本发明专利技术公开一种活性炭净化机构，包括活性炭层和用于控制活性炭层温度的温控组件，待处理气体穿过活性炭层进行吸附净化处理时，所述的温控组件控制所述活性炭层处于第一温度，所述的第一温度高于待处理气体的露点温度。本发明专利技术所述的活性炭净化机构利用活性炭在处于高于露点的温度情况下来对气体进行吸附净化处理，能有效避免含湿气体在通过活性炭层时发生结露，避免结露产生的液体堵塞活性炭层的微孔，保障活性炭层具有良好的吸附活性和通畅性，避免净化过程的气流压降过大，减小所需的送风功率，保障长效稳定的净化效果，延长活性炭层的使用寿命，降低维护更换成本。
【技术实现步骤摘要】
一种活性炭净化机构
本专利技术涉及气体净化处理
，尤其涉及一种活性炭净化机构。
技术介绍
在日常生产生活中存在着众多会产生有害气体的活动场景，有害气体直接排放对环境污染严重，因此通常都需要对气体进行净化处理，从而减小污染，满足绿色环保的要求。活性炭是一种常用的净化吸附材料，将有机原料在隔绝空气的条件下加热，以减少非碳成分，然后与气体反应，表面被侵蚀，产生微孔发达的结构。污染气体在通过活性炭时，活性炭能将污染物有效吸附脱除，活性炭的微孔口径小，容易发生堵塞，导致净化过程的气流压降大，影响气流通畅性，特别是在处理高湿气体时，高湿气体在活性炭上结露使得活性炭快速发生堵塞，净化过程难以正常进行，严重影响净化效果，活性炭的损耗更快，需要定期更换，使用成本高。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题和提出的技术任务是对现有技术进行改进，提供一种活性炭净化机构，解决目前技术中活性炭在净化气体时容易发生堵塞，使用寿命短，更换维护成本高的问题。为解决以上技术问题，本专利技术的技术方案是：一种活性炭净化机构，包括活性炭层和用于控制活性炭层温度的温控组件，待处理气体穿过活性炭层进行吸附净化处理时，所述的温控组件控制所述活性炭层处于第一温度，所述的第一温度高于待处理气体的露点温度。本专利技术所述的活性炭净化机构对气体进行吸附净化处理时，通过控制活性炭的温度超过露点温度来有效避免含湿气体在通过活性炭层时发生结露，避免结露产生的液体堵塞活性炭层的微孔，保障活性炭层具有持续良好的通畅性，避免净化过程的气流压降过大，减小所需的送风功率，保障过滤效率稳定，保障长效稳定的净化效果，延长活性炭层的使用寿命，降低维护更换频率和成本。进一步的，所述的第一温度为30～50℃。气体的露点温度不仅与温度有关，还与气体中的水分含量有关，通常而言含水量大的露点高，含水量小的露点低，当活性炭层处于30～50℃能有效保障高于待处理气体的露点温度，从而避免结露导致活性炭层发生堵塞，同时也避免长时间过高的温度导致活性炭层发生氧化，延长活性炭层的使用寿命，保障活性炭层的净化效率。进一步的，所述的温控组件控制活性炭层处于第二温度以进行脱附，当活性炭层吸附过多的污染物达到饱和状态时便无法再进行有效的净化吸附，将活性炭层加热以进行再生活化，从而无需直接更换活性炭层，降低使用成本，以达到循环使用经济环保的目的，通过加热的方式使得污染物发生分解反应，生成小分子脱附出来，从而使得活性炭恢复活性，可以再次进行净化吸附。进一步的，所述的第二温度为100～200℃，保障活性炭能够脱附活化，同时也避免活性炭发生氧化，保障活性炭层的净化性能。进一步的，所述的温控组件包括温控电源，所述温控电源与活性炭层电连接以对活性炭层通电，本专利技术采用对活性炭层通电的方式来使活性炭层自身发热，活性炭自身的电阻很大，导电率较低，在利用温控电源向活性炭层通入低压电流时便能使活性炭层自身发热，与采用额外的热源来对活性炭层进行加热相比，作用原理不同，并且实施更加方便简单，结构更加紧凑，额外的热源向活性炭层传导热量时存在能量传递率的问题，热源的能量无法充分的传递给活性炭层，能量损失大，从而能耗较大，温控电源通过线缆与活性炭层电导通即可实现活性炭层温度升高，能量利用率高，功耗低，易于维护。进一步的，所述的活性炭层外表设置有绝缘网，由于活性炭层处于通电状态，因此利用绝缘网来进行绝缘隔离，避免误触，提高安全性，并且绝缘网为网状结构也不会阻碍气流通过，保障良好的气流通畅性，保障净化效率。进一步的，所述的活性炭层呈筒状结构，气流可从筒状结构的内侧向外穿过活性炭层以进行吸附净化，也可以从筒状结构的外侧向内穿过活性炭层以进行吸附净化，筒状结构的活性炭层结构紧凑、稳定性好，在有限空间内具有较大的供气体穿过的交互面积，提高净化效率。