【技术实现步骤摘要】
半导体存储装置[相关申请案]本申请案享受以日本专利申请案2019-111045号(申请日:2019年6月14日)为基础申请案的优先权。本申请案通过参照该基础申请案包含基础申请案的所有内容。
实施方式涉及一种半导体存储装置。
技术介绍
已知有能够非易失地存储数据的NAND(NotAND,反及)型闪速存储器。
技术实现思路
实施方式提供一种能够提升所存储数据的可靠性的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置包括包含第1区域、第2区域、多条第1字线、第1柱、第1接合金属及第1晶体管的存储器芯片。第1区域包含多个存储胞。第2区域与第1区域不同。多条第1字线在第1区域及第2区域,于第1方向上相互分离地积层。第1柱在第1区域包含贯通多条第1字线设置的第1半导体层及设置在第1半导体层与多条第1字线之间的第1绝缘体层。多条第1字线与第1半导体层的交叉部分分别作为存储胞发挥功能。第1接合金属设置在第2区域。第1晶体管在第2区域,设置在多条第1字线与第1接合金属之间的第1层,电连接在1条第1字线与所述第1接合金属之间。附图说明图1是表示第1实施方式的半导体存储装置的构成例的框图。图2是表示第1实施方式的半导体存储装置所具备的存储胞阵列的电路构成的一例的电路图。图3是表示第1实施方式的半导体存储装置所具备的感测放大器模块的电路构成的一例的电路图。图4是表示第1实施方式的半导体存储装置中的感测放大器单元的电路构成的一例的电路图 ...
【技术保护点】
1.一种半导体存储装置,具备存储器芯片,/n所述存储器芯片包含:/n第1区域,包含多个存储胞;/n第2区域,与所述第1区域不同;/n多条第1字线,在所述第1区域及所述第2区域中,在第1方向上相互分离地积层;/n第1柱,在所述第1区域包含贯通所述多条第1字线设置的第1半导体层及设置在所述第1半导体层与所述多条第1字线之间的第1绝缘体层,且所述多条第1字线与所述第1半导体层的交叉部分分别作为存储胞发挥功能;/n第1接合金属,设置在所述第2区域;及/n第1晶体管,在所述第2区域,设置在所述多条第1字线与所述第1接合金属之间的第1层,且连接在1条第1字线与所述第1接合金属之间。/n
【技术特征摘要】
20190614 JP 2019-1110451.一种半导体存储装置,具备存储器芯片,
所述存储器芯片包含:
第1区域,包含多个存储胞;
第2区域,与所述第1区域不同;
多条第1字线,在所述第1区域及所述第2区域中,在第1方向上相互分离地积层;
第1柱,在所述第1区域包含贯通所述多条第1字线设置的第1半导体层及设置在所述第1半导体层与所述多条第1字线之间的第1绝缘体层,且所述多条第1字线与所述第1半导体层的交叉部分分别作为存储胞发挥功能;
第1接合金属,设置在所述第2区域;及
第1晶体管,在所述第2区域,设置在所述多条第1字线与所述第1接合金属之间的第1层,且连接在1条第1字线与所述第1接合金属之间。
2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中
所述存储器芯片还包含:
多条第2字线,在所述第1区域及所述第2区域,与所述多条第1字线分离地设置,且在所述第1方向上相互分离地积层;
第2柱,在所述第1区域包含贯通所述多条第2字线设置的第2半导体层及设置在所述第2半导体层与所述多条第2字线之间的第2绝缘体层,且所述多条第2字线与所述第2半导体层的交叉部分分别作为存储胞发挥功能;及
第2晶体管,在所述第2区域设置在所述第1层,连接在1条第2字线与所述第1接合金属之间,且栅极电极与所述第1晶体管分离。
3.根据权利要求2所述的半导体存储装置,其中
所述存储器芯片还包含在所述第2区域电连接于所述第1晶体管的栅极的第2接合金属及电连接于所述第2晶体管的栅极的第3接合金属。
4.一种半导体存储装置,具备存储器芯片,
所述存储器芯片包含:
多条第1字线,在第1方向上相互分离地积层;
第1柱,包含贯通所述多条第1字线设置的第1半导体层及设置在所述第1半导体层与所述多条第1字线之间的第1绝缘体层,且所述多条第1字线与所述第1半导体层的交叉部分分别作为存储胞发挥功能;
第1位线,与所述第1半导体层电连接;
第1晶体管,与所述第1位线电连接;及
第1接合金属,经由所述第1晶体管与所述第1位线电连接。
5.根据权利要求4所述的半导体存储装置,其中
所述存储器芯片还包含:
第2柱,包含贯通所述多条第1字线设置的第2半导体层及...
【专利技术属性】
技术研发人员:前嶋洋,橋本寿文,前田高志,齋藤真澄,内海哲章,
申请(专利权)人:铠侠股份有限公司,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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