一种水磨石抛光工艺制造技术

技术编号:26881848 阅读:66 留言:0更新日期:2020-12-29 15:15
本发明专利技术公开了一种水磨石抛光工艺,步骤1:将粗抛光盘安装在水磨石抛光装置上,通过粗抛光盘对地面进行打磨;步骤2:带地面干燥后,洒上水泥固化剂,等待6小时;步骤3:待水泥固化剂干燥后,将粗抛光盘更换为半精抛光盘,通过半精抛光盘对地面进行打磨石;步骤4:待地面干燥后,再次洒上水泥固化剂,等待6小时;步骤5:待地面干燥后,将半精抛光盘更换为精抛光盘,通过精抛光盘对地面进行打磨石,本发明专利技术不仅操作方便,且更换抛光盘快速,从而工作效率高。

A polishing process of terrazzo

【技术实现步骤摘要】
一种水磨石抛光工艺
本专利技术涉及抛光工艺,具体涉及一种水磨石抛光工艺。
技术介绍
水磨石也称磨石,是将碎石、玻璃、石英石等骨料拌入水泥粘接料制成混凝制品后经表面研磨、抛光的制品,传统的水磨石以其造价低廉、可任意调色拼花、施工方便等独特的优势,在中国有着巨大的市场,已在全国城乡各类建筑物中使用的水磨石地面有十亿平方米之多,水磨石在使用之前需要进行抛光,从而能够提高地面的平整度和光滑度,现有技术中的水磨石抛光是通过人工完成的,不仅效率低,且抛光质量难以保证,而存在的水磨石抛光装置在抛光时尺寸单一,只能使用特定的抛光盘,因此当需要不同参数的抛光盘抛光时,则更换麻烦,从而工作效率较低。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供一种水磨石抛光工艺,以解决上述技术问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种水磨石抛光工艺,包括以下步骤:步骤1:将粗抛光盘安装在水磨石抛光装置上,通过粗抛光盘对地面进行打磨,粗抛光盘的转速为2000转,粗抛光盘的直径为500mm;步骤2:带地面干燥后,洒上水泥固化剂,等待6小时;步骤3:待水泥固化剂干燥后,将粗抛光盘更换为半精抛光盘,通过半精抛光盘对地面进行打磨石,半精抛光盘的转速为2500转,半精抛光盘的直径为500mm;步骤4:待地面干燥后,再次洒上水泥固化剂,等待6小时;步骤5:待地面干燥后,将半精抛光盘更换为精抛光盘,通过精抛光盘对地面进行打磨石,半精抛光盘的转速为3000转,精抛光盘的直径为500mm。进一步地,该水磨石抛光装置包括:支架,所述支架上设有扶手,所述支架的下面设有辅助架,所述辅助架的底部设有一对前轮和一对后轮;喷水机构,所述喷水机构包括水箱,所述吸尘机构设置在所述支架上,所述水箱的下端设有水管,所述水管的下端穿过所述辅助架并向下延伸;吸尘机构,所述吸尘机构包括吸尘箱,所述吸尘箱设置在所述支架上,所述吸尘箱的下面设有吸尘管,所述吸尘管的下端穿过所述辅助架并向下延伸;驱动机构,所述驱动机构包括气缸,所述气缸设置在所述支架上,所述气缸的下面设有伸缩杆,所述伸缩杆的下端连接有连板;抛光机构,所述抛光机构设置在所述连板的下面,所述抛光机构包括固定箱,所述固定箱设置在所述连板的下面,所述固定箱内设有可转动的转盘,所述转盘的下面连接有连接箱,所述连接箱内设有左安装组件、右安装组件和插接杆,所述插接杆通过所述左安装组件和所述右安装组件安装在所述连接箱内,所述插接杆的下面设有抛光盘。更进一步地,所述左安装组件包括上滑块和下滑块,所述上滑块的右下斜面和所述下滑块的左上斜面相互滑动配合,所述上滑块在所述连接箱的第一腔的左侧壁上滑动,所述下滑块在所述第一腔的底部滑动,所述上滑块的上面设有楔块,所述楔块的上面滑动设有导块,所述导块的内部横向设有左横杆和螺钉,所述左横杆的两端延伸至所述第一腔的左右侧壁内,所述螺钉从所述连接箱的左端伸入所述第一腔内,且所述螺钉的右端横向穿过所述导块,所述螺钉和所述导块螺纹连接。更进一步地,所述下滑块的右端设有安装块,所述安装块的右端设有安装头,所述安装头卡接在所述插接杆左侧开设的侧槽内。更进一步地,所述右安装组件包括顶杆和第二底座,所述顶杆安装在所述连接箱右端开设的第一滑槽内,所述第二底座安装在所述连接箱底部设置的底板上,且所述第二底座位于开设在所述连接箱上面的第二腔内,所述第二底座的上面连接有第一弹簧,所述第一弹簧的另一端连接有第二铰接块,所述第二铰接块的另一端铰接有铰杆,所述铰杆的另一端连接有顶轮,所述顶轮抵持在所述插接杆右侧开设的第二滑槽内。