透光显示模组、显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种透光显示模组、显示面板及其制备方法，透光显示模组包括：衬底，像素定义层，位于衬底上，像素定义层包括隔离结构及由隔离结构围合形成的像素开口；成核抑制层，位于像素定义层背离衬底的一侧，成核抑制层包括多个抑制单元，抑制单元在像素定义层上的第一正投影覆盖至少部分隔离结构，且至少部分的抑制单元相互不连续设置；第一公共电极，位于像素定义层背离衬底的一侧，且第一公共电极在像素定义层上的第二正投影覆盖除第一正投影以外的至少部分区域。本发明专利技术实施例的透光显示模组中，在不影响透光显示模组正常显示的情况下，能够提高透光显示模组的透光率，便于感光组件在透光显示模组的一侧实现屏下集成。

【技术实现步骤摘要】
透光显示模组、显示面板及其制备方法
本专利技术涉及显示领域，具体涉及一种透光显示模组、显示面板及其制备方法。
技术介绍
随着电子设备的快速发展，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的全面屏显示受到业界越来越多的关注。传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等。现有技术中，可通过在显示屏上开槽(Notch)或开孔，外界光线可通过屏幕上的开槽或开孔进入位于屏幕下方的感光元件。但是这些电子设备均不是真正意义上的全面屏，并不能在整个屏幕的各个区域均进行显示，例如其前置摄像头对应区域不能显示画面。
技术实现思路
本专利技术提供一种透光显示模组、显示面板及其制备方法，实现显示面板的至少部分区域可透光且可显示，便于感光组件的屏下集成。本专利技术第一方面的实施例提供一种透光显示模组，透光显示模组包括：衬底，像素定义层，位于衬底上，像素定义层包括隔离结构及由隔离结构围合形成的像素开口；成核抑制层，位于像素定义层背离衬底的一侧，成核抑制层包括多个抑制单元，抑制单元在像素定义层上的第一正投影覆盖至少部分隔离结构，且至少部分的抑制单元相互不连续设置；第一公共电极，设置于像素定义层背离衬底的一侧，且第一公共电极在像素定义层上的第二正投影覆盖除第一正投影以外的至少部分区域。根据本专利技术第一方面的实施例，第一公共电极包括本体部及贯穿本体部且相互间隔设置的多个镂空部，镂空部在透光显示模组厚度方向上的正投影覆盖至少部分隔离结构在厚度方向上的正投影，抑制单元位于镂空部。根据本专利技术第一方面的实施例，第一公共电极的材料包括镁，且镁的重量占比大于或等于95％。根据本专利技术第一方面的实施例，成核抑制层的厚度为10埃～100埃。根据本专利技术第一方面的实施例，抑制单元的最小宽度大于或等于5μm。根据本专利技术第一方面的实施例，抑制单元与像素开口之间的最小距离大于或等于10μm。根据本专利技术第一方面的实施例，透光显示模组还包括：第一像素组，包括第一类子像素和第二类子像素，多个第二类子像素环绕于第一类子像素的周侧分布；抑制单元位于第一类子像素的周侧，且抑制单元位于相邻的两个第二类子像素之间。根据本专利技术第一方面的实施例，一个第一类子像素的周侧环绕设置有四个第二类子像素和四个抑制单元。根据本专利技术第一方面的实施例，第一类子像素为绿色子像素，第二类子像素包括红色子像素和蓝色子像素。根据本专利技术第一方面的实施例，像素开口包括第一像素开口和第二像素开口；第一类子像素包括第一发光结构和第一像素电极，第一发光结构位于第一像素开口，且第一发光结构位于第一公共电极朝向衬底的一侧，第一像素电极位于第一发光结构朝向衬底的一侧；第二类子像素包括第二发光结构和第二像素电极，第二发光结构位于第二像素开口，且第二发光结构位于第一公共电极朝向衬底的一侧，第二像素电极位于第二发光结构的朝向衬底的一侧。根据本专利技术第一方面的实施例，每个第一发光结构在衬底上的正投影由一个第一图形单元组成或由两个以上第一图形单元拼接组成，第一图形单元包括从由圆形、椭圆形、哑铃形、葫芦形、矩形组成的群组中选择的至少一个。根据本专利技术第一方面的实施例，每个第一像素电极在衬底上的正投影由一个第二图形单元组成或由两个以上第二图形单元拼接组成，第二图形单元包括从由圆形、椭圆形、哑铃形、葫芦形、矩形组成的群组中选择的至少一个。根据本专利技术第一方面的实施例，每个第二发光结构在衬底上的正投影由一个第三图形单元组成或由两个以上第三图形单元拼接组成，第三图形单元包括从由圆形、椭圆形、哑铃形、葫芦形、矩形组成的群组中选择的至少一个。根据本专利技术第一方面的实施例，每个第二像素电极在衬底上的正投影由一个第四图形单元组成或由两个以上第四图形单元拼接组成，第四图形单元包括从由圆形、椭圆形、哑铃形、葫芦形、矩形组成的群组中选择的至少一个。本专利技术第二方面的实施例提供一种显示面板，显示面板具有第一显示区和第二显示区，第一显示区的透光率大于第二显示区的透光率，显示面板包括：上述第一方面任一实施例的透光显示模组，位于第一显示区。根据本专利技术第二方面的实施例，显示面板还包括位于第二显示区的第二公共电极，第二公共电极包括镁银合金层。根据本专利技术第二方面的实施例，镁银合金层的材料中，镁和银的重量比范围为1/15～1/9。本专利技术第三方面的实施例还提供一种显示面板的制备方法，显示面板具有第一显示区和第二显示区，第一显示区的透光率大于第二显示区的透光率，方法包括：在衬底上形成像素定义材料层，对像素定义材料层进行图案化处理形成像素定义层，像素定义层包括隔离结构及由隔离结构围合形成的像素开口；在像素定义层背离衬底的一侧设置掩膜板，掩膜板具有掩模开口，掩模开口在像素定义层上的正投影覆盖至少部分隔离结构；在第一显示区通过掩膜板形成成核抑制层，成核抑制层包括多个抑制单元，抑制单元在像素定义层上的第一正投影覆盖至少部分隔离结构；在像素定义层背离衬底的一侧形成第一公共电极，第一公共电极在像素定义层上的第二正投影覆盖除第一正投影以外的至少部分区域。根据本专利技术第三方面的实施例，在像素定义层背离衬底的一侧设置掩膜板之前，或者，像素定义层背离衬底的一侧形成第一公共电极的步骤之后，方法还包括：在像素定义层背离衬底的一侧形成第二公共电极，第二公共电极形成于第二显示区。根据本专利技术实施例的透光显示模组，透光显示模组包括像素定义层、成核抑制层和第一公共电极。成核抑制层的多个抑制单元在像素定义层上的第一正投影覆盖至少部分隔离结构，第一公共电极在像素定义层上的第二正投影覆盖除第一正投影以外的至少部分区域。抑制单元对应设置于至少部分隔离结构上，因此至少部分隔离结构上未设置第一公共电极。第一公共电极的分布面积小，能够提高透光显示模组的透光率。抑制单元未设置于像素开口，像素开口内设置有第一公共电极，不影响透光显示模组的正常显示。因此本专利技术实施例的透光显示模组中，在不影响透光显示模组正常显示的情况下，能够提高透光显示模组的透光率，便于感光组件在透光显示模组的一侧实现屏下集成。附图说明通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述，本专利技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显，其中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征，附图并未按照实际的比例绘制。图1示出根据本专利技术一种实施例的显示面板的俯视示意图；图2示出一种示例的图1中Q区域的局部放大图；图3示出图2中A-A处的剖视图；图4示出本专利技术实施例的显示面板中部分层结构的的示意图；图5示出本专利技术实施例提供的一种显示面板制备方法的流程图；图6至图12示出显示面板的成型过程图。附图标记说明：101、衬底；100、像素定义层；110、隔离结构；120、像素开口；200、成核抑制层；210、抑制单元；300、第一公共电极；310、本体部本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透光显示模组，其特征在于，包括：/n衬底；/n像素定义层，位于所述衬底上，所述像素定义层包括隔离结构及由所述隔离结构围合形成的像素开口；/n成核抑制层，位于所述像素定义层背离所述衬底的一侧，所述成核抑制层包括多个抑制单元，所述抑制单元在所述像素定义层上的第一正投影覆盖至少部分所述隔离结构，且至少部分的所述抑制单元相互不连续设置；/n第一公共电极，位于所述像素定义层背离所述衬底的一侧，且所述第一公共电极在所述像素定义层上的第二正投影覆盖除所述第一正投影以外的至少部分区域。/n

