真空承载设备制造技术

本发明专利技术公开了一种真空承载设备，包含一真空承载平台、一传输管路、一真空槽、一储水槽与至少一阀门。真空承载平台具有通孔，传输管路的第一端连接至通孔，第二端连接至真空泵，第三端连接至去离子水源。真空槽连接于第一端与第二端之间，而储水槽则连接于第一端与第三端之间。阀门用以控制真空槽与第一端或储水槽与第一端的启闭。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种真空承载设备，特别是涉及一种可提升基板吸附与释放效率的真空承载设备。
技术介绍
在液晶显示面板的自动化生产中，如何快速自动传送、固定、移载基板为提升效率的一重要环结，而现在的面板厂主要是使用真空承载设备作为基板承载与固定的工具。请参考图1，为公知真空承载设备的示意图。如图1所示，公知真空承载设备10包含有一真空承载平台12，以及一传输管路20连接至真空承载平台12。真空承载平台12具有数个通孔14，通孔14的一端与传输管路20连通，而另一端则开孔在真空承载平台12的一承载面16。传输管路20具有三个端点，其中第一端21与通孔14连通，而第二端22与第三端23则分别与一真空泵24以及一去离子水源26连接。真空承载设备10具有吸附与释放二种操作模式。在吸附模式下，真空承载平台12的通孔14与真空泵24连通，此时真空泵24会开始抽气使传输管路20形成真空状态，借此吸附固定置放于真空承载平台12的承载面16的基板18以进行工艺处理。在释放模式下，真空承载平台12的通孔14与去离子水源26连通，此时真空状态会解除，同时去离子水会注入传输管路20中，并由真空承载平台12的通孔14涌出，借此基板18会脱离真空承载平台12的承载面16而释放。但是，公知真空承载设备10在操作上具有以下缺点，首先，在吸附模式下由于传输管路20具有相当的长度与空间，因此必须耗费相当长的时间才可达到足以吸附基板18的真空状态，且真空泵24也需具备较大的功率。再有，在释放模式下，由于传输管路20的狭长，基板18脱离真空承载平台12的过程也颇为耗时，而造成效率不高。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种真空承载设备，使真空承载平台可快速吸附与释放基板，进而提升效率并减少成本。为了实现上述目的，本专利技术提供了一种真空承载设备，用以承载与固定一基板，并与一真空泵及一去离子水源连接。上述真空承载设备包含有一真空承载平台、一传输管路、一真空槽、一储水槽与至少一阀门。该真空承载平台，具有数个通孔。该传输管路，包含有一第一端、一第二端以及一第三端，该第一端连接至该真空承载平台的该通孔，该第二端连接至该真空泵，且该第三端连接至该去离子水源。该真空槽，连接于该传输管路的该第一端与该第二端之间，而该储水槽，则连接于该传输管路的该第一端与该第三端之间。该阀门，连接于该第一端、该真空槽与该储水槽之间，借以控制该真空槽与该第一端或该储水槽与该第一端的启闭状态。由上述可知，本专利技术借助在传输管路内设置预抽真空的真空槽，以及预先储水的储水槽，可有效加快吸附基板与释放基板的速度，而可提升真空承载设备的效率。以下结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述，但不作为对本专利技术的限定。附图说明图1为公知真空承载设备的示意图；图2为本专利技术一较佳实施例的真空承载设备的示意图；图3为本实施例的真空承载设备在吸附模式下的示意图；图4与图5为本实施例的真空承载设备在释放模式下的示意图。其中，附图标记10 真空承载设备 12 真空承载平台14 通孔 16 承载面18 基板 20 传输管路21 第一端 22 第二端23 第三端 24 真空泵26 去离子水源 30 真空承载设备 32 真空承载平台 34 基板36 承载面 38 通孔40 传输管路 41 第一端42 第二端 43 第三端44 真空泵 46 去离子水源48 真空槽 50 储水槽52 阀门 54 压缩空气源56 第一旁通管路 58 第二旁通管路60 阀门具体实施方式请参考图2，为本专利技术一较佳实施例的真空承载设备的示意图。如图2所示，本实施例的真空承载设备30包含有一真空承载平台32，以及一传输管路40。