一种反射膜制造技术

本实用新型专利技术涉及一种反射膜，其膜系结构为：基材层／Ｎ１／Ｎ２／Ｎ１／Ａｇ／Ａｌ，其中介质层Ｎ１相对于介质层Ｎ２具有较高的折射率，反射面为前表面结构，所述基材层为ＰＥＴ薄膜或者玻璃，所述材料层Ｎ１是ＴｉＯ↓［２］、Ｓｉ↓［３］Ｎ↓［４］、Ｔａ↓［２］Ｏ↓［５］、ＺｒＯ↓［２］、ＺＡＯ或ＩＴＯ薄膜，所述材料层Ｎ２是ＳｉＯ↓［２］或ＭｇＦ↓［２］薄膜。本实用新型专利技术提供了一种能使反射光谱的能量分布更接近于光源的能量分布的反射膜。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种反射膜，其特征在于膜系结构为：基材／Ｎ１／Ｎ２／Ｎ１／Ａｇ／Ａｌ，其中介质层Ｎ１相对于介质层Ｎ２具有较高的折射率，反射面为前表面结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：许生，胡云慧，高涵达，梁锐生，
申请(专利权)人：深圳豪威真空光电子股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]