进一步的，待处理气体从筒状结构的活性炭层的内侧向外侧穿过活性炭层以进行吸附净化处理，或者待处理气体从筒状结构的活性炭层的外侧向内侧穿过活性炭层以进行吸附净化处理，根据需要灵活的选择气流通过的方式。进一步的，所述筒状结构的活性炭层的轴向一端封闭，另一端开口以供气体流通，或者所述筒状结构的活性炭层的轴向两端都开口以供气体流通。进一步的，所述的温控组件还包括控制单元和在活性炭层上设置的温度传感器，控制单元接收温度传感器的监测信息以调节温控组件的功率来维持活性炭层温度稳定，确保活性炭层的温度稳定，避免出现温度过低而未能有效防止结露的状况，也避免出现温度过高增加功耗或导致活性炭层氧化损耗的状况。进一步的，所述的温控组件还包括在活性炭层的出气一侧和/或进气一侧设置的气体状态传感器，所述气体状态传感器包括风量风压传感器、湿度传感器其中至少一种，控制单元接收气体状态传感器的监测信息以使温控组件调节活性炭层的温度。气体的露点温度不仅与温度有关，还与气体中的水分含量有关，而待处理气体中的含水量是存在波动的，也就是说露点温度是存在波动的，如果一直保持活性炭层处于同一个温度值，则可能在待处理气体出现含水量波动增大时发生结露的状况，从而导致活性炭层发生堵塞，影响气流通畅性，影响净化效率，利用风量风压传感器来监测通过活性炭层后的气流的风量风压，从而能反映出活性炭层的堵塞状况，如果风量风压在短时间内发生降低则说明有结露导致堵塞，温控组件升高活性炭层的温度，从而对活性炭层上的结露进行有效加热使其蒸发，将活性炭层干燥以恢复吸附活性和通畅性，恢复高效的净化效果。还可以通过湿度传感器来检测出气一侧或进气一侧的气体状况，湿度传感器位于出气一侧时，若湿度低于预设值则说明待处理气体在活性炭层处发生了结露导致含湿量减小，从而温控组件升高活性炭层的温度以避免发生结露，保障整个净化过程的气体通畅性，湿度传感器位于进气一侧时，温控组件根据待处理气体的实时湿度来自动调整活性炭层的温度，有效避免出现结露的状况。与现有技术相比，本专利技术优点在于：本专利技术所述的活性炭净化机构利用活性炭在处于高于露点的温度情况下来对气体进行吸附净化处理，能有效避免含湿气体在通过活性炭层时发生结露，避免结露产生的液体堵塞活性炭层的微孔，保障活性炭层具有良好的吸附活性和通畅性，避免净化过程的气流压降过大，减小所需的送风功率，保障长效稳定的净化效果，延长活性炭层的使用寿命，降低维护更换成本。附图说明图1为活性炭净化机构实施例一的结构示意图；图2为活性炭净化机构实施例二的结构示意图；图3为活性炭净化机构实施例三在活性炭层轴端的结构示意图。图中：1、活性炭层；2、温控电源；3、导电片；4、控制单元；5、温度传感器；6、气体状态传感器；7、绝缘网；8、壳体；9、均流叶片。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种活性炭净化机构，其特征在于，包括活性炭层(1)和用于控制活性炭层(1)温度的温控组件，待处理气体穿过活性炭层(1)进行吸附净化处理时，所述的温控组件控制所述活性炭层(1)处于第一温度，所述的第一温度高于待处理气体的露点温度。/n
【技术特征摘要】
1.一种活性炭净化机构，其特征在于，包括活性炭层(1)和用于控制活性炭层(1)温度的温控组件，待处理气体穿过活性炭层(1)进行吸附净化处理时，所述的温控组件控制所述活性炭层(1)处于第一温度，所述的第一温度高于待处理气体的露点温度。
2.根据权利要求1所述的活性炭净化机构，其特征在于，所述的第一温度为30～50℃。
3.根据权利要求1所述的活性炭净化机构，其特征在于，所述的温控组件控制活性炭层(1)处于第二温度以进行脱附。
4.根据权利要求3所述的活性炭净化机构，其特征在于，所述的第二温度为100～200℃。
5.根据权利要求1所述的活性炭净化机构，其特征在于，所述的温控组件包括温控电源(2)，所述温控电源(2)与活性炭层(1)电连接以对活性炭层(1)通电。
6.根据权利要求5所述的活性炭净化机构，其特征在于，所述的活性炭层(1)外表设置有绝缘网(7)。
7.根据权利要求1至6任一项所述的活性炭净化机构，其特征在于，所述的活性炭层(1)呈筒状结构。
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【专利技术属性】
技术研发人员：肖仁旺，
申请(专利权)人：成都市珑熙科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川;51
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