【技术实现步骤摘要】
一种高阻膜测试系统及其测试方法
本专利技术涉及高阻膜测试领域,尤其涉及一种高阻膜测试系统及其测试方法。
技术介绍
In-Cell抗干扰高阻镀膜,是在液晶显示器的液晶像素中镀上一层抗干扰防静电的高电阻膜层,膜层电阻达到10^8欧姆,是一种既具有防触控信号干扰又具有防静电的功能薄膜。In-Cell:是将触控感应线路搭载于显示面板内部,在薄膜晶体管阵列基板与彩色滤光片之间形成的盒内部嵌入触摸传感器功能,能有效减少光学胶等多种材料的使用,增加透光性的同时减少显示器件的厚度。在镀膜结束后需要对镀膜的产品进行检测,现有技术都是通过人工手动进行检测,检测效率低,存在漏检风险。
技术实现思路
为了克服现有技术中的至少部分缺陷,本专利技术实施例提供了一种高阻膜测试系统及其测试方法,其能够快速完成对镀膜产品的检测。本专利技术提供的技术方案如下:一种高阻膜测试系统,包括上卸料装置、硬度测量装置、厚度测量装置、亮度测量装置、电阻测量装置、附着力测量装置和控制装置,其中:所述硬度测量装置,用于对高阻膜的硬度进行检测,并将其与预设的硬度值进行对比,得出测试结果;所述厚度测量装置,用于对高阻膜的厚度进行检测,并将其与预设的厚度值进行对比,得出测试结果;所述亮度测量装置,用于对高阻膜的透光效果进行检测,并将其与预设的透光率进行对比,得出测试结果;所述电阻测量装置,用于对高阻膜的电阻进行检测,并将其与预设的电阻值进行对比,得出测试结果;所述附着力测量装置,用于对高阻膜的附着力进行检测,并将其 ...
【技术保护点】
1.一种高阻膜测试系统,其特征在于,包括上卸料装置、硬度测量装置、厚度测量装置、亮度测量装置、电阻测量装置、附着力测量装置和控制装置,其中:/n所述硬度测量装置,用于对高阻膜的硬度进行检测,并将其与预设的硬度值进行对比,得出测试结果;/n所述厚度测量装置,用于对高阻膜的厚度进行检测,并将其与预设的厚度值进行对比,得出测试结果;/n所述亮度测量装置,用于对高阻膜的透光效果进行检测,并将其与预设的透光率进行对比,得出测试结果;/n所述电阻测量装置,用于对高阻膜的电阻进行检测,并将其与预设的电阻值进行对比,得出测试结果;/n所述附着力测量装置,用于对高阻膜的附着力进行检测,并将其与预设的电阻值进行对比,得出测试结果;/n所述上卸料装置,用于将待检测的高阻模转移到硬度测量装置、厚度测量装置、亮度测量装置、电阻测量装置和附着力测量装置的检测工位上,所述上卸料装置还用于将检测合格或不合格的产品移出检测工位;/n所述控制装置与上卸料装置、硬度测量装置、厚度测量装置、亮度测量装置、电阻测量装置以及附着力测量装置信号连接,用于对上卸料装置、硬度测量装置、厚度测量装置、亮度测量装置、电阻测量装置以及附着力 ...
【技术特征摘要】
1.一种高阻膜测试系统,其特征在于,包括上卸料装置、硬度测量装置、厚度测量装置、亮度测量装置、电阻测量装置、附着力测量装置和控制装置,其中:
所述硬度测量装置,用于对高阻膜的硬度进行检测,并将其与预设的硬度值进行对比,得出测试结果;
所述厚度测量装置,用于对高阻膜的厚度进行检测,并将其与预设的厚度值进行对比,得出测试结果;
所述亮度测量装置,用于对高阻膜的透光效果进行检测,并将其与预设的透光率进行对比,得出测试结果;
所述电阻测量装置,用于对高阻膜的电阻进行检测,并将其与预设的电阻值进行对比,得出测试结果;
所述附着力测量装置,用于对高阻膜的附着力进行检测,并将其与预设的电阻值进行对比,得出测试结果;
所述上卸料装置,用于将待检测的高阻模转移到硬度测量装置、厚度测量装置、亮度测量装置、电阻测量装置和附着力测量装置的检测工位上,所述上卸料装置还用于将检测合格或不合格的产品移出检测工位;
所述控制装置与上卸料装置、硬度测量装置、厚度测量装置、亮度测量装置、电阻测量装置以及附着力测量装置信号连接,用于对上卸料装置、硬度测量装置、厚度测量装置、亮度测量装置、电阻测量装置以及附着力测量装置进行控制。
2.根据权利要求1所述的高阻膜测试系统,其特征在于,所述上卸料装置包括转动盘和沿所述转动盘的圆周方向设置的若干个机械手,在所述转动盘上开设有检测凹槽和废品槽,所述机械手用于将所述高阻膜放置到所述检测凹槽、所述检测工位或所述废品槽中,所述上卸料装置还包括驱动所述转动盘转动的伺服电机,所述伺服电机与所述控制装置信号连接。
3.根据权利要求1所述的高阻膜测试系统,其特征在于,所述硬度测量装置包括硬度测试台和设置在所述硬度测试台上的硬度测试仪,所述硬度测试台包括可调节高度的支撑杆和连接在所述支撑杆上的支撑台面,所述支撑台面上开设有限位槽,所述硬度测试仪的底面位于所述限位槽中。
4.根据权利要求1所述的高阻膜测试系统,其特征在于,所述厚度测量装置包括基准台面和设置在所述基准台面一侧的厚度检测机构,所述厚度检测机构为膜厚台阶机。
5.根据权利要求1所述的高阻膜测试系统,其特征在于,所述亮度测量装置包括光源和检测透过所述高阻膜后的光线的亮...
【专利技术属性】
技术研发人员:姜建峰,
申请(专利权)人:赫得纳米科技昆山有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏;32
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