抗眩层制造技术

本发明专利技术是有关于一种抗眩层，具有一如式Ⅰ的团联共聚物。其中，式Ⅰ中ｍ与ｎ分别为一大于１的整数，且Ａ与Ｂ分别选自如说明书中所定义的结构单元。本发明专利技术利用团联共聚物，可取代传统抗眩层中高分子单体或寡聚物与抗眩粒子的混合物，并可依照一般制备工艺，制备成一薄型化且折射均匀的含抗眩层偏光板。此外，由控制抗眩层上团联共聚物的分子量，亦可达到易于将偏光板雾度值调控至理想值的目的。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种偏光板，尤其是指一种以团联共聚物作为抗眩层的 偏光板。
技术介绍
偏光板具有将入射光偏极化的功能。基本偏光板的结构，主要是由聚乙烯醇(polyvinyl alcohol, ￥八)高分子掺杂碘离子(//或//)，经延伸后可作 为光线的吸收轴，而与PVA分子延伸方向垂直的部分则作为光线的透过 轴。当应用于TFT-LCD的面板中，则可由液晶分子光轴方向搭配上下偏光 板的配置(吸收轴平行或正交)，达到控制背光源通过或阻绝的目的，以此 控制面板为常黑(normally black)或常亮(normally white)的显示模式。目前公知的偏光板结构如图l所示，由外表面到内表面依序为表面 保护膜IO，抗眩层(antiglare)或硬膜层(hard coat)20，接着于二层作为保护 层的三醋酸纤维素薄膜(Triacetate Cellulose, TAC)30, 31中，夹置一层聚乙 烯醇40，然后是黏着层50与离形层60。硬膜层20的表面处理主要为了防止 偏光板的磨耗，但是此表面处理却反而造成面板的反光，而影响视觉舒适 度。因此在进行硬膜形成时，会同时加入抗眩粒子，由抗眩粒子使背光源 均匀的散射出面板，也可避免因外界光源造成的反光效应。公知在偏光板中进行表面处理的流程，主要是将高分子单体或寡聚 物，以及抗眩粒子， 一起溶于溶剂中形成一胶体溶液。接着以旋转涂布的 方式沉积于一偏光板上。待溶剂挥发完全后，照射UV光，使高分子单体或寡聚物进行聚合反应或交联反应，即形成抗眩层的制作。抗眩粒子的存 在可使偏光板形成凹凸不平的表面，加上高分子单体与抗眩粒子对于光线散射能力的不同，故能达到使光线散射的目的，而具抗眩功能。然而，公知偏光板因抗眩粒子的存在，使得抗眩层的厚度约达5-2(Him， 而在近来普遍要求偏光板薄型化的诉求下，必须更缩小抗眩粒子的尺寸， 才能达到薄型化，但这相对提高抗眩粒子制备工艺的难度。此外，公知方 法中，抗眩粒子的分散属随机，要控制分布均匀度也有其难度。若抗眩粒 子在抗眩层中分布不均，则容易造成面板部分区域对于光线散射能力强， 部分区域对于光线散射能力弱的现象，造成对比的分布均一性较差。因此， 公知已无法符合目前的要求。团联共聚物是将数个不同化学结构的分子链，以共价键形式连结在一 起。如同高分子掺合体一样，当各分子间链段不兼容时，便会产生相分离。 但因各分子链段被共价键连结在一起，因此相分离程度被限制在纳米级尺 度，此称为微相分离(microphase separation)。随着分子链的长度、体积分率以及作用力的改变，微相分离可产生各 种具长程规则性(long-range order)的型态，最常见的微相分离型态有体 心立方堆积的圆球(body-centered cubic packed spheres)、六角堆积的圆柱 (hexagonally packed cylinders)、规则双连续相双钻石结构(gyroid)及层状 (lamellae)排列结构等。同时，文献亦已揭示，将团联共聚物以薄膜形式(厚 度约100-200nm)呈现时，在空间上均匀且连续的规则结构仍能维持。由于团联共聚物可自我聚集成具有纳米尺寸、及空间上均匀且连续的 规则结构，加上各不同分子链间对于光线有不同的折射率，因此对于应用 于偏光板上作为抗眩层有其发展潜力。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种抗眩层，以克服公知技术中存在的缺陷，为实现上述目的，本专利技术提供的抗眩层，具有一如下式I的团联共聚物:式I;其中，该式I中，m与n分别为一大于l的整数，且A与B分别选自下列 结构单元<formula>formula see original document page 10</formula>;'、以及其中，R,、 R2、 R3、与R4分别为氢、或C1-C5的烷基；Rs为Cl-C5的烷基、R6为氢、苯基、取代或未取代的芳基、杂芳基、环基、或杂环基； 且x为l-10的整数。