甩动式混合均匀装置制造方法及图纸

一种甩动式混合均匀装置，包含一个枢转单元、一个组装于枢转单元上的甩动箱单元、及一个与该甩动箱单元组接的驱动单元。该甩动箱单元是可以该枢转单元为支点枢转地组装于该枢转单元侧边，该驱动单元是连接于甩动箱单元一侧并可驱使甩动箱单元以枢转单元为支点地相对枢转单元于一回正位置与一倾摆位置间往复枢摆甩动。通过甩动箱的甩动设计，可使倒立放置于甩动箱中的容器内的研磨浆可冲击打散沉积的高粘稠度研磨微粒。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种混合均匀装置，特别是涉及一种甩动式混合均匀装置。
技术介绍
在半导体或液晶显示器制程中，为使晶圆与液晶显示器的玻璃基板表面较为平整，大多必须对晶圆与玻璃基板表面进行研磨，而研磨方式大多是采用化学机械研磨(chemical machinepolishing，CMP)。以晶圆为例，主要是在一用以研磨的研磨垫与晶圆间均匀分布含有适当研磨微粒的研磨浆来研磨晶圆，而研磨微粒的分布均匀性直接影响晶圆表面的平整度。但是因研磨浆静置不使用时，位于研磨浆中的研磨微粒会因密度不同而沉积于容器底部，导致研磨浆中的研磨微粒分布不均。因此，使用前大多必须晃动容装研磨浆的容器，使沉积的研磨微粒能够再均匀分布。如图1、2所示，为一般用以摇晃容装有上述研磨浆(图未示)的容器10的摇晃装置，该摇晃装置是在一个基座11上设置二个相间隔的凸伸部12，并分别于所述凸伸部12穿设一沿一旋转轴线110延伸且左、右间隔对称的转轴13，然后于所述转轴13间设置一个用以承装上述容器10的承载架14，且该承载架14是以其左侧底边与转轴13固接，而以其右侧顶边与另一个转轴13固接，并通过一个驱动装置15来驱动转轴13转动，而连动承载架14带动容器10同步以所述转轴13为轴地枢转，使得该容器10在转动的过程中，左、右两相反端高度位置一上一下的交互变换，而呈现如图2所示的摇晃轨迹，所以该容器10中的研磨浆与研磨微粒会产生扰动而混合。但是此种该摇晃装置产生的摇晃，只会使容器10中的研磨浆产生扰流，而此研磨浆的扰动力道只能用以将一些低粘稠度的研磨微粒(图未示)打散，若是用以摇晃使用于液晶显示器的玻璃基板上的研磨浆等此类具有高粘稠度的研磨微粒时，会相当耗时，也很难使聚集在一起的高粘稠研磨微粒分散并均匀分布。究其原因，是在于此种扰流缺乏对沉积于容器10底部的沉积区直接冲击的力道，及将研磨微粒带离沉积区的离心力。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种可使具有高粘稠度的研磨微粒均匀分布的甩动式混合均匀装置。本专利技术甩动式混合均匀装置，包含一个枢转单元、一个组装于枢转单元上的甩动箱单元、及一个与该甩动箱单元组接的驱动单元。该甩动箱单元是可以该枢转单元为摆动支点枢转地组装于该枢转单元侧边，该驱动单元是连接于甩动箱单元一侧并可驱使甩动箱单元以枢转单元为支点地相对枢转单元于一回正位置与一倾摆位置间往复枢摆甩动。本专利技术所述的甩动式混合均匀装置，其中，该枢转单元包括二个间隔设置的轴承座、及一个枢设于所述轴承座间的枢转轴，该甩动箱单元是以该枢转轴为支点枢摆地组装于该枢转轴上。本专利技术所述的甩动式混合均匀装置，其中，该甩动箱单元包括一个可以该枢转单元为摆动支点枢转地组装于该枢转单元侧边的甩动箱、及一片前后延伸地突设于该甩动箱外而与驱动单元连接的直立轨板。本专利技术所述的甩动式混合均匀装置，其中，该轨板具有一个前后延伸而与驱动单元连接的长形轨孔，且当驱动单元沿轨孔长度方向往复滑移时，会连动该甩动箱以枢转单元为支点地相对枢转单元于该回正位置与该倾摆位置间往复枢摆甩动。本专利技术所述的甩动式混合均匀装置，其中，该驱动单元包括一个驱转件、及一个组装于驱转件上并可被驱转件驱动而进行圆周回转枢摆地枢设于该轨孔中的偏摆机构，且当偏摆机构被驱动而进行圆周回转枢摆时，该偏摆机构会沿该轨孔长度方向往复滑移，而连动使该甩动箱以枢转单元为支点地于该回正位置与该倾摆位置间往复枢摆甩动。本专利技术所述的甩动式混合均匀装置，其中，该驱转件具有一个主体部、及一个自主体部往外水平凸伸并可被主体部驱转的驱转轴部，该偏摆机构是组装于驱转轴部上并可被驱转轴部驱动而绕驱转轴部轴线枢摆。