膜条件与成膜初期相比发生变化。因此，通过令遮挡板具有多个开口部分，能够将内周部附着有取向膜材料的开口部分，替换成内周部没有附着取向膜材料的开口部分，来往基板上蒸镀取向膜材料。这样，能够用初始的成膜条件，稳定进行成膜。具体来说，通过由限制部件对从蒸镀源升华的蒸镀物的升华方向进行大致限制，从蒸镀源升华的取向膜材料，只对从遮挡板的多个开口部分中选出的一个开口部分有选择地流入。然后，若通过成膜一个开口部分的内周部上附着了取向膜材料，例如通过将遮挡板的位置错位，使其他开口部分与蒸镀源的升华方向对应，从而可通过初始的成膜条件稳定地进行成膜。另外，本专利技术的取向膜的制造装置中，优选让上述遮挡板的开口部分的宽度可变。这样一来，即使因基板的前处理条件或蒸镀部中的蒸镀(升华)条件等发生了变化，而需要对开口部分所规定的取向膜材料的入射角度等进行变更时，也能够通过变更缝隙宽度来容易地对应。本专利技术的取向膜制造方法，包括以下步骤使取向膜材料从蒸镀源升华，通过设置在蒸镀源附近的限制部件，对取向膜材料升华的升华方向进行限制，使取向膜材料通过遮挡板所具有的缝隙状的上述开口部分，通过物理的蒸镀法在基板上形成取向膜。通过该取向膜的制造方法，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造装置，制造在相面对的一对基板间夹持液晶而成的液晶装置的取向膜，具有：成膜室；蒸镀部，其具有蒸镀源，在上述成膜室内通过物理的蒸镀法在上述基板上蒸镀取向膜材料，形成取向膜；遮挡板，其形成在上述蒸镀部与上述基板之间 ，具有用来有选择地蒸镀取向膜材料的缝隙状开口部分，将上述基板中的没有形成取向膜的区域覆盖起来；以及，第１限制部件，其设置在上述蒸镀源与上述遮挡板之间，并且设置在上述蒸镀源的附近，用来对上述蒸镀源的上述取向膜材料发生升华的升华方向进行 限制。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：中田英男，宫川拓也，奥山规生，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]