【技术特征摘要】
1.一种透光显示模组，其特征在于，包括：
衬底；
像素定义层，位于所述衬底上，所述像素定义层包括隔离结构及由所述隔离结构围合形成的像素开口；
成核抑制层，位于所述像素定义层背离所述衬底的一侧，所述成核抑制层包括多个抑制单元，所述抑制单元在所述像素定义层上的第一正投影覆盖至少部分所述隔离结构，且至少部分的所述抑制单元相互不连续设置；
第一公共电极，位于所述像素定义层背离所述衬底的一侧，且所述第一公共电极在所述像素定义层上的第二正投影覆盖除所述第一正投影以外的至少部分区域。


2.根据权利要求1所述的透光显示模组，其特征在于，所述第一公共电极包括本体部及贯穿所述本体部且相互间隔设置的多个镂空部，所述镂空部在所述透光显示模组厚度方向上的正投影覆盖至少部分所述隔离结构在所述厚度方向上的正投影，所述抑制单元位于所述镂空部。


3.根据权利要求1所述的透光显示模组，其特征在于，所述第一公共电极的材料包括镁，且所述镁的重量占比大于或等于95％。


4.根据权利要求1所述的透光显示模组，其特征在于，
所述成核抑制层的厚度为10埃～100埃；
优选的，所述抑制单元的最小宽度大于或等于5μm；
优选的，所述抑制单元与所述像素开口之间的最小距离大于或等于10μm。


5.根据权利要求1所述的透光显示模组，其特征在于，所述透光显示模组还包括：
第一像素组，包括第一类子像素和第二类子像素，多个所述第二类子像素环绕于所述第一类子像素的周侧分布；
所述抑制单元位于所述第一类子像素的周侧，且所述抑制单元位于相邻的两个所述第二类子像素之间；
优选的，一个所述第一类子像素的周侧环绕设置有四个所述第二类子像素和四个所述抑制单元；
优选的，所述第一类子像素为绿色子像素，所述第二类子像素包括红色子像素和蓝色子像素。


6.根据权利要求5所述的透光显示模组，其特征在于，
所述像素开口包括第一像素开口和第二像素开口；
所述第一类子像素包括第一发光结构和第一像素电极，所述第一发光结构位于所述第一像素开口，且所述第一发光结构位于所述第一公共电极朝向所述衬底的一侧，所述第一像素电极位于所述第一发光结构朝向所述衬底的一侧；
所述第二类子像素包括第二发光结构和第二像素电极，所述第二发光结构位于所述第二像素开口，且所述第二发光结构位于所述第一公共电极朝向所述衬底的一侧，所述第二像素电极位于所述第二发光结构的朝向所述衬底的一侧；
优选地，每个所述第一发光结构在所述衬底上的正投影由一...

【专利技术属性】
技术研发人员：许晓伟，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34