本发明专利技术提供一种能够在基片膜上形成无外观缺陷、且膜厚均匀的涂膜的涂膜片材的制造方法。上述涂膜片材的制造方法包括：将含有树脂材料和溶剂的涂敷液涂敷在连续行进的基片膜上的涂敷工序，和干燥通过前述涂敷工序涂敷在基片膜上的涂膜的干燥工序，控制前述涂敷液的粘度为７０～８０００ｍＰａ.ｓｅｃ，并控制前述涂敷工序中前述基片膜的行进速度的变化率为３．０％以下。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及主要应用于光学元件和图像显示装置等中的涂膜片材的制造方法。
技术介绍
在TV和个人计算机等办公自动化机器的显示装置中，使用具有薄壁轻量、耗电量低等突出优点的液晶显示装置。目前的液晶显示装置包括下述的光学功能层用于形成位相差膜的液晶层，用于表面保护的硬涂层、抗反射膜等表面处理涂膜等。伴随着光学功能的高性能化，以薄膜的状态形成上述光学功能层，如果该光学功能层的膜厚不均，则使用时图像显示装置(例如液晶显示装置)的显示性能降低。另外，所述光学功能层可以如下制造，将具有光学能功能的树脂等溶解于溶剂中得到涂敷液，将其涂敷在基片膜上，通过干燥等工序，在该基片膜上形成涂膜。所述涂敷液的涂敷方式可以采用，缝口模头、反转照相凹版涂布和微照相凹版法等各种方式(例如可参考专利文献1)。近年来，随着光学功能的高性能化，必须开发出能够提高具有光学功能的涂膜的均匀性的制造方法。通常，在涂膜小于等于几μm的均匀涂敷时，通过使涂敷液的粘度降到几十mPa·sec以下的低粘度，利用拉平效应等，进行薄膜的涂敷。然而，在采用低粘度涂敷液的方法时，具有下述的问题，从在基片膜上涂敷该涂敷液的工序到移送至干燥工序的过程中，涂敷了涂敷液的基片膜的局部上发生树脂流动，若树脂在这种状态下固化，涂膜面上由于缩孔产生辉点，由于局部树脂层的厚度差产生干涉不均、相位差不均等外观缺陷，难以在基片膜上形成无外观缺陷的涂膜。因此，期望开发一种能在基片膜上形成无外观缺陷、膜厚均匀的涂膜的涂膜片材的制造方法。专利文献1日本特开昭62-140672号公报
技术实现思路
基于上述问题和期望，本专利技术旨在提供一种能在基片膜上形成无外观缺陷、膜厚均匀的涂膜的涂膜片材的制造方法。为了解决前述的问题，本专利技术的专利技术者们经过反复认真研究，结果发现，通过将基片膜上涂敷的涂敷液的粘度和基片膜的行进速度的变化率控制在规定范围内，可以在基片膜上形成均匀膜厚的涂膜，从而完成了本专利技术。即，本专利技术涉及一种涂膜片材的制造方法，其包括，将含有树脂材料和溶剂的涂敷液涂敷在连续行进的基片膜上的涂敷工序，和干燥在前述涂敷工序中涂敷在基片膜上的涂膜的干燥工序，其特征在于控制前述涂敷液的粘度为70～8000mPa·sec，并控制前述涂敷工序中前述基片膜的行进速度的变化率小于等于3.0％。通过将前述涂敷液的粘度控制为70～8000mPa·sec，在涂敷工序和干燥工序之间，抑制了树脂流动，因而可以抑制由于缩孔产生的辉点，由于厚度差产生的干涉不均、相位差不均等外观缺陷，通过将前述涂敷工序中前述基片膜的行进速度的变化率控制在小于等于3.0％的范围，这样即使粘度较高时，也可以确保涂敷时膜厚的均匀性，因而能够在基片膜上形成均匀膜厚的涂膜。此外，本专利技术中，涂敷液的粘度优选为100～2000mPa·sec。根据上述方法，可以进一步抑制在涂敷工序和干燥工序之间由于树脂流动造成的外观缺陷，还可以防止涂膜干燥时在涂膜中产生溶剂的气泡。此外，本专利技术中，基片膜的行进速度优选为10～300m/min。根据上述方法，可以稳定涂敷液的喷出，得到厚度精确度良好的涂膜。进而，本专利技术中，作为在基片膜上涂敷涂敷液的装置，优选使用模涂机(die coater)。由于该模涂机属于不蒸发溶剂的密闭体系供应方式，因而可以实现涂膜精度的提高，而不用顾虑涂敷中涂敷液粘度的变化。此外，本专利技术中，优选对模涂机中安装的一对模唇中的至少一个的内侧前端部进行0.2～1.0mm的R加工。根据上述方法，可以稳定从模唇前端部分喷出的涂敷液，得到厚度精确度良好的涂膜片材。此外，本专利技术中，干燥后的涂膜厚度优选小于等于30μm。根据上述方法，可以防止干燥不均和发泡等。如上所述，通过本专利技术的涂膜片材的制造方法，可以在基片膜上形成无外观缺陷、膜厚均匀的涂膜。此外，通过本专利技术的涂膜片材的制造方法制造的涂膜片材没有由厚度差引起的外观缺陷等情况，因而可以用来形成光学用途的薄膜。