本发明专利技术公开了一种高像素７００万以上数码相机用低通滤波器基片及制备方法。其原料的重量百分比组成为：Ｐ↓［２］Ｏ↓［５］、４０－５０、Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］、１５－２０、Ｎａ↓［２］Ｏ、２０－２５、Ｌｉ↓［２］Ｏ、１－３、ＢａＯ ５－８、ＭｇＯ１－５、Ｚｎｏ ２－６、Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］ １－５、ＣｕＯ １－３和Ｃｅ↓［２］Ｏ↓［３］ ０－１。其制备方法包括以下步骤：先将按上述的重量百分比原料Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］、Ｎａ↓［２］Ｏ、Ｌｉ↓［２］Ｏ、ＢａＯ、ＭｇＯ、ＺｎＯ、Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］、ＣｕＯ和Ｃｅ↓［２］Ｏ↓［３］一起放入配料箱，混合均匀后，再加入Ｐ↓［２］Ｏ↓［５］一起混匀；再加入原料总重０．５－５％比例的水作为催化剂进行预反应成反应料；然后将反应料加到石英坩埚里面进行高温熔制，熔制温度１２００－１３００℃，高温澄清５－６小时；将退火后的玻璃切割、磨砂、抛光制得所需外型及厚度的产品，得到高像素７００万以上数码相机用低通滤波器基片。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学玻璃，尤其涉及高像素700万以上数码相机用低通滤 波器基片及制备方法。
技术介绍
随着世界光电子行业的异常迅猛发展，在数码相机(Digital Camera)、数 码摄像机(Digital Video Camera)、 CCTV高级摄像系统，各类安全监视系统等 的成像要求也急剧提高。静止画面的成像画素已经从当初的数万提高到了目前 的高达1000万画素以上。已经进入普通老百姓的生活，带照相/摄像功能的手 机也已经达到300万画素以上。随着成像画素要求的不断提高，原先不为人们 所注重的成像缺陷等问题，已经逐渐变为人们无法接受，从而成为该领域亟待 解决的技术焦点。到目前为止， 一般通过镀膜来对光的选择从而满足分光要求。但是入射光 在膜层中的反复多次穿透以及反射来完成成像要求的光路中，由于部分杂散光 导致的像晕现象已经无法解决。 一些存在于光路中的光学部件上的极其微小的 纳米级的表面缺陷也被超高性能的光电转换部件CCD/CMOS等进行高倍放大，影 响成成像质量，是目前高画素成像系统中目前亟待解决的最大难点课题。有色光学玻璃在照相器材、科研、冶金、医疗仪器等众多领域有广泛的应 用，生产科技含量较高，生产工艺和配方复杂，世界先进国家的相关生产企业 基本垄断了该生产技术，并实行严格的技术保密和封锁，使我国相关光学玻璃 生产企业的技术相对较为薄弱。
技术实现思路
本专利技术的目的是从磷酸盐为基质，掺加了二价铜离子和四价铈离子，有效 的解决磷酸盐玻璃易析晶等难题，从而提供一种。高像素700万以上数码相机用低通滤波器基片，其原料的重量百分比组成为:P205A1203Na20Li20BaoMgoZnoB203CuoGe2o340-5015-2020-251-35-81-52-61-51-30-1高像素700万以上数码相机用低通滤波器基片的制备方法，其特征在于包 括以下步骤先将按上述的重量百分比原料A1203、 Na20、 Li20、 Bao 、 Mgo 、 Zno 、 B203 、 Cuo和Ce203—起放入配料箱，混合均匀后，再加入P205—起混匀;再加 入原料总重0.5-5%比例的水作为催化剂进行预反应成反应料；然后将反应料加 到石英坩埚里面进行高温熔制，熔制温度1200-1300°C，高温澄清5-6小时；将 退火后的玻璃切割、磨砂、抛光制得所需外型及厚度的产品，得到高像素700 万以上数码相机用低通滤波器基片。采用上述配方及工艺组成的本专利技术具有特殊的光谱选择吸收性功能，使原 来无法被镀膜所解决的杂散光被材料本身吸收变成热能。从根本上达到防止 CCD/CM0S等由于像素间隔引起的伪色及波纹等现象，降低红外光等对CCD/CMOS 成像的影响。由此材料所制成的各类超高精度补色玻璃超薄片广泛地应用于照 相机、摄像机、手机摄像头、投影仪、高级扫描仪、高级显微系统等各相关领 域。