一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，包括以下步骤：制备显控面板基板，并进行定位打孔、采用激光打点刻蚀的方式刻蚀出装饰图案的点图案、对显控面板基板装饰面表面进行打磨、热压一层透明高阻隔性保护膜层、制备色彩图案片材，并与显控面板基板装饰面热压成型、热压一层透明耐腐蚀性保护膜层；本发明专利技术通过制备出的显控面板基板本身具备的高耐腐蚀性，可以减少色彩图案被氧化腐蚀，采用激光打点刻蚀出装饰图案的点图案与在聚酯片材上印刷的色彩图案相结合，可以提高显控面板上色彩图案的显色度和清晰度，同时聚酯片材上印刷色彩图案与点图案的结合紧密性高，色彩图案的油墨不易被氧化分解造成褪色，且具有一定的立体视觉效果。

【技术实现步骤摘要】
一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺
本专利技术涉及显控面板生产
，尤其涉及一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺。
技术介绍
随着人们的生活水平的提高，对居室装饰越来越重视，开关面板是居室装饰中必不可少的，各种各样的显控面板也都应运而生，传统的白色显控面板由于其价格低廉的性能，占领着主要市场，随着对居室装饰高规格的要求，市面上出现了各种各样的质感以及色彩的显控面板。目前比较高档的显控面板主要在表面色彩图案上做改进，色彩图案的表现形式一般以在显控面板上贴上一层装饰面，装饰面可以采用不同的色彩图案，但是采用在显控面板上贴装饰面的方式会因为显控面板本身耐腐蚀性较差的问题而影响装饰面的色彩图案容易被氧化，时间一长色彩则会消退，图案清晰度降低，导致显控面板的装饰效果降低，同时增加了更换显控面板的成本投入，因此，本专利技术提出一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，以解决现有技术中的不足之处。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提出一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，通过制备出的显控面板基板本身具备的高耐腐蚀性，可以减少显控面板基板装饰面的色彩图案被氧化腐蚀，通过采用激光打点刻蚀出装饰图案的点图案与在聚酯片材上印刷的色彩图案相结合，可以提高显控面板上色彩图案的显色度和清晰度，同时聚酯片材上印刷色彩图案与点图案的结合紧密性高，色彩图案的油墨不易被氧化分解造成褪色，且具有一定的立体视觉效果，能有效提高显控面板的美观度，降低了成本消耗。本专利技术提出一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，包括以下步骤：步骤一：制备显控面板基板，采用聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅制备出显控面板基板，并对显控面板基板进行定位打孔；步骤二：采用激光打点刻蚀的方式在显控面板基板装饰面上刻蚀出装饰图案的点图案；步骤三：对显控面板基板装饰面表面进行打磨，在显控面板基板装饰面形成磨砂层；步骤四：在显控面板基板装饰面的磨砂层上热压一层透明高阻隔性保护膜层，并对多余部分的透明高阻隔性保护膜层进行裁剪去除；步骤五：制备色彩图案片材，将选择好的聚酯片材经过裁剪、色彩印刷后和烤制，制成色彩图案片材，然后在色彩图案片材上进行定位打孔，然后将制成的色彩图案片材与显控面板基板装饰面采用热压机进行热压成型；步骤六：在显控面板基板装饰面的色彩图案片材上热压一层透明耐腐蚀性保护膜层，并对多余部分的透明耐腐蚀性保护膜层进行裁剪去除。进一步改进在于：所述步骤一中聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅的质量比成份为：35-40份聚乙烯、30-35份聚丙烯、25-28份聚四氟乙烯、12-14份轻质硬脂酸钙、10-12份滑石粉、8-12份纳米二氧化钛和8-12份纳米二氧化硅。进一步改进在于：所述步骤一中显控面板基板的制备过程为：1-1：将聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅加入搅拌釜内，将搅拌釜内温度升高至120-135摄氏度，进行混合搅拌40-50分钟，得到混合料；1-2：将混合料导入双螺栓挤出机内进行挤出造粒，得到母粒；1-3：将母粒导入显控面板基板的成型模具内进行热压成型，制成显控面板基板。进一步改进在于：所述步骤二中具体过程为：2-1：在显控面板基板装饰面的相对面上涂覆一层透光性防镀油墨；2-2：在显控面板基板装饰面上覆盖金属镀膜，并对金属镀膜进行静压15-20分钟；2-3：在金属镀膜表面进行激光打点刻蚀，形成装饰图案的点图案。进一步改进在于：所述步骤三中在显控面板基板表面进行打磨时，采用400-450目砂纸对显控面板基板表面进行打磨，打磨加工量为0.3-0.5毫米。进一步改进在于：所述步骤四中控制热压的透明高阻隔性保护膜层厚度为0.2-0.3毫米。进一步改进在于：所述步骤五中制备色彩图案片材的具体过程为：5-1：将选择好的聚酯片材按照显控面板尺寸进行裁剪，控制聚酯片材的裁剪尺寸大于显控面板尺寸0.4-0.6毫米；5-2：色彩印刷，对裁剪好的聚酯片材表面进行色彩印刷，保证色彩印刷图案与步骤二中的点图案相同且完全重合；5-3：色彩印刷结束后将聚酯片材放入180-220摄氏度的烤箱内斤烤制3-3.8小时，制成色彩图案片材。进一步改进在于：所述步骤六中控制热压的一层透明耐腐蚀性保护膜层厚度为0.3-0.5毫米。本专利技术的有益效果为：通过制备出的显控面板基板本身具备的高耐腐蚀性，可以减少显控面板基板装饰面的色彩图案被氧化腐蚀，通过采用激光打点刻蚀出装饰图案的点图案与在聚酯片材上印刷的色彩图案相结合，可以提高显控面板上色彩图案的显色度和清晰度，同时聚酯片材上印刷色彩图案与点图案的结合紧密性高，色彩图案的油墨不易被氧化分解造成褪色，且具有一定的立体视觉效果，能有效提高显控面板的美观度，降低了成本消耗，经济性高，通过热压一层透明高阻隔性保护膜层和一层透明耐腐蚀性保护膜层可以有效提高显控面板的阻隔性和耐腐蚀性，能有效提高显控面板及其表面的色彩图案的使用寿命。具体实施方式为了加深对本专利技术的理解，下面将结合实施例对本专利技术做进一步详述，本实施例仅用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术保护范围的限定。实施例一一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，包括以下步骤：步骤一：制备显控面板基板，采用质量比成份为：35份聚乙烯、30份聚丙烯、25份聚四氟乙烯、12份轻质硬脂酸钙、10份滑石粉、8份纳米二氧化钛和8份纳米二氧化硅制备出显控面板基板，并对显控面板基板进行定位打孔；显控面板基板制备过程为：1-1：将聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅加入搅拌釜内，将搅拌釜内温度升高至130摄氏度，进行混合搅拌45分钟，得到混合料；1-2：将混合料导入双螺栓挤出机内进行挤出造粒，得到母粒；1-3：将母粒导入显控面板基板的成型模具内进行热压成型，制成显控面板基板。步骤二：采用激光打点刻蚀的方式在显控面板基板装饰面上刻蚀出装饰图案的点图案；具体过程为：2-1：在显控面板基板装饰面的相对面上涂覆一层透光性防镀油墨；2-2：在显控面板基板装饰面上覆盖金属镀膜，并对金属镀膜进行静压18分钟；2-3：在金属镀膜表面进行激光打点刻蚀，形成装饰图案的点图案。步骤三：对显控面板基板装饰面表面进行打磨，采用420目砂纸对显控面板基板表面进行打磨，打磨加工量为0.4毫米，在显控面板基板装饰面形成磨砂层；步骤四：在显控面板基板装饰面的磨砂层上热压一层透明高阻隔性保护膜层，控制热压的透明高阻隔性保护膜层厚度为0.25毫米，并对多余部分的透明高阻隔性保护膜层进行裁剪去除；步骤五：制备色彩图案片材，将选择好的聚酯片材经过裁剪、色彩印刷后和烤制，制成色彩图案片材，然后在色彩图案片材上进行定位打孔，然本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤一：制备显控面板基板，采用聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅制备出显控面板基板，并对显控面板基板进行定位打孔；/n步骤二：采用激光打点刻蚀的方式在显控面板基板装饰面上刻蚀出装饰图案的点图案；/n步骤三：对显控面板基板装饰面表面进行打磨，在显控面板基板装饰面形成磨砂层；/n步骤四：在显控面板基板装饰面的磨砂层上热压一层透明高阻隔性保护膜层，并对多余部分的透明高阻隔性保护膜层进行裁剪去除；/n步骤五：制备色彩图案片材，将选择好的聚酯片材经过裁剪、色彩印刷后和烤制，制成色彩图案片材，然后在色彩图案片材上进行定位打孔，然后将制成的色彩图案片材与显控面板基板装饰面采用热压机进行热压成型；/n步骤六：在显控面板基板装饰面的色彩图案片材上热压一层透明耐腐蚀性保护膜层，并对多余部分的透明耐腐蚀性保护膜层进行裁剪去除。/n