所述的抗眩层，其中，该结构式I的结构单元中，&、 R2、 R3、与& 为氢或甲基。所述的抗眩层，其中，该结构式I的结构单元中，Rs为甲基、乙基或丙基。所述的抗眩层，其中，该结构式I的结构单元中，R6为苯基。 所述的抗眩层，其中，该结构式I的结构单元中，R6的该杂芳基或该杂环基分别含有氮、氧、或硫的杂原子。所述的抗眩层，其中，该结构式I的结构单元中，其分子量的范围为100-2，000，000之间。所述的抗眩层，其中，该团联共聚物具如下结构式CH十Jb十CH2——CH =CH— CH2-CH3一c-ImC= 0 OCH，CH,CH2——C = CH——CH:CH，CH=CH-CH，cHcHc-cHcreccHcHco一一-c--9:n-cHcb no,i- l一-c——cHc<formula>formula see original document page 12</formula>CH2—CH2—0--CH2—CH--CH2—CH2——0-CH3 -CH2—C—mC=0oCH3OCH，-CH'-O—C—(CH2)5NCH3 ICH2—CH—0-一O52H〇=co5Ho=c<formula>formula see original document page 14</formula>所述的抗眩层，其中，该团联共聚物具如下结构式:<formula>formula see original document page 14</formula>所述的抗眩层，其中，该团联共聚物具如下结构式:<formula>formula see original document page 14</formula>CH3CH广O-CH，一CH—m 、Nc=oOCH3 o 所述的抗眩层，其中，该团联共聚物具如下结构式:-CH2——CH2—0-6——CH —CH=CH——CH7——m、或O CH， II--CH广CH2—0 j"n6 f C—CH-0+m本专利技术利用团联共聚物取代传统抗眩层中高分子单体或寡聚物与抗眩粒子的混合物，并可依照一般制备工艺，甚至在减少uv的照射下，制备成一薄型化且折射均匀的含抗眩层偏光板。本专利技术的抗眩层可因不同分子链间对于光线的不同的折射率而达抗眩目的。为使散射光线效果更佳，可利用照射uv或臭氧的方式，移除纳米结构中的高分子，使形成高分子孔洞，达到增加折射率差距的目的，同 时维持空间中折射率规则分布的效果。将本专利技术抗眩层应用于一般偏光板上，可由控制抗眩层上团联共聚物的分子量，将偏光板雾度值(transmissionhaze)调控至理想值，且可依不同 需求达到控制不同雾度值的目的。本专利技术抗眩层可形成于任一需要避免反光效应的装置上，较佳的是， 本专利技术抗眩层可形成于一公知的偏光板的一表面。而公知的偏光板结构不 限，较佳可包括一偏光层，至少一保护层， 一硬膜层，或一黏着层。更佳 的，本专利技术所揭示含团联共聚物的抗眩层形成于偏光板结构的硬膜层上。本专利技术揭示构成团联共聚物的结构单元中，式I的R,、 R2、 R3、与R4较本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗眩层，具有一如下式Ⅰ的团联共聚物：－Ａ↓［ｍ］－Ｂ↓［ｎ］－式Ⅰ；其中，该式Ⅰ中，ｍ与ｎ分别为一大于１的整数，且Ａ与Ｂ分别选自下列结构单元：＊＊＊其中，Ｒ↓［１］、Ｒ↓［２］、Ｒ↓［３］、与Ｒ↓［４］分别为氢、或Ｃ１－Ｃ５的烷基；Ｒ↓［５］为Ｃ１－Ｃ５的烷基、Ｒ↓［６］为氢、苯基、取代或未取代的芳基、杂芳基、环基、或杂环基；且ｘ为１－１０的整数。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄彦馀，林振吉，李娟如，
申请(专利权)人：中华映管股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]