光传输单元制造方法技术

一种光传输单元制造方法，所述的光传输单元具有光纤维所排列的光纤维块，其制造方法包括：把光纤维排列在基底中的领域按所设定的深度蚀刻便形成第１槽，而在基底上面形成光度波道，使之与第１槽对应并在一条直线上，将第１槽和光度波道之间的界面按所定深度蚀刻便形成第２槽（块），将光纤维置于在第１槽，将光纤维附着在光度波道，由此，可以减少制作工程时间及其费用。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光通讯系统所使用的光传输单元制造(fabricationoptical device)方法。(2)
技术介绍
一般而言，在光通讯系统，为了传送光信号使用光度波道传输单元。光度波道传输单元使用中链接于光纤维，只要精确地对准链接光纤维的中心与光度波道的中心，才能完成圆滑的光信号传送。但是，光纤维和光度波道间的链接技术不仅需要其高精密度，而且还需要高价的校准和链接辅助设备。这样的要求，对以低价进行大批生产光度波道传输单元，带来极大的影响。参见图1，图1所示的是链接光度波道和光纤维的一般方法，首先见各个制作光度波道传输单元，输入光纤维块及输出光纤维块。在这里，光纤维具备V字型的槽，光纤维配置在槽上面。在这样制作的光度波道传输单元及输入/输出光纤维块，将要结合的面进行研磨及磨光之后，利用摆正方法精密地链接。利用摆正方法时，首先，把一个光纤维1所固定着的输入光纤维块2相接于光度波道传输单元3的输入面。接着，摆正方法使输入光纤维块2微动，光纤维1通过光度波道传输单元3的输入光度波道6所输出的光强达到最大时，就对准输入光度波道与输入光纤维芯(core)的中心。这时，用激光、粘接剂，对接输入光纤维1和输入光度波道6。又把1个以上的输出光纤维所固定着的输出光纤维块4相接于光度波道的传输单元的输出面。然后，摆正方法把输出光纤维块4进行细微的移动，从输出光纤维通过一个以上的输入光纤维所输出的光强达到最大时，就相接光度波道传输单元与输出光纤维芯的中心。这时，利用激光或者粘接剂，对接输出光纤维和输出光度波道5。然而，这样的现有的链接方法是没有对准形成于光度波道传输单元的光度波道轴中心和安装于光纤维块光纤维轴中心的基准。由于，将光射入于光纤维，只是根据那时输出的光强大小判断对轴中心的最佳链接状态，故需要特殊的方法。此外，现在生产的光度波道传输单元及输入/输出光纤维块是，在各自不同的硅圆片，以成批处理而制作成小方块，一次就能生产许多传输单元和块。但是，把从彼此各异的硅基底所制作的光度波道传输单元和输入/输出光纤维块进行装配工序时，对一次链接，至少需要相当长的的作业时间，需要多台高价的摆正方法，故对传输单元的降低成本及其大批生产上带来绊脚石作用。最近，为解决这些问题，提出将光纤维块结合于光度波道传输单元构造的方案。即，使用一个基底，将光度波道传输单元和光纤维块，制造成一体，无需精密摆正方法，也在很快的时间内能简单地链接光度波道和光纤维芯。然而，光纤维作成一体化的光传输单元是，在其制作过程中，由于需要许多遮盖工序及嵌入工序，故，总而言之，它导致制造工序上的复杂性。因此，提高了工序单价，故此法存在着市场价格偏高的缺点。(3)
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决上述的问题，提供一种工序简单的。本专利技术的另一个目的是，提供能批量生产的。本专利技术一种，所述的光传输单元具有光纤维所排列的光纤维块，其制造方法包括准备基底的阶段；在所述的基底表面中，把所述的光纤维要排列的区域按设定深度进行蚀刻，并形成至少一个槽即第1槽的阶段；对应所述的第1槽，使之位于一条直线上，在所述的基底上面至少形成一个光度波道的阶段；将所述的第1槽和光度波道的界面，按设定深度进行蚀刻，并形成第2槽的阶段；又把所述的光纤维排列在所述的第1槽，包含把所述的光纤维链接在所述的光度波道。在这里，形成第一槽的阶段是在基底上面形成遮盖物，且作成模式化，光纤维将要排列着的领域的基底所露出的阶段；将遮盖物，以遮盖所需出的基底，以所定的深度蚀刻所形成的第一槽阶段；除去遮盖物的阶段。这时，基底由Si、GaAs InP中，以任意的一个所形成的，第一槽是，为了作成上幅宽，下幅窄的形态，则采纳湿式蚀刻方法。