本专利技术具有以下特点1、 以磷酸盐为基质的，掺加了二价铜离子和四价铈离子，制备出适用于700 万以上像素数码相机用低通滤波器基片，可替代进口氟磷酸盐玻璃；2、 在磷铝酸盐玻璃基材上添加钡锌等金属氧化物，研制出高稳定性的磷酸 盐低通滤波基片；3、 开发了磷铝酸盐玻璃材料的制备技术，确立了熔制和后处理控制条件， 有效的解决磷酸盐玻璃易析晶等难题。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术作进一步的描鴻。下表是本专利技术的四个实施例，原料比例配方(重量百分比％)<table>table see original document page 5</column></row><table>上表所示配方中，所使用的为高纯度原材料。实施例1的高像素700万以上数码相机用低通滤波器基片的制备方法为-先按上表中实施例编号1中的重量百分比原料Al203 、Na20、 Li20、 Bao 、 Mgo 、 Zno 、 B203 、 Cuo和Ce203—起放入配料箱，混合均匀后，再和？205—起混匀； 再加入原料总重0.6%比例的水作为催化剂进行预反应成反应料；然后将反应料 加到石英坩埚里面进行高温熔制，熔制温度125(TC，高温澄清5小时；将退火 后的玻璃切割、磨砂、抛光制得所需外型及厚度的产品，得到本专利技术的高像素 700万以上数码相机用低通滤波器基片。上表中的实施例2、实施例3和实施例4的高像素700万以上数码相机用低通滤 波器基片的制备方法均为先将上表中实施例对应编号的重量百分比的原料 Al203、Na20、 Li20、 Bao 、 Mgo 、 Zno 、 B203 、 Cuo和Ce203 —起放入配料箱，分人 工和机械两步混均匀后，再加P20s—起混匀；再加入原料总重0.5-5%比例的水 作为催化剂进行预反应成反应料；然后将反应料加到石英坩埚里面进行高温烙 制，熔制温度1200-1300°C，高温澄清5-6小时；将退火后的玻璃切割、磨砂、 抛光制得所需外型及厚度的产品，得到本专利技术的高像素700万以上数码相机用 低通滤波器基片。经检测用上述四个配方和工艺制成的高像素700万以上数码相机用低通滤波器基片，其各项性能如下表所示:<table>table see original document page 6</column></row><table>该产品的光学性能与日本HOYA产品相当，部份指标优于国外同类产品，可 替代进口材料，为国家节省大量外汇，可促进我国数码相机等产品的开发进程。权利要求1、高像素700万以上数码相机用低通滤波器基片，其特征在于其原料的重量百分比组成为<tables id="tabl0001" num="0001" ><table><tgroup cols="10"><colspec colname="c001" colwidth="10%"/><colspec colname="c002" colwidth="10%"/><colspec colname="c003" colwidth="10%"/><colspec colname="c004" colwidth="10%"/><colspec colname="c005" colwidth="10%"/><colspec colname="c006" colwidth="10%"/><colspec colname="c007" colwidth="10%"/><colspec colname="c008" colwidth="10%"/><colspec colname="c009" colwidth="10%"/><colspec colname="c010" colwidth="9%"/><thead></column></row><row><column><entry morerows="1"> P2O5</entry><entry m本文档来自技高网...
【技术保护点】
高像素７００万以上数码相机用低通滤波器基片，其特征在于：其原料的重量百分比组成为： ＊＊＊。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：倪国强，顾敏强，顾敏娟，
申请(专利权)人：嘉善科瑞光学材料有限公司，
类型：发明
国别省市：33[中国|浙江]
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