多腔体超低温磁控溅射镀膜机制造技术

本实用新型专利技术公开了多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于‑15℃。本多腔体超低温磁控溅射镀膜机中，冷却辊直径大且温度低，大幅度提高了对来料薄膜的冷却能力，使得工艺室内能够设置更多数量的溅射腔室及阴极靶材，从而提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
多腔体超低温磁控溅射镀膜机
本技术涉及磁控溅射镀膜设备
，尤其涉及多腔体超低温磁控溅射镀膜机。
技术介绍
磁控溅射镀膜机包括依次连通的放卷室、前处理室、工艺室和收卷室，工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材。现有的磁控溅射镀膜机中由于冷却辊的冷却效果不甚理想，因此，溅射腔室一般只能设置两个，也就是说，现有的磁控溅射镀膜机单次只能镀两种靶材，当需要镀多种靶材时，薄膜需要重复多次经过磁控溅射镀膜机，严重影响生产效率。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是：提供一种生产效率高的多腔体超低温磁控溅射镀膜机。为了解决上述技术问题，本技术采用的技术方案为：多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于-15℃。进一步的，所述冷却辊内设有第一冷却道，所述第一冷却道内设有氟利昂。进一步的，所述冷却辊的材质为不锈钢。进一步的，所述工艺室的数量为两个。进一步的，还包括缓存室，所述缓存室位于两个所述工艺室之间且分别与两个所述工艺室连通。进一步的，相邻的两个所述溅射腔室之间通过挡板隔离，所述挡板内设有第二冷却道，所述第二冷却道内设有冷却介质。进一步的，所述工艺室内还设有换靶机构，所述换靶机构包括导向组件、支撑组件和驱动组件，导向组件包括固定座，所述固定座上设有四组导向槽，四组所述导向槽分别对应于四个所述溅射腔室设置，每组所述导向槽的长轴的延长线均与所述冷却辊的中心轴相交；所述支撑组件包括固定体、两个第一伸缩杆和两个第二伸缩杆，所述第一伸缩杆的一端可伸缩设于所述固定体内，所述第二伸缩杆的一端可伸缩设于所述第一伸缩杆内，所述第一伸缩杆和第二伸缩杆上分别设有与所述导向槽相配合的导向块，所述第一伸缩杆和第二伸缩杆上分别连接有安装座，所述阴极靶材安装在所述安装座上；所述驱动组件包括直线驱动件，所述直线驱动件设于所述固定座上并连接所述固定体。进一步的，所述溅射腔室内设有一组两面开口的阴极小室，所述阴极靶材伸入所述阴极小室内。进一步的，所述阴极小室内还设有抽真空机构，所述抽真空机构与外部的抽真空机相连。进一步的，所述导向块上设有与所述导向槽的一侧壁抵触的滚动轴承。本技术的有益效果在于：本多腔体超低温磁控溅射镀膜机中，冷却辊直径大且温度低，大幅度提高了对来料薄膜的冷却能力，使得工艺室内能够设置更多数量的溅射腔室及阴极靶材，从而提高生产效率。附图说明图1为本技术实施例一的多腔体超低温磁控溅射镀膜机的结构示意图；图2为本技术实施例二的多腔体超低温磁控溅射镀膜机的结构示意图(阴极靶材位于阴极小室内时)；图3为图2中细节A的放大图；图4为本技术实施例二的多腔体超低温磁控溅射镀膜机的结构示意图(阴极靶材退出阴极小室内时)。标号说明：1、放卷室；2、工艺室；3、缓存室；4、收卷室；5、冷却辊；6、溅射腔室；61、阴极小室；7、阴极靶材；8、挡板；9、换靶机构；91、固定座；92、导向槽；93、固定体；94、第一伸缩杆；95、第二伸缩杆；96、安装座；97、直线驱动件；10、前处理室。具体实施方式为详细说明本技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。请参照图1至图4，多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室2，所述工艺室2内设有冷却辊5和溅射腔室6，溅射腔室6内设有阴极靶材7，所述溅射腔室6的数量为四个，所述冷却辊5的直径大于或等于65cm，所述冷却辊5的温度低于或等于-15℃。从上述描述可知，本技术的有益效果在于：本多腔体超低温磁控溅射镀膜机中，冷却辊5直径大且温度低，大幅度提高了对来料薄膜的冷却能力，使得工艺室2内能够设置更多数量的溅射腔室6及阴极靶材7，从而提高生产效率。进一步的，所述冷却辊5内设有第一冷却道，所述第一冷却道内设有氟利昂。由上述描述可知，氟利昂具有强大的冷却能力，能够提高冷却辊5的散热性能，从而使得本多腔体超低温磁控溅射镀膜机能够长时间稳定地工作。