又，形成第1槽的阶段是准备形成设定模式的遮盖物的阶段；把遮盖物摆放排列在基底上端的阶段；利用遮盖物，将光纤维要排列的区域的基底，按设定深度进行蚀刻，便形成第1槽的阶段；清除遮盖的阶段。这时以干式蚀刻将第1槽刻成上部幅度宽，下部中间先窄的状态。又，形成光度波道的阶段是把下部包层在基底全面形成的阶段；在下部包层上形成磁芯层，且作成模式化，对应第一槽，置于一条直线上的区域，形成光度波道的阶段；包含光度波道全面形成上部包层的阶段；清除第一槽所形成的区域的上部包层及下部包层，使基底进行露出的阶段。又，上述第2槽是，在干式蚀刻、湿式蚀刻、方块锯切(dicing Sew)一半中任意取一个便可形成。第2槽的底面，使之置于排列在第一槽的光纤维底面的下方。一种，所述的光传输单元具有光纤维所排列的光纤维块，其制造方法包括准备基底的阶段；在所述的基底整而形成包层的阶段；在上述包层上形成磁芯层，并模式化，在设定区域至少形成一个光度波道的阶段；包含所述的光度波道整个面形成上/下部包层的阶段；利用设定模式而形成的遮盖物，将对应上述光度波道，成一直线位置的区域的上部包层进行一次蚀刻，将让上述基底露出，把上述露出的基底，按设定深度进行2次蚀刻，形成第1槽的阶段；将所述的第1槽和光度波道的分界面，以所设定深度蚀刻形成第2槽的阶段；又，在所述的第1槽排列上述光纤维，并把所述的光度波道链接所述的光纤维的阶段。这里，形成第1槽的阶段是准备所定模式所形成的遮盖物的阶段把遮盖物对应在基底上部的阶段；利用遮盖物，对光度波道，位于一条直线区域上的上/下部包层，以干式进行蚀刻，让基底露出的阶段；把遮盖物进行清除，将上部包层以遮盖所露出的基底，以所定深度进行湿式蚀刻，形成第1槽的阶段；将在第1槽两侧所余下的上/下部包层进行清除的阶段。本专利技术的功效如上述描述所制作的本专利技术是和现有的制造方法相比，工序简单，也可以批量生产，故不仅能减少制造工序时间以及工程费用，而且能改善其工序质量。通过上述内容，若是从事该项技术的人员在不脱离本专利技术的技术思想的范畴内，可以进行多样的变更及修改。为进一步说明本专利技术的上述目的、结构特点和效果，以下将结合附图对本专利技术进行详细的描述。(4)附图说明图1是根据现有技术的光度波道传输单元链接输入/输出光纤维块的一般方法。图2a至图2j所示的是，根据本专利技术第1实施范例的光传输单元制造工序的斜视图；图3a至图3j所示的是，根据本专利技术的第2实施例的光传输单元制造工序的斜视图；图4a至图4b所示的是，根据本专利技术的第3实施例的光传输单元制造工序的斜视图。(5)具体实施方式下面将本专利技术的实施例，参照附图作进一步说明首先，本专利技术的概念是光纤维块的制作与光传输单元一体化，是为了解决因复杂的工序所带来的成本提高的问题，首先设置要排列光纤维的第1槽，然后设置光度波道，将光度波道和光纤维块的链接部，以干式及湿式或者方块锯切(dicing saw)一半，形成第2槽，使工序进行简单化。第1实施例图2a至图2j是根据本专利技术第1实施例的制造工序所视的工序斜视图。图2a所示，在基底11上形成以硅氮化物作成的遮盖层12。图2b所示，使用一般的光刻术工序，将遮盖层12作成模式化，使光纤维要排列的区域的基底11露出。接着，图2c所示，在模式化的遮盖层12，把以遮盖所露出的基底11以湿式蚀刻工序进行蚀刻，形成第1槽13之后，便清除遮盖层12。在这里，第1槽13是，使之形成上幅宽，下幅窄的V型形态。此外，图2d及2e所示，在第1槽13所形成的基底11的一面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光传输单元制造方法，所述的光传输单元具有光纤维所排列的光纤维块，其特征在于所述的制造方法包括：准备基底的阶段；在所述的基底表面中，把所述的光纤维要排列的区域按设定深度进行蚀刻，并形成至少一个槽即第１槽的阶段；对应所述的第１槽 ，使之位于一条直线上，在所述的基底上面至少形成一个光度波道的阶段；将所述的第１槽和光度波道的界面，按设定深度进行蚀刻，并形成第２槽的阶段；又把所述的光纤维排列在所述的第１槽，包含把所述的光纤维链接在所述的光度波道。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金进镛，朴景赞，
申请(专利权)人：上海乐金广电电子有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]