【技术特征摘要】
1.一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一：制备显控面板基板，采用聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅制备出显控面板基板，并对显控面板基板进行定位打孔；
步骤二：采用激光打点刻蚀的方式在显控面板基板装饰面上刻蚀出装饰图案的点图案；
步骤三：对显控面板基板装饰面表面进行打磨，在显控面板基板装饰面形成磨砂层；
步骤四：在显控面板基板装饰面的磨砂层上热压一层透明高阻隔性保护膜层，并对多余部分的透明高阻隔性保护膜层进行裁剪去除；
步骤五：制备色彩图案片材，将选择好的聚酯片材经过裁剪、色彩印刷后和烤制，制成色彩图案片材，然后在色彩图案片材上进行定位打孔，然后将制成的色彩图案片材与显控面板基板装饰面采用热压机进行热压成型；
步骤六：在显控面板基板装饰面的色彩图案片材上热压一层透明耐腐蚀性保护膜层，并对多余部分的透明耐腐蚀性保护膜层进行裁剪去除。


2.根据权利要求1所述的一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于：所述步骤一中聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅的质量比成份为：35-40份聚乙烯、30-35份聚丙烯、25-28份聚四氟乙烯、12-14份轻质硬脂酸钙、10-12份滑石粉、8-12份纳米二氧化钛和8-12份纳米二氧化硅。


3.根据权利要求1所述的一种高清晰图案耐腐蚀显控面板生产工艺，其特征在于：所述步骤一中显控面板基板的制备过程为：
1-1：将聚乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯、轻质硬脂酸钙、滑石粉、纳米二氧化钛和纳米二氧化硅加入搅拌釜内，将搅拌釜内温度升高至120-135摄氏度，进行混合搅拌40-50分钟，得到混合料；...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈学兵，徐云鸿，张信群，何韵，
申请(专利权)人：滁州英诺信电器有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34