进一步的，所述冷却辊5的材质为不锈钢。由上述描述可知，不锈钢材质的冷却辊5更耐低温，利于延长多腔体超低温磁控溅射镀膜机的使用寿命。进一步的，所述工艺室2的数量为两个。由上述描述可知，本多腔体超低温磁控溅射镀膜机能够实现对来料薄膜的多次溅镀，实现对镀层进行加厚处理。进一步的，还包括缓存室3，所述缓存室3位于两个所述工艺室2之间且分别与两个所述工艺室2连通。由上述描述可知，缓存室3用于缓存来料薄膜，利于保证多腔体超低温磁控溅射镀膜机长时间稳定地运行。进一步的，相邻的两个所述溅射腔室6之间通过挡板8隔离，所述挡板8内设有第二冷却道，所述第二冷却道内设有冷却介质。由上述描述可知，挡板8的设置可以防止相邻溅射腔室6相互影响，利于保证多腔体超低温磁控溅射镀膜机工作的稳定性，同时，第二冷却道的存在更能够提高多腔体超低温磁控溅射镀膜机的散热能力。进一步的，所述工艺室2内还设有换靶机构9，所述换靶机构9包括导向组件、支撑组件和驱动组件，导向组件包括固定座91，所述固定座91上设有四组导向槽92，四组所述导向槽92分别对应于四个所述溅射腔室6设置，每组所述导向槽92的长轴的延长线均与所述冷却辊5的中心轴相交；所述支撑组件包括固定体93、两个第一伸缩杆94和两个第二伸缩杆95，所述第一伸缩杆94的一端可伸缩设于所述固定体93内，所述第二伸缩杆95的一端可伸缩设于所述第一伸缩杆94内，所述第一伸缩杆94和第二伸缩杆95上分别设有与所述导向槽92相配合的导向块，所述第一伸缩杆94和第二伸缩杆95上分别连接有安装座96，所述阴极靶材7安装在所述安装座96上；所述驱动组件包括直线驱动件97，所述直线驱动件97设于所述固定座91上并连接所述固定体93。由上述描述可知，通过选择合适大小的阴极靶材7、调整各溅射腔室6的溅射速度可令四个溅射腔室6内的阴极靶材7同时消耗完毕，换靶机构9能够同时让四个溅射腔室6中承载阴极靶材7的部件退出溅射腔室6以便用户更换阴极靶材7，使得用户不再需要频繁地、逐个地操作四个溅射腔室6中承载阴极靶材7的部件退出溅射腔室6以更换阴极靶材7，提高了换靶效率，从而进一步提高了生产效率；无需人工一直照看，解放了人工，利于节约生产成本。进一步的，所述溅射腔室6内设有一组两面开口的阴极小室61，所述阴极靶材7伸入所述阴极小室61内。进一步的，所述阴极小室61内还设有抽真空机构，所述抽真空机构与外部的抽真空机相连。进一步的，所述导向块上设有与所述导向槽92的一侧壁抵触的滚动轴承。由上述描述可知，滚动轴承的设置使得支撑组件能本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，其特征在于：所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于-15℃。/n

【技术特征摘要】
1.多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，其特征在于：所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于-15℃。


2.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述冷却辊内设有第一冷却道，所述第一冷却道内设有氟利昂。


3.根据权利要求2所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述冷却辊的材质为不锈钢。


4.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述工艺室的数量为两个。


5.根据权利要求4所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：还包括缓存室，所述缓存室位于两个所述工艺室之间且分别与两个所述工艺室连通。


6.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：相邻的两个所述溅射腔室之间通过挡板隔离，所述挡板内设有第二冷却道，所述第二冷却道内设有冷却介质。


7.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述工艺室内...

【专利技术属性】
技术研发人员：王荣福，
申请(专利权)人：深圳市汉嵙新材料技术有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44