偏振分光元件及分光镜制造技术

本发明专利技术公开了一种偏振分光元件，包含：一空白镜片、一镀膜镜片及一光固化胶合层。该镀膜镜片包括一基材、一形成在该基材上的光学干涉体以及一形成在该光学干涉体上的保护膜，该保护膜含有至少一介电层，该介电层是由一选自于下列所构成族群的材料所形成：氧化铝、氧化镁及氟化镁；该光固化胶合层是形成在该空白镜片与该镀膜镜片的保护膜之间，本发明专利技术的偏振分光元件借由在该镀膜镜片的光学干涉体上形成该保护膜，以有效阻隔光固化粘着组成物的渗入，于照射紫外光后不会破坏该镀膜镜片所产生的光学干涉现象，且不会让该偏振分光元件的穿透率大幅地下降，此外，本发明专利技术也提供一种由复数的上述偏振分光元件叠合所制成的分光镜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种偏振分光元件，特别是指一种借由蒸镀(evaporation)制程及光固化粘合(photocuring-bonding)方式所制造的偏振分光元件。
技术介绍
现有的极化分光镜(polarization beam splitter)或偏振分光镜(beam splitter)是由至少一偏振分光元件(beam splitting element)所构成。一般而言，每一偏振分光元件是借由光固化粘合方式所制造。如图1所示，一偏振分光元件包含一空白镜片(blank lens)1与一镀膜镜片(coating lens)2以及一光固化胶合层(photocuring adhesive layer)3，其中，该光固化胶合层3是由一光固化粘着组成物所构成。目前业界所使用的偏振分光元件中的镀膜镜片是利用光学干涉(opticalinterference)原理及蒸镀制程进行制作。于图1中，该镀膜镜片2包括一基材23、一形成在该基材23上的光学干涉体(optical interferential body)22、一形成在该光学干涉体22上的氧化硅介电膜(SiO2dielectric film)21。该光学干涉体22包括一形成在该氧化硅介电膜21与该基材23之间的氧化钛(TiO2)介电膜222，以及五个形成在该氧化硅介电膜21与该氧化钛介电膜222之间的中间介电膜221，其中，每一中间介电膜221是由一氧化钛介电层221’及一氧化硅介电层221”所形成。但是，在借由光固化粘合方式将热蒸镀(thermal evaporation)制程或电子束(e-beam)蒸镀制程所制得的镀膜镜片2进一步与一空白镜片1进行粘合及加工后，所制得的偏振分光元件通常会产生穿透率(transmittance)下降的问题。这是因为在热蒸镀制程或电子束蒸镀制程中所形成的氧化硅介电膜21的致密性(densification)不佳，且该氧化硅介电膜21可能形成复数开放性通孔，致使部分的光固化粘着组成物会渗入该氧化硅介电膜21，而积存在该氧化硅介电膜21的开放性通孔中或是该氧化硅介电膜21与该氧化钛介电层221’之间，此外，在后续经由紫外光照射后，积存在该氧化硅介电膜21内或是该氧化硅介电膜21与该氧化钛介电层221’之间的光固化粘着组成物会被固化，并进一步破坏该镀膜镜片2所产生的光学干涉现象，因此使得该偏振分光元件的穿透率大幅下降。因此，针对利用蒸镀制程及光固化粘合方式所制得的偏振分光元件，因为与胶合面接合的膜层的致密性不佳所导致的光固化粘合后的穿透率大幅下降的问题，仍有待被解决。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种于光固化粘合后不会导致穿透率大幅下降的偏振分光元件。本专利技术的另一目的在于提供一种分光镜。于是，依据本专利技术的一方面，一偏振分光元件包含一空白镜片、一镀膜镜片及一光固化胶合层，其中，该镀膜镜片包括一基材、一形成在该基材上的光学干涉体以及一形成在该光学干涉体上的保护膜，该保护膜含有至少一介电层，该介电层是由一选自于下列所构成族群的材料所形成氧化铝、氧化镁及氟化镁，而该光固化胶合层是形成在该空白镜片与该镀膜镜片的保护膜之间。依据本专利技术的另一方面，一分光镜是由复数的上述偏振分光元件叠合所制成。本专利技术的功效在于在镀膜镜片的光学干涉体上，另外形成一具有较高致密度且折射率与该光学干涉体相近的保护膜，以有效阻隔该光固化粘着组成物的渗入，于照射紫外光后不会破坏该镀膜镜片所产生的光学干涉现象，且不会让该偏振分光元件的穿透率大幅地下降。