更进一步地,所述右安装组件还包括键和限位杆,所述键连接在所述底板的右端下面,所述键的左端插接在所述第二滑槽内且所述键的底部和所述第二滑槽的底部相抵接,所述限位杆安装在所述内且位于所述铰杆的左下侧。更进一步地,所述第一腔的底部还设有第一底座,所述第一底座的上面套设有第二弹簧,所述第二弹簧的上端顶在所述上滑块的下面。更进一步地,所述下滑块的右端还设有第三弹簧,所述第三弹簧位于所述安装块的上面,所述第三弹簧的右端抵持在所述第一腔的右侧壁上。更进一步地,所述插接杆的上端右侧设有斜面。更进一步地,所述第二腔为横向贯通在所述连接箱右部分的腔体,所述第二腔的右端设有侧板。更进一步地,所述抛光机构还包括抛光电机,所述抛光电机安装在所述固定箱内,所述抛光电机的输出轴和所述转盘相连接,所述转盘通过轴承和所述固定箱相连接。更进一步地,所述水管的下面连接有喷头,所述喷头位于所述抛光盘的左侧,且所述喷头朝向所述抛光盘。更进一步地,所述吸尘管的下面连接有吸头,所述吸头位于所述抛光盘的右侧,且所述吸头朝向所述抛光盘。从上述的技术方案可以看出,本专利技术的优点是:1.本专利技术中设有左安装组件和右安装组件,通过左安装组件和右安装组件共同配合,能够使得抛光盘安装方便,从而更换速度更快。2.本专利技术中还设有喷水机构和吸尘机构,能够增加抛光装置的功能性,从而使得使用更加方便。3.本专利技术中还设有驱动机构,驱动机构能够使得抛光机构上下可调节,从而使得抛光范围更大。附图说明构成本申请的一部分的附图用来提供对本专利技术的进一步理解,本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术,并不构成对本专利技术的不当限定。图1为本专利技术的结构示意图。图2为图1的A处局部放大图。图3为图2的B处局部放大图。图4为图2的C处局部放大图。附图标记列表:支架1、扶手11、辅助架12、前轮13、后轮14、抛光机构2、固定箱21、转盘211、抛光电机22、连接箱23、第一滑槽231、第二腔232、侧板233、底板234、第一腔235、插接杆24、侧槽241、第二滑槽242、斜面243、抛光盘25、左安装组件26、上滑块261、第一底座2611、第二弹簧2612、下滑块262、第三弹簧2621、楔块263、导块264、左横杆265、螺钉266、安装块267、安装头2671、右安装组件27、顶杆271、第二底座272、第一铰接块273、第一弹簧274、第二铰接块275、铰杆276、顶轮277、键278、限位杆279、喷水机构3、水箱31、水管32、喷头33、驱动机构4、气缸41、伸缩杆411、连板43、吸尘机构5、吸尘箱51、吸尘管52、吸头53。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白,下面结合实施方式和附图,对本专利技术做进一步详细说明。在此,本专利技术的示意性实施方式及其说明用于解释本专利技术,但并不作为对本专利技术的限定。参考图1至图4,如图1所示的一种水磨石抛光工艺,包括以下步骤:步骤1:将粗抛光盘安装在水磨石抛光装置上,通过粗抛光盘对地面进行打磨,粗抛光盘的转速为2000转,粗抛光盘的直径为500mm;步骤2:带地面干燥后,洒上水泥固化剂,等待6小时;步骤3:待水泥固化剂干燥后,将粗抛光盘更换为半精抛光盘,通过半精抛光盘对地面进行打磨石本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种水磨石抛光工艺,其特征在于,包括以下步骤:/n步骤1:将粗抛光盘安装在水磨石抛光装置上,通过粗抛光盘对地面进行打磨,粗抛光盘的转速为2000转,粗抛光盘的直径为500mm;/n步骤2:带地面干燥后,洒上水泥固化剂,等待6小时;/n步骤3:待水泥固化剂干燥后,将粗抛光盘更换为半精抛光盘,通过半精抛光盘对地面进行打磨石,半精抛光盘的转速为2500转,半精抛光盘的直径为500mm;/n步骤4:待地面干燥后,再次洒上水泥固化剂,等待6小时;/n步骤5:待地面干燥后,将半精抛光盘更换为精抛光盘,通过精抛光盘对地面进行打磨石,半精抛光盘的转速为3000转,精抛光盘的直径为500mm。/n