需要说明的是本专利技术中的“以上”是指“大于等于”，“以下”是指“小于等于”。附图说明图1是表示在行进的基片膜的上游侧进行R加工的模涂机的剖面图。图2是表示在行进的基片膜的下游侧进行R加工的模涂机的剖面图。图3是表示对内侧前端部的两方进行R加工的模涂机的剖面4是表示实施例1中使用的模涂机的形状的剖面图。图5是表示实施例1中得到的涂膜片材的平面照片。图6是表示比较例1中得到的涂膜片材的平面照片。图中1模涂机，2基片膜，3模唇，4R加工。具体实施例方式本专利技术的涂膜片材的制造方法包括，将含有树脂材料和溶剂的涂敷液涂敷在连续行进的基片膜上的涂敷工序，和干燥在前述涂敷工序中涂敷在基片膜上的涂膜的干燥工序，其特征在于控制前述涂敷液的粘度为70～8000mPa·sec，并控制前述涂敷工序中前述基片膜的行进速度的变化率小于等于3.0％。首先，对本专利技术的涂膜片材的制造方法中使用的基片膜、树脂材料和溶剂等进行说明。作为基片膜，只要是相对于涂敷液具有一定程度的润湿性的材料即可，没有特别的限定，可以列举透明基片膜和各种玻璃板等。在通过涂敷液形成具有光学功能的层时，作为基片膜，优选使用透明基片膜。作为透明基片膜，可以列举例如，聚对苯二甲酸乙二醇酯和萘二甲酸乙二醇酯等聚酯型聚合物；二乙酰纤维素和三乙酰纤维素等纤维素型聚合物；聚碳酸酯型聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸型聚合物等透明聚合物制成的膜。此外，还可以列举聚苯乙烯和丙烯腈-苯乙烯共聚物等苯乙烯型聚合物；聚乙烯、聚丙烯、具有环状或降冰片烯结构的聚烯烃；乙烯-丙烯共聚物等烯烃型聚合物；氯乙烯型聚合物；尼龙和芳香聚酰胺等酰胺型聚合物等透明聚合物制成的膜。进一步地，还可以列举酰亚胺型聚合物；砜型聚合物；聚醚砜型聚合物；聚醚醚酮型聚合物；聚苯硫醚型聚合物；乙烯醇型聚合物；偏氯乙烯型聚合物；乙烯基丁缩醛型聚合物；丙烯酸酯型聚合物；聚甲醛型聚合物；环氧型聚合物或与上述聚合物的共混物等透明聚合物制成的膜。特别优选光学特性中双折射较小的膜。另外，作为透明基片，从偏光性能和耐久性等方面出发，优选三乙酰基纤维素等纤维素型聚合物，特别优选三乙酰基纤维素膜。此外，作为基片膜，可以列举日本特开2001-343529号公报(WO01/37007)中公开的聚合物膜，例如含有侧链上具有取代或未取代酰亚胺基团的热塑性树脂，和侧链上具有取代或未取代苯基和腈基的热塑性树脂的树脂组合物。具体可以列举，含有异丁烯和N-甲基马来酰亚胺的交替共聚物和丙烯腈-苯乙烯共聚物的树脂组合物。基片膜的厚度可以适当地决定，通常从强度、操作性等作业性、薄层性等角度出发，应为10～500μm左右，优选20～300μm，更优选30～200μm。本专利技术中使用的涂敷液只要能够在基片膜上形成涂膜即可，没有特别的限制，根据所需涂膜的功能，选择合适的涂敷液的树脂材料和溶剂。作为前述树脂材料，例如从耐热性、耐化学试剂性和透明性优良，并富有刚性的角度出发，可以列举聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚醚酮、聚酰胺-酰亚胺或聚酯-酰亚胺等聚合物。这些聚合物可以单独地使用任意的一种，也可以使用2种以上具有不同官能团的混合物，例如聚醚酮和聚酰胺的混合物。上述聚合物中，由于具有高透明性、高取向性和高延伸性，特别优选聚酰亚胺。前述聚合物的分子量没有特别的限制，例如重均分子量(Mw本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种涂膜片材的制造方法，包括：将含有树脂材料和溶剂的涂敷液涂敷在连续行进的基片膜上的涂敷工序，使通过所述涂敷工序涂敷在基片膜上的涂膜干燥的干燥工序，其特征在于：控制所述涂敷液的粘度为７０～８０００ｍＰａ.ｓｅｃ，并且 控制所述涂敷工序中所述基片膜的行进速度的变化率为３．０％以下。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：近藤诚司，吉田健太郎，藤原诚，江原正浩，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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