硅片清洗用添加剂及其应用制造技术

本发明专利技术公开了一种硅片清洗用添加剂，其各组分的质量百分含量为：苯甲酸钠2%～5%，壳聚糖1%～2%，脂肪醇聚氧乙烯醚0.5%～1%，丙三醇1%～3%，聚乙烯醇1%～3%，余量为水。在制绒工序前段进行前清洗操作时，在硅片的清洗液中加入本发明专利技术的添加剂，能减少清洗液中双氧水和碱的用量，在实际生产中，能达到降低两者原始用量的80%的水平，并且使电池效率略有提升，还能有效去除硅片表面残留的油污、手指印、粉尘等脏污，提升硅片外观洁净度和电池片良率。

【技术实现步骤摘要】
硅片清洗用添加剂及其应用
本专利技术涉及光伏领域，具体涉及一种硅片清洗用添加剂及其应用。
技术介绍
在太阳能电池的生产过程中，为了提高光的转换效率，需要对硅片进行制绒，而为了获得外观均匀干净无脏污、绒面大小规整排列整齐的硅片，需要在制绒工序前段进行前清洗操作，通过前清洗操作去除硅片表面残留的油污、粉尘、粘棒胶、手指印等影响制绒的物质。在目前的前清洗操作中，硅片的清洗液一般采用添加了双氧水的碱溶液（如氢氧化钠溶液）。为了达到清洗效果，需要采用大量的双氧水和碱对硅片进行清洗操作，这提高了前清洗操作的成本。而且清洗液所用的碱为强碱，双氧水为强氧化剂，故清洗后的废水需要多步处理，清洗液中双氧水和碱的含量大，这也增加了废水处理的成本。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种硅片清洗用添加剂及其应用，在硅片的清洗液中加入本专利技术的添加剂，可减少清洗液中双氧水和碱的用量，降低清洗成本，还能有效去除硅片表面残留的油污、手指印、粉尘等脏污，提升硅片外观洁净度和电池片良率。为实现上述目的，本专利技术提供一种硅片清洗用添加剂，其各组分的质量百分含量为：苯甲酸钠2%～5%，壳聚糖1%～2%，脂肪醇聚氧乙烯醚0.5%～1%，丙三醇1%～3%，聚乙烯醇1%～3%，余量为水。优选的，所述的硅片清洗用添加剂，其各组分的质量百分含量为：苯甲酸钠3%～4%，壳聚糖1%～1.5%，脂肪醇聚氧乙烯醚0.5%～0.8%，丙三醇1%～2%，聚乙烯醇2%～3%，余量为水。本专利技术还提供一种硅片清洗用清洗液，其含有碱溶液和上述的添加剂，添加剂与碱溶液的质量比为0.1～2:100；碱溶液为无机碱的水溶液，且碱溶液中配入了双氧水。优选的，所述碱溶液中含有0.06～0.1wt%的无机碱以及0.9～1.5wt%的双氧水。优选的，所述无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾。本专利技术还提供一种硅片清洗方法，利用上述的清洗液对硅片进行清洗。优选的，所述的硅片清洗方法，其具体步骤包括：1）配制添加剂：将质量百分含量为2%～5%的苯甲酸钠、1%～2%的壳聚糖、0.5%～1%的脂肪醇聚氧乙烯醚、1%～3%的丙三醇、1%～3%的聚乙烯醇加入到余量的水中，混合均匀配成添加剂；2）配制清洗液：将步骤1）制成的添加剂加到碱溶液中，混合均匀配成清洗液；添加剂与碱溶液的质量比为0.1～2:100；碱溶液为无机碱的水溶液，且碱溶液中配入了双氧水；无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾；3）将硅片置入步骤2）制得的清洗液中，于50～70℃清洗100～200s。优选的，步骤1）中，将质量百分含量为3%～4%的苯甲酸钠、1%～1.5%的壳聚糖、0.5%～0.8%的脂肪醇聚氧乙烯醚、1%～2%的丙三醇、2%～3%的聚乙烯醇加入到余量的水中，混合均匀配成添加剂。优选的，步骤2）中，所述碱溶液中含有0.06～0.1wt%的氢氧化钠或氢氧化钾以及0.9～1.5wt%的双氧水。优选的，步骤3）中，将硅片置入步骤2）制得的清洗液中，于60～65℃清洗100～150s。本专利技术的优点和有益效果在于：提供一种硅片清洗用添加剂及其应用，在硅片的清洗液中加入本专利技术的添加剂，可减少清洗液中双氧水和碱的用量，降低清洗成本，还能有效去除硅片表面残留的油污、手指印、粉尘等脏污，提升硅片外观洁净度和电池片良率。脂肪醇聚氧乙烯醚能降低清洗液的表面张力，使溶液对脏污具有良好的润湿和渗透效果，将吸附在硅片表面的脏污能够有效剥离，并且通过乳化和增溶作用提高脏污在清洗液中的溶解和稳定状态，防止脏污在硅片表面的二次吸附，影响清洗效果。苯甲酸钠具有良好的杀菌防腐效果，能够有效提高提高添加剂/清洗液的稳定性，延长添加剂/清洗液的保质期。壳聚糖能通过分子中的氨基、羟基与金属离子形成稳定的螯合物，可用于硅片表面金属离子的去除，降低硅片表面杂质金属含量，减少杂质金属离子对电池的影响，并且壳聚糖本身无毒，可生物降解，在废水处理过程中，不会造成二次污染。丙三醇具有一定的扩散和渗透作用，能够促进清洗液对脏污的清洗力，加强脏污在硅片表面的剥离程度。聚乙烯醇具有乳化作用，降低溶液中各组分的界面张力，阻止脏污颗粒的彼此团聚现象的发生，提高溶液对脏污的分散作用。在制绒工序前段进行前清洗操作时，在硅片的清洗液中加入本专利技术的添加剂，能减少清洗液中双氧水和碱的用量，可将清洗液中碱（氢氧化钠或氢氧化钾）的含量降低至0.06wt%，双氧水的含量降低至0.9wt%，在实际生产中，能达到降低两者原始用量的80%的水平，并且使电池效率略有提升，还能有效去除硅片表面残留的油污、手指印、粉尘等脏污，提高硅片的外观洁净度的良率。附图说明图1是实施例1对手指印去除效果的示图；图2是对比例1对手指印去除效果的示图。具体实施方式下面结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本专利技术的技术方案，而不能以此来限制本专利技术的保护范围。本专利技术在制绒工序前段对硅片进行前清洗操作，具体步骤包括：1）配制添加剂：将质量百分含量为2%～5%的苯甲酸钠、1%～2%的壳聚糖、0.5%～1%的脂肪醇聚氧乙烯醚、1%～3%的丙三醇、1%～3%的聚乙烯醇加入到余量的水中，混合均匀配成添加剂；2）配制清洗液：将步骤1）制成的添加剂加到碱溶液中，混合均匀配成清洗液；添加剂与碱溶液的质量比为0.1～2:100；碱溶液为无机碱的水溶液，且碱溶液中配入了双氧水；碱溶液中含有0.06～0.1wt%的无机碱以及0.9～1.5wt%的双氧水；无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾；3）将硅片置入步骤2）制得的清洗液中，于50～70℃清洗100～200s。优选的，步骤1）中，将质量百分含量为3%～4%的苯甲酸钠、1%～1.5%的壳聚糖、0.5%～0.8%的脂肪醇聚氧乙烯醚、1%～2%的丙三醇、2%～3%的聚乙烯醇加入到余量的水中，混合均匀配成添加剂。优选的，步骤3）中，将硅片置入步骤2）制得的清洗液中，于60～65℃清洗100～150s。本专利技术的具体实施例如下：实施例1在制绒工序前段对有手指印的硅片进行前清洗操作，具体步骤包括：1）配制添加剂：将质量百分含量为3.5%的苯甲酸钠、1.2%的壳聚糖、0.5%的脂肪醇聚氧乙烯醚、1.8%的丙三醇、2.2%的聚乙烯醇加入到余量的水中，混合均匀配成添加剂；2）配制清洗液：将步骤1）制成的添加剂加到碱溶液中，混合均匀配成清洗液；添加剂与碱溶液的质量比为0.5:100；碱溶液为氢氧化钠的水溶液，且碱溶液中配入了双氧水；碱溶液中含有0.06wt%的氢氧化钠以及0.9wt%的双氧水；3）将硅片置入步骤2）制得的清洗液中，于60℃清洗120s。实施例2在制绒工序前段对有手指印的硅片进行前清洗操作，具体步骤包括：1）配制添加剂：将质量百分含量为5%的苯甲酸钠、2%的壳聚糖、1%的脂本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.硅片清洗用添加剂，其特征在于，其各组分的质量百分含量为：苯甲酸钠2%～5%，壳聚糖1%～2%，脂肪醇聚氧乙烯醚0.5%～1%，丙三醇1%～3%，聚乙烯醇1%～3%，余量为水。/n