【技术特征摘要】
1.一种水磨石抛光工艺,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:将粗抛光盘安装在水磨石抛光装置上,通过粗抛光盘对地面进行打磨,粗抛光盘的转速为2000转,粗抛光盘的直径为500mm;
步骤2:带地面干燥后,洒上水泥固化剂,等待6小时;
步骤3:待水泥固化剂干燥后,将粗抛光盘更换为半精抛光盘,通过半精抛光盘对地面进行打磨石,半精抛光盘的转速为2500转,半精抛光盘的直径为500mm;
步骤4:待地面干燥后,再次洒上水泥固化剂,等待6小时;
步骤5:待地面干燥后,将半精抛光盘更换为精抛光盘,通过精抛光盘对地面进行打磨石,半精抛光盘的转速为3000转,精抛光盘的直径为500mm。


2.根据权利要求1所述的水磨石抛光工艺,其特征在于,该水磨石抛光装置包括:支架(1),所述支架(1)上设有扶手(11),所述支架(1)的下面设有辅助架(12),所述辅助架(12)的底部设有一对前轮(13)和一对后轮(14);喷水机构(3),所述喷水机构(3)包括水箱(31),所述吸尘机构(5)设置在所述支架(1)上,所述水箱(31)的下端设有水管(32),所述水管(32)的下端穿过所述辅助架(12)并向下延伸;吸尘机构(5),所述吸尘机构(5)包括吸尘箱(51),所述吸尘箱(51)设置在所述支架(1)上,所述吸尘箱(51)的下面设有吸尘管(52),所述吸尘管(52)的下端穿过所述辅助架(12)并向下延伸;驱动机构(4),所述驱动机构(4)包括气缸(41),所述气缸(41)设置在所述支架(1)上,所述气缸(41)的下面设有伸缩杆(411),所述伸缩杆(411)的下端连接有连板(43);抛光机构(2),所述抛光机构(2)设置在所述连板(43)的下面,所述抛光机构(2)包括固定箱(21),所述固定箱(21)设置在所述连板(43)的下面,所述固定箱(21)内设有可转动的转盘(211),所述转盘(211)的下面连接有连接箱(23),所述连接箱(23)内设有左安装组件(26)、右安装组件(27)和插接杆(24),所述插接杆(24)通过所述左安装组件(26)和所述右安装组件(27)安装在所述连接箱(23)内,所述插接杆(24)的下面设有抛光盘(25)。


3.根据权利要求2所述的水磨石抛光工艺,其特征在于,所述左安装组件(26)包括上滑块(261)和下滑块(262),所述上滑块(261)的右下斜面和所述下滑块(262)的左上斜面相互滑动配合,所述上滑块(261)在所述连接箱(23)的第一腔(235)的左侧壁上滑动,所述下滑块(262)在所述第一腔(235)的底部滑动,所述上滑块(261)的上面设有楔块(263),所述楔块(263)的上面滑动设有导块(264),所述导块(264)的内部横向设有左横杆(265)和螺钉(266),所述左横杆(265)的两端延伸至所述第一腔(235)的左右侧壁内,所述螺钉(266)从所述连接箱(23)的左端伸入所述第一腔(235)内,且所述螺钉(266)的右端横向穿过所述导块(264),所述螺钉(266)和所述导块(264)螺纹连接。


4.根据权利要求3所述的水磨石抛光工艺,其特征在于,所述下...

【专利技术属性】
技术研发人员:蔡小郭黄成伟
申请(专利权)人:福建泉州南星大理石有限公司
类型:发明
国别省市:福建;35

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