本专利技术所述的甩动式混合均匀装置，其中，该偏摆机构具有一个垂直驱转轴部地固设于驱转轴部上并可被驱转轴部驱动而枢摆的摆动臂、及一条自该摆动臂末端部往外水平凸伸并可沿轨孔长度方向滑移地插装于轨孔中的偏心轴。本专利技术所述的甩动式混合均匀装置，其中，该偏摆机构还包括二片分别设置于偏心轴上且分别位于该轨板左右侧而使偏心轴限位于轨孔中的限位板。本专利技术所述的甩动式混合均匀装置，其中，该甩动式混合均匀装置还包含一个中空壳座，该枢转单元、甩动箱单元与驱动单元是分别组装于该壳座中。本专利技术所述的甩动式混合均匀装置，其中，该壳座包括一个中空框架、及一个水平设置于该框架中的一预定高度位置处的基板，该枢转单元是设置于该基板顶面，该甩动箱单元是组装于该枢转单元上，该驱动单元是设置于该甩动箱单元下方而可连动该甩动箱单元在该回正位置与该倾摆位置间枢摆甩动。本专利技术所述的甩动式混合均匀装置，除了可明显改善一般摇晃装置不易打散高粘稠度的研磨微粒沉积，且摇晃打散过程耗时等缺点外，并可使已被打散的研磨微粒立刻均匀分布于研磨浆中，而可快速地将高粘稠度研磨微粒的打散与均匀化。附图说明图1是一般的摇晃装置的立体图；图2是一个组装于该摇晃装置中的一个容器的摇摆示意图；图3是本专利技术甩动式混合均匀装置的一实施例的立体图；图4是该实施例的一个驱转机构与一个轨板组接的局部立体放大图；图5是该实施例的一个甩动箱位于一回正位置时的侧视图；图6是该实施例的甩动箱位于一倾摆位置时的侧视图。具体实施例方式下面结合附图及实施例对本专利技术甩动式混合均匀装置进行详细说明。如图3～5所示，本专利技术甩动式混合均匀装置的实施例包含一个中空壳座3，及分别组装于壳座3内的一个枢转单元4、一个甩动箱单元5、及一个驱动单元6。该壳座3包括一个由多条框杆311组装而成的中空长方体状座本体31、多片可开启地分别组装覆盖于座本体31四周与顶侧的门板32、及一片水平组装于座本体31中的基板33。该枢转单元4包括二个左、右间隔地设置于该基板33顶面的前端缘处的轴承座41、及一个可转动地枢设于所述轴承座41间的枢转轴42。该甩动箱单元5是可以该枢转单元4为枢摆支点地与该枢转单元4连接并组装于该枢转单元4侧边，并包括一个可枢摆地组装于该枢转轴42上的甩动箱51、及一片前后延伸地突设于该甩动箱51朝下底面的直立轨板52。该甩动箱51具有一个开口朝前与朝上的箱体511、一片自该箱体511底端往后延伸并固接于该枢转轴42上的连动板512、及分别组装于箱体511上并分别可开启地覆盖箱体511的开口的一片前门板513与一片上盖板514。该轨板52是直立突设于箱体511底面，并具有一个前后延伸且贯穿其左、右两相反侧面的轨孔520。该驱动单元6是位于该甩动箱51下方，并包括一个组装于该座本体31中的驱转件61、及一个可连动该甩动箱单元5甩动地组装于驱转件61与轨板52间的偏摆机构62。在本实施例中，该驱转件61是一个动力马达，且具有一个主体部611、及一个往右突伸出主体部611并可被主体部611驱动而沿自身轴线转动的驱转轴部612。该偏摆机构62具有一个固设于该驱转轴部612末端并垂直该驱转轴部612轴线地往下延伸的摆动臂621、一条自该摆动臂621往右延伸穿过该轨板52的轨孔520的偏心轴622，及二片分别套设于该偏心轴622上且分别位于该轨板52的左、右侧的限位板623。所述限位板623的外径是大于该轨孔520的高度，因此可通过所述限位板623的设置，使该偏心轴622限位插装于轨孔520中，并可沿该轨孔520的延伸方向滑移，当驱转件61驱转该偏摆机构6本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种甩动式混合均匀装置，其特征在于：包含一个枢转单元、一个组装于枢转单元上的甩动箱单元、及一个与该甩动箱单元组接的驱动单元，该甩动箱单元是可以该枢转单元为摆动支点枢转地组装于该枢转单元侧边，该驱动单元是连接于甩动箱单元一侧并可驱使甩动箱单元以枢转单元为支点地相对枢转单元于一回正位置与一倾摆位置间往复枢摆甩动。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李家浩，
申请(专利权)人：长兴开发科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]