镀制楔形膜用补正板制造技术

本实用新型专利技术公开一种镀制楔形膜用补正板，有基片（１），在基片（１）上设有角形切口（２）。使用时将其固定于基板支架前，蒸镀的膜厚与旋转基板透过角形切口而面对蒸镀源的时间成正比，因此基板只要平放（而无需倾斜）于基板支架上即可。克服了现有技术所存在的缺点，具有可有效利用基板支架面积、增加单次蒸镀镜片装载数量、减少蒸镀时间、削弱膜层柱状结构化倾向、取消膜厚梯度最大值限制等优点。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

-本技术涉及一种光学镜片镀膜用辅助装置，尤其是一种可有效利用基 板支架面积、增加单次蒸镀镜片装载数量、减少蒸镀时间、削弱膜层柱状结构 化倾向、取消膜厚梯度最大值限制的镀制楔形膜用补正板。技术背景-液晶投影仪光学系统中的蓝光反射分光镜片和绿光反射分光膜均因光路设 计的需要而要求镀制楔形膜，楔形膜即薄膜厚度随镜片的不同位置而按照一定 的梯度发生变化的薄膜。目前，在真空蒸发镀膜工艺中镀制楔形膜都是利用膜 厚与镜片(基板)与蒸发源的距离平方成反比的规律，而将光学基板倾斜放置 在沿水平方向旋转的基板支架上，存在着下述缺点1. 基板装载数量少为避免基板倾斜而产生的阴影效应，在基板支架圆周方向和径向上的基板间距必须加大，导致基板支架的面积利用率只有20% 30%，基板装载数量少， 工作效率低。2. 镀膜时间加长相对于基板平放时的膜厚增长速率，基板倾斜放置时膜厚增长速率减小到 sina倍(a :基板倾斜放置的倾斜角)。3. 膜层柱状结构化倾向明显，膜强度变弱。4. 膜厚梯度存在最大值限制(45°倾斜放置时的膜厚梯度为最大值)。
技术实现思路
-本技术是为了解决现有技术所存在的上述技术问题，而提供一种有效 利用基板支架面积、增加单次蒸镀镜片装载数量、减少蒸镀时间、削弱膜层柱 状结构化倾向、取消膜厚梯度最大值限制的镀制楔形膜用补正板。本技术的技术解决方案是 一种镀制楔形膜用补正板，其特征在于 有基片1，在基片1上设有角形切口 2。所述的基片1为弧面板。所述角形切口 2的至少一角边为弧形。本技术固定于基板支架前，蒸镀的膜厚与旋转基板透过角形切口而面 对蒸镀源的时间成正比，因此基板只要平放(而无需倾斜)于基板支架上即可。 克服了现有技术所存在的缺点，具有可有效利用基板支架面积、增加单次蒸镀 镜片装载数量、减少蒸镀时间、削弱膜层柱状结构化倾向、取消膜厚梯度最大 值限制等优点。附图说明-图1是本技术实施例的结构示意图。图2是图1的俯视图。图3是本技术实施例的使用状态示意图。具体实施方式下面将结合附图说明本技术的具体实施方式。如图1、 2所示 一种镀 制楔形膜用补正板，有基片1，在基片1上设有角形切口 2，角形切口的数量根 据基板支架上径向上的光学基板数量而定，使每一个角形切口与旋转基板支架3上每个同心圆上的光学基板4相对应，角形切口的两角边可以是直线或至少一角边为弧形，曲率可根据楔形膜倾斜量要求而定。基板1的面形基本与基板 支架面形相同，可为平面板或弧面。使用时将本技术实施例固定在基板支架的前面而不随基板支架旋转， 角形切口位于距离蒸发源相对较近的一侧，蒸镀在基板上的膜厚将随旋转基板 透过角形切口而面对蒸镀源的时间不同呈梯度变化，形成符合要求的楔形膜。权利要求1.一种镀制楔形膜用补正板，其特征在于有基片(1)，在基片(1)上设有角形切口(2)。2. 根据权利要求1所述的镀制楔形膜用补正板，其特征在于所述的基 片(1)为弧面。3. 根据权利要求1或2所述的镀制楔形膜用补正板，其特征在于所述 角形切口 (2)的至少一角边为弧形。专利摘要本技术公开一种镀制楔形膜用补正板，有基片(1)，在基片(1)上设有角形切口(2)。使用时将其固定于基板支架前，蒸镀的膜厚与旋转基板透过角形切口而面对蒸镀源的时间成正比，因此基板只要平放(而无需倾斜)于基板支架上即可。克服了现有技术所存在的缺点，具有可有效利用基板支架面积、增加单次蒸镀镜片装载数量、减少蒸镀时间、削弱膜层柱状结构化倾向、取消膜厚梯度最大值限制等优点。文档编号G02B1/10GK201199268SQ20082001303公开日2009年2月25日 申请日期2008年5月21日 优先权日2008年5月21日专利技术者单巨臣, 赵阳昆, 壮 陈 申请人:中国华录·松下电子信息有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀制楔形膜用补正板，其特征在于：有基片（１），在基片（１）上设有角形切口（２）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵阳昆，陈壮，单巨臣，
申请(专利权)人：中国华录松下电子信息有限公司，
类型：实用新型
国别省市：91[中国|大连]