【技术特征摘要】
1.硅片清洗用添加剂，其特征在于，其各组分的质量百分含量为：苯甲酸钠2%～5%，壳聚糖1%～2%，脂肪醇聚氧乙烯醚0.5%～1%，丙三醇1%～3%，聚乙烯醇1%～3%，余量为水。


2.根据权利要求1所述的硅片清洗用添加剂，其特征在于，其各组分的质量百分含量为：苯甲酸钠3%～4%，壳聚糖1%～1.5%，脂肪醇聚氧乙烯醚0.5%～0.8%，丙三醇1%～2%，聚乙烯醇2%～3%，余量为水。


3.硅片清洗用清洗液，其特征在于，其含有碱溶液和权利要求1所述的添加剂，添加剂与碱溶液的质量比为0.1～2:100；碱溶液为无机碱的水溶液，且碱溶液中配入了双氧水。


4.根据权利要求3所述的硅片清洗用清洗液，其特征在于，所述碱溶液中含有0.06～0.1wt%的无机碱以及0.9～1.5wt%的双氧水。


5.根据权利要求4所述的硅片清洗用清洗液，其特征在于，所述无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾。


6.硅片清洗方法，其特征在于，利用权利要求3、4或5所述的清洗液对硅片进行清洗。


7.根据权利要求6所述的硅片清洗方法，其特征在于，其具体步骤包括：
...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡聿明，杨洋，章圆圆，
申请(专利权)人：常州时创能源股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32