附图说明下面结合附图及实施例对本专利技术进行详细说明图1是一示意图，说明现有偏振分光元件的结构。图2是一示意图，说明本专利技术的偏振分光元件的一较佳实施例的结构。图3是一示意图，说明本专利技术的分光镜的一较佳实施例的结构。图4是一穿透光谱图(transmittance spectra)，说明本专利技术的偏振分光元件的一实施例1于400～800nm的波长范围中的穿透率变化。图5是一穿透光谱图，说明本专利技术的偏振分光元件的一实施例2于400～800nm的波长范围中的穿透率变化。图6是一穿透光谱图，说明本专利技术的偏振分光元件的一实施例3于400～800nm的波长范围中的穿透率变化。图7是一穿透光谱图，说明一比较例的现有偏振分光元件于400～800nm的波长范围中的穿透率变化。具体实施例方式参阅图2，本专利技术的偏振分光元件10的一较佳实施例，包含一空白镜片5、一镀膜镜片6及一光固化胶合层7。该镀膜镜片6包括一基材63、一形成在该基材63上的光学干涉体62以及一形成在该光学干涉体62上的保护膜61。该保护膜61含有至少一介电层，该介电层是由一选自于下列所构成族群的材料所形成氧化铝、氧化镁及氟化镁，而该光固化胶合层7是形成在该空白镜片5与该镀膜镜片6的保护膜61之间。于本专利技术的一实施例中，该保护膜61含有一介电层，该介电层是由一选自于下列所构成族群的材料所形成氧化铝、氧化镁及氟化镁。选择性地，该空白镜片5可运用任何现有材料，该光固化胶合层7则可运用任何现有的材料及技术进行制备。换句话说，有关该空白镜片5及用于制备该光固化胶合层7的材料，只要能与该镀膜镜片6相互配合且让所制得的偏振分光元件10具有不错的光学性质的材料便可使用。较佳地，该光学干涉体62包括一形成在该保护膜61与该基材63之间的第二介电膜622，以及五个形成在该保护膜61与该第二介电膜622之间的第一介电膜621，该每一第一介电膜621含有至少二介电层(图2中以二层621’、621”来表示)以及该第二介电膜622含有至少一介电层。值得一提的是，该光学干涉体62可选择性地包括至少一第一介电膜621，且每一第一介电膜621是由二层或三层的介电层所构成，但是用以形成所述介电层的材料彼此需具有一折射率差，并会产生一光学干涉现象。较佳地，每一第一介电膜621的所述介电层为不同材料且分别由一选自于由下列所构成族群的材料所形成氧化钛、氧化铝以及氧化硅。而在本专利技术的一实施例中，每一第一介电膜621含有二介电层(621’、621”)，且所述介电层分别由氧化钛及氧化硅所形成。较佳地，该第二介电膜622的介电层是由一选自于由下列所构成族群的材料所形成氧化钛、氧化铝以及氧化硅。而在本专利技术的一实施例中，该第二介电膜含有一介电层，且该介电层是由一氧化钛所形成。由于本专利技术主要在解决利用蒸镀制程及光固化粘合方式所产生的问题，所以，在本专利技术的较佳实施例中，该偏振分光元件10是利用蒸镀制程及光固化粘合方式进行制备。在本专利技术的一实施例中，该镀膜镜片6的制造方法为首先提供一已完成模造的基材63，使该基材63进行研磨，接着利用一热蒸镀制程依序于该基材63上蒸镀以上所述介电层，以进行镀膜制作，进而制得该镀膜镜片6。最后再借由一光固化粘合方式，将该镀膜镜片6与该空白镜片5进行粘合，以制得该实施例的偏振分光元件10。图3是一示意图，说明依据本专利技术的分光镜的一较佳实施例。于本专利技术的较佳实施例中，该分光镜是由复数的如图2所示的偏振分光元件10叠合所制成，其中，所述偏振分光元件10之间是借由另一光固化胶合层8进行粘合，且每一偏振分光元件10包含一空白镜片5、一镀膜镜片6及一光固化胶合层7。值得一提的是，该分光镜是由二或二个以上的偏振分光元件1本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏振分光元件，其特征在于其包含：一空白镜片；一镀膜镜片，包括一基材、一形成在该基材上的光学干涉体以及一形成在该光学干涉体上的保护膜，该保护膜含有至少一介电层，该介电层是由一选自于下列所构成族群的材料所形成：氧化铝、氧化镁 及氟化镁；及一光固化胶合层，形成在该空白镜片与该镀膜镜片的保护膜之间。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘彦泓，
申请(专利权)人：亚洲光学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]