真空承载平台32具有一承载面36，用以承载与固定一基板34，且真空承载平台32为多孔性结构设计，其包含有数个通孔38，通孔38的一端与传输管路40连通，而另一端则开孔在真空承载平台32的承载面36。传输管路40包含有一第一端41、一第二端42以及一第三端43，其中第一端41连接至真空承载平台32的通孔38，第二端42连接至一真空泵44，第三端43则连接至一去离子水源46。本实施例的真空承载设备30包含有一真空槽(vacuum tank)48，连接于传输管路40的第一端41与第二端42之间，一储水槽(water tank)50，连接于传输管路40的第一端41与第三端43之间，以及至少一阀门52，连接于第一端41、真空槽48与储水槽50之间，借以控制真空槽48与第一端41或储水槽50与第一端41的启闭状态。本实施例的真空承载设备，还包含有一压缩空气源(compressed dry air，CDA)54，连通于储水槽50，并可连通于真空槽48。在真空承载设备30运转期间，真空槽48随时保持在预抽真空的状态，同时储水槽50内也预先储存有去离子水。另外，在本实施例中真空槽48与储水槽50皆连接于靠近第一端41的传输管路40，且在设置真空槽48与储水槽50的位置时，真空槽48与储水槽50的位置越靠近传输管路40的第一端41，也就是越靠近真空承载平台32，在进行基板34的吸附或释放时的效果越好。本实施例的真空承载设备30还可包含有一第一旁通管路(bypass pipe)56，连接真空槽48与真空泵44，以及一第二旁通管路58，连接储水槽50与去离子水源46。此外，传输管路40还可设置数个阀门60，分别设于真空承载设备30的各单元之间，借以在操作过程中控制空气或去离子水的流动路径或流量。请参考图3，为本实施例的真空承载设备在吸附模式下的示意图，其中在图中粗线部分表示气体或液晶的流动路线。如图3所示，在设定为吸附模式时，阀门52会调整为对真空槽48开启而对储水槽50关闭的状态，也就是传输管路40的第一端41与真空槽48(第二端42)导通，而由于真空槽48已预抽真空，真空承载平台32的通孔38可短时间内就达到真空状态以吸附基板34。此外，在吸附模式下，第一旁通管路56与真空槽48间的阀门60为开启，借此在真空泵44抽真空时可经由第一旁通管路56，而避免吸入真空槽48底部可能积存的水。请参考图4与图5，图4与图5为本实施例的真空承载设备在释放模式下的示意图，其中在图中粗线部分表示气体或液晶的流动路线。如图4所示，在释放模式下的第一阶段，阀门52会被调整为对储水槽50开启而对真空槽48为关闭，借此第一端41会与储水槽50(第三端43)导通，而由于储水槽50内预先储存了去离子水，再借助压缩空气源54所注入的压缩空气，储水槽50内的去离子水会经真空承载平台32的通孔38涌出以使基板34脱离真空承载平台32。另外，位于压缩空气源54与真空槽48间的阀门60也可被开启，借此压缩空气也可注入真空槽48内，将真空槽48底部的积存水经真空泵44排放出去。如图5所示，在释放模式下的第二阶段，储水槽50内的去离子水到达低水位时，去离子水源48会开始供水，并经第二旁通管路58继续将去离子水注入真空承载平台32的通孔38内，以释放基板34，同时去离子水源48也可在此时持续补充储水槽50内的去离子水至高水位。由上述可知，本专利技术借助在传输管路内设置预抽真空的真空槽，以及预先储水本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空承载设备，用以承载与固定一基板，并与一真空泵及一去离子水源连接，其特征在于，包含有：一真空承载平台，具有数个通孔；一传输管路，包含有一第一端、一第二端以及一第三端，该第一端连接至该真空承载平台的该通孔，该第二端连接至 该真空泵，该第三端连接至该去离子水源；一真空槽，连接于该传输管路的该第一端与该第二端之间；一储水槽，连接于该传输管路的该第一端与该第三端之间；以及至少一阀门，连接于该第一端、该真空槽与该储水槽之间，借以控制该真空槽与 该第一端或该储水槽与该第一端的启闭状态。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：庄爵豪，梁淑斐，王泳麒，曾建春，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]