带图案膜基板的制造方法技术

本发明专利技术的带图案膜基板的制造方法包含：对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板在基板上形成有具有图案的图案膜；及加热上述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序，通过上述清洗工序，上述第一带图案膜基板的图案膜的接触角减小，通过上述加热工序，上述第二带图案膜基板的图案膜的接触角得到恢复。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带图案膜基板的制造方法
本申请涉及带图案膜基板的制造方法。本申请中的带图案膜基板的制造方法例如可以在基于喷墨法的显示元件的制造中使用。作为显示元件，例如能够列举出有机电致发光显示器(以下，有机EL显示器)、微发光二极管显示器(以下，微LED显示器)或量子点显示器等。
技术介绍
使用喷墨法制造有机EL显示器、微LED显示器或量子点显示器等显示元件是众所周知的。作为使用喷墨法的这些显示元件的制造方法，能够列举出：通过喷嘴向以膜的凹凸的方式形成在基板上的图案的凹部滴加油墨的液滴并使其固化的方法；或者向作为亲液部和疏液部而预先形成在基板上的图案膜上滴加油墨的液滴从而使油墨附着在亲液部上的方法，其中，亲液部为油墨润湿部位、疏液部为排斥油墨的部位。在通过喷嘴向设置有凹凸的图案膜的低洼(凹部)处滴加油墨的液滴使其固化的方法中，为了制作这样的图案膜，可以采用下述方法：通过以图案状对形成在基板上的抗蚀膜的表面进行曝光，从而形成由曝光部和未曝光部构成的图案，将任意一个部位溶解在显影液中，在抗蚀膜上形成凹凸的光刻法；或者利用印刷技术在基板上形成具有凹凸的图案膜的压印法。在这样的具有凹凸的图案膜中，优选凹部的基板表面露出，优选露出的基板表面为亲液性。在喷墨法中，具有凹凸的图案膜的凸部被称为堤坝，在通过喷墨向图案膜的凹部滴加油墨时，堤坝发挥阻隔油墨混合的屏障作用。例如，专利文献1中公开了一种在使用喷墨法的有机EL显示器的制造中，用作油墨的有机EL元件用组合物。专利文献1中还记载了预先在基板上制造堤坝，滴加形成发光层的油墨(有机EL元件用组合物)，制造有机EL显示器用的显示元件。专利文献2中公开了一种液晶用彩色滤光片的制造方法，其特征在于，通过光刻法，在形成有遮光性部位的透光性基板上的遮光部位上形成光敏性化合物层，然后使用喷墨记录装置喷出油墨，从而使着色剂排列在透光性部位上，所述光敏性化合物层含有表面张力或临界表面张力为2.5×10-2[N/m]以下的疏水·疏油性化合物。专利文献2中还记载了，通过喷墨向图案膜的凹部滴加油墨时，通过使形成堤坝的光敏性化合物层中含有氟类聚合物或氟类表面活性剂，从而提高堤坝的疏液性、防止油墨越过堤坝入侵相邻的凹部。专利文献3中公开了一种用于通过光刻法获得由疏液区域和亲液区域构成的图案的疏液抗蚀剂组合物。专利文献3中还记载了，通过使用该疏液抗蚀剂组合物，可以通过喷墨法在基板上形成具有清晰的油墨润湿反差的疏液-亲液图案，以及作为在通过喷墨法向图案膜的凹部滴加油墨时防止油墨越过堤坝入侵相邻的凹部的方法，使作为凹部的基板表面为亲液性、堤坝表面为疏液性。专利文献4中公开了一种用于喷墨法的图案化用基板，其具有薄膜，所述薄膜上形成有规定高度的堤坝、以及由该堤坝分隔开的被涂布区域。专利文献4中还记载了，作为凹部的被涂布区域是亲液性的，作为凸部的堤坝是疏液性的。专利文献5中公开了一种正型光敏性树脂组合物，其可形成在固化膜表面具有高疏水性和疏油性的图像。专利文献5中还记载了，该正型光敏性树脂组合物适合用作液晶显示器或EL显示器中的层间绝缘膜、对应于喷墨方式的遮光材料或间隔材料。此外，专利文献4及5中还记载了，通过光刻在基板上形成图案膜时，作为图案膜凹部的基板表面被有机物污染，通过压印法形成图案膜时，在图案膜的凹部发生膜残留，因该等缺陷导致图案膜的凹部成为疏水性，因此对使用了亲水性油墨的带图案膜基板进行亲水化处理，使图案膜的凹部为亲水性。进行亲水化处理时，在喷墨中，图案膜的凹部不排斥油墨，可良好地向带图案膜基板滴加油墨。专利文献4中还记载有，通过使带图案膜基板与氧等离子气体及氟等离子气体接触，使作为图案膜的凹部的基板表面具有亲水性，使凸部的堤坝具有疏水性。根据专利文献5中记载的正型光敏性树脂组合物，可以获得在亲水化处理时的UV臭氧清洗后，作为堤坝的图案膜的表面仍保持高疏液性的带图案膜基板。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平11-54270号公报专利文献2：日本特开平10-197715号公报专利文献3：日本特开2012-220860号公报专利文献4：日本特开2000-353594号公报专利文献5：国际公开第2017/126610号
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题如专利文献4及5中所记载，为了提高作为图案膜的凹部的基板表面的亲液性，对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗时，堤坝的疏液性会在清洗后下降，通过喷墨法向图案膜的凹部滴加油墨时，存在油墨越过堤坝、或堤坝溶解于油墨的问题。本申请提供一种解决上述问题的带图案膜基板的制造方法。解决技术问题的技术手段本申请的专利技术人为了解决上述问题进行了深入研究，结果知晓了对含有特定的含氟共聚物的带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗时，图案膜的疏液性虽会暂时下降，但后续可通过加热而获得疏液性(疏液性得到恢复)。对于含有特定的含氟共聚物的图案膜，在UV臭氧清洗或氧等离子体清洗后，虽会观察到其对水、以及在喷墨法中用作油墨溶剂的苯甲醚的疏液性下降，但通过对该图案膜进行加热，对水、苯甲醚的已下降的疏液性均会恢复(参见本说明书[实施例]的表2及表4)。同样，对于含有特定的含氟共聚物的图案膜，在UV臭氧清洗或氧等离子体清洗后，虽然也会观察到其对丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)及二甲苯的疏液性下降，但通过对该图案膜进行加热，对PGMEA、二甲苯的已下降的疏液性也会得恢复(参见本说明书[实施例]的表6及表8)。如此，本申请的专利技术人意外地发现，对于含有特定的含氟共聚物的图案膜，通过在UV清洗后进行加热，疏液性得到显著恢复。推测疏液性通过加热而得到恢复的原因在于，通过UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，膜表面被氧化而成为亲液性，但因使用了可抑制聚合物主链裂解的特殊的含氟共聚物，随着由加热引起的分子运动，表面自由能小的氟烷基部向膜表面移动。在本申请中，UV臭氧清洗是指，对带图案膜基板照射紫外线，打破附着于图案膜及带图案膜基板的凹部的有机污染物的化学键，同时从通过紫外线照射而产生的臭氧中分离出的活性氧与有机污染物化学键合，将其分解为二氧化碳及水等挥发性物质，从而除去有机污染物的方法。作为紫外线照射装置，通常使用低压汞灯。此外，氧等离子体清洗是指，对含有氧分子的气体施加高压，通过使氧分子解离而产生的活性氧，将附着于带图案膜基板的表面的有机污染物分解为二氧化碳及水等挥发性物质从而将其除去的方法。以下，公开专利技术1～22。[专利技术1]一种带图案膜基板的制造方法，其包含：对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板在基板上形成有具有图案的图案膜；及加热所述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序，通过所述清洗工序，所述第一带图案膜基板的图案膜的接触角减小，通过所述加热工序，所述第二带图案膜基板的图案膜的接触角得到恢复。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带图案膜基板的制造方法，其包含：/n对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板在基板上形成有具有图案的图案膜；及/n加热所述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序，/n通过所述清洗工序，所述第一带图案膜基板的图案膜的接触角减小，/n通过所述加热工序，所述第二带图案膜基板的图案膜的接触角得到恢复。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180523 JP 2018-0986791.一种带图案膜基板的制造方法，其包含：
对带图案膜基板进行UV臭氧清洗或氧等离子体清洗，得到第一带图案膜基板的清洗工序，其中，所述带图案膜基板在基板上形成有具有图案的图案膜；及
加热所述第一带图案膜基板而得到第二带图案膜基板的加热工序，
通过所述清洗工序，所述第一带图案膜基板的图案膜的接触角减小，
通过所述加热工序，所述第二带图案膜基板的图案膜的接触角得到恢复。


2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，将从所述第二带图案膜基板的图案膜对苯甲醚的接触角中减去所述第一带图案膜基板的图案膜对苯甲醚的接触角而得到的值记为DA1时，DA1为10°以上。


3.根据权利要求2所述的制造方法，其中，将从所述清洗工序前的图案膜对苯甲醚的接触角中减去所述第一带图案膜基板的图案膜对苯甲醚的接触角而得到的值记为DA0时，DA1/DA0为0.30以上。


4.根据权利要求1～3中任意一项所述的制造方法，其中，
将从所述第二带图案膜基板的图案膜对水的接触角中减去所述第一带图案膜基板的图案膜对水的接触角而得到的值记为DW1时，DW1为10°以上；
将从所述清洗工序前的图案膜对水的接触角中减去所述第一带图案膜基板的图案膜对水的接触角而得到的值记为DW0时，DW1/DW0为0.50以上。


5.根据权利要求1～4中任意一项所述的制造方法，其中，将从所述第二带图案膜基板的图案膜对丙二醇单甲醚乙酸酯的接触角中减去所述第一带图案膜基板的图案膜对丙二醇单甲醚乙酸酯的接触角而得到的值记为DP1时，DP1为10°以上。


6.根据权利要求5所述的制造方法，其中，将从所述清洗工序前的图案膜对丙二醇单甲醚乙酸酯的接触角中减去所述第一带图案膜基板的图案膜对丙二醇单甲醚乙酸酯的接触角而得到的值记为DP0时，DP1/DP0为0.30以上。


7.根据权利要求1～6中任意一项所述的制造方法，其中，将从所述第二带图案膜基板的图案膜对二甲苯的接触角中减去所述第一带图案膜基板的图案膜对二甲苯的接触角而得到的值记为DX1时，DX1为15°以上。


8.根据权利要求7所述的制造方法，其中，将从所述清洗工序前的图案膜对二甲苯的接触角中减去所述第一带图案膜基板的图案膜对二甲苯的接触角而得到的值记为DX0时，DX1/DX0为0.80以上。


9.根据权利要求1～8中任意一项所述的制造方法，其中，所述第一带图案膜基板的图案膜对水的接触角为50°以上、且对苯甲醚的接触角为30°以上；
所述第二带图案膜基板的图案膜对水的接触角为93°以上、且对苯甲醚的接触角为50°以上。


10.根据权利要求1～9中任意一项所述的制造方法，其中，所述第一带图案膜基板的图案膜对丙二醇单甲醚乙酸酯的接触角为19°以上、且对二甲苯的接触角为20°以上；
所述第二带图案膜基板的图案膜对丙二醇单甲醚乙酸酯的接触角为40°以上、且对二甲苯的接触角为45°以上。


11.根据权利要求1～10中任意一项所述的制造方法，其中，所述图案膜包含具有式(A)所示的重复单元的含氟共聚物，
[化学式1]



式中，R1为氢原子、氟原子或碳原子数1～20的烷基，该烷基中的与碳原子键合的氢原子的一部分或全部任选被氟原子取代；Q为碳原子数1～20的氟烷基，其任选具有氢原子、氧原子或氮原子；X为单键或2价基团；O为氧原子。


12.根据权利要求11所述的制造方法，其中，所述含氟共聚物为下述含氟共聚物(1)～(3)中的任一种，
含氟共聚物(1)：同时含有下述式(A)所示的重复单元及式(B)所示的重复单元，
[化学式2]



式中，R1、R2各自独立地为氢原子、氟原子...

【专利技术属性】
技术研发人员：兼子让，青木贵志，野村祐介，佐佐木佳子，佐野明日香，
申请(专利权)人：中央硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP