上电极提升装置及半导体设备制造方法及图纸

一种上电极提升装置及半导体设备。上电极提升装置包括：主提升机构；辅助提升机构，辅助提升机构与主提升机构分别位于线圈盒的对面；测距传感器，分别靠近主提升机构和辅助提升机构以检测反应腔室顶部与线圈盒之间的距离；控制器，控制器分别与主提升机构、辅助提升机构和测距传感器电连接，以根据测距传感器检测的距离控制主提升机构和辅助提升机构同步提升线圈盒。本实用新型专利技术能够避免线圈盒倾斜，从而避免向电极线圈施力，提高电极线圈的寿命，保证电极线圈与连接柱之间的连接可靠性，同时避免线圈盒与反应腔室顶部摩擦产生颗粒，保证产品质量。

【技术实现步骤摘要】
上电极提升装置及半导体设备
本技术涉及半导体设备领域，具体涉及一种上电极提升装置及包括该上电极提升装置的半导体设备。
技术介绍
刻蚀机是集成电路制造工艺中的关键设备。刻蚀机的工艺模块包括上电极和下电极，上电极主要由上匹配器、线圈系统以及介质窗等部件组成，下电极主要由下匹配器、静电卡盘等部件组成。在工艺过程中，通过给上电极加载一定的功率使通入反应腔室的工艺气体发生电离，进而轰击放在下电极静电卡盘上的晶片。离子轰击晶片后会产生大量副产物，其中一部分副产物会附着在反应腔室及介质窗上，副产物累积到一定程度会对工艺产生不良影响。因此反应腔室运行期间，需要定期进行维护操作，以确保系统功能正常。进行腔室清洁时，需要通过开盖机构将上电极升起，上电极的重量约为100Kg，开盖机构底部固定在反应腔室上，滑动部分与上电极连接，上电极提升为单点作用力，因此在重力作用下上电极远离开盖机构一侧会产生竖直向下位移，上电极的线圈盒及连接柱倾斜，向电极线圈施力，从而降低电极线圈的寿命，影响电极线圈与连接柱之间的连接可靠性，且可能由于与反应腔室顶部的摩擦产生颗粒，影响产品质量。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种上电极提升装置，以避免提升上电极的过程中线圈盒倾斜导致线圈受力。本技术一方面提出一种上电极提升装置，所述上电极设于反应腔室的上方，所述上电极包括用于容纳线圈的线圈盒，所述上电极提升装置包括：主提升机构，所述主提升机构与所述线圈盒连接，用于提升所述线圈盒；辅助提升机构，所述辅助提升机构设于所述反应腔室的顶部，用于提升所述线圈盒，所述辅助提升机构与所述主提升机构分别位于所述线圈盒的对侧；测距传感器，所述测距传感器设于所述反应腔室的顶部，分别靠近所述主提升机构和所述辅助提升机构设置，以检测所述反应腔室顶部与所述线圈盒之间的距离；以及控制器，所述控制器分别与所述主提升机构、所述辅助提升机构和所述测距传感器电连接，用于根据所述测距传感器检测的距离控制所述主提升机构和所述辅助提升机构同步抬升所述线圈盒。优选地，所述主提升机构包括丝杠和驱动电机，所述丝杠的一端与所述驱动电机连接，另一端与所述线圈盒连接，所述驱动电机用于驱动所述丝杠转动，以提升所述线圈盒。优选地，所述反应腔室的顶部设有提升机构安装槽、第一测距传感器安装槽和第二测距传感器安装槽，所述辅助提升机构设于所述提升机构安装槽内，所述第一测距传感器安装槽和所述第二测距传感器安装槽分别靠近所述主提升机构和所述辅助提升机构设置，所述测距传感器分别设于所述第一测距传感器安装槽和第二测距传感器安装槽内。优选地，所述辅助提升机构包括驱动机构和伸缩部件，所述伸缩部件设于所述提升机构安装槽内，所述驱动机构用于驱动所述伸缩部件移动。优选地，所述上电极还包括设于所述线圈盒内部且位于所述线圈下方的环形的调整支架，所述上电极提升装置还包括多个挂板和多个挂钩，所述多个挂板连接于所述调整支架的外周，所述多个挂钩连接于所述线圈盒的顶部且能够围绕所述调整支架的外周沿环形路径滑动，从而每个所述挂钩能够滑动到一个所述挂板的下方。优选地，所述多个挂板沿所述调整支架的外周均匀分布，所述多个挂钩围绕所述调整支架的外周均匀分布。优选地，每个所述挂板的下表面设有一个接触传感器，每个所述接触传感器与所述控制器电连接。优选地，所述控制器还用于在每个所述接触传感器均检测到接触信号时，控制所述辅助提升机构停止操作。本技术另一方面提出一种半导体设备，包括反应腔室、上电极和所述的上电极提升装置。优选地，所述上电极包括匹配器、线圈盒、线圈、连接柱和调整支架，所述线圈、所述连接柱和所述调整支架设于所述线圈盒内，所述线圈通过所述连接柱与所述匹配器电连接，所述调整支架位于所述线圈的下方。本技术的有益效果在于：主提升机构和辅助提升机构同步提升线圈盒，即可以从线圈盒相对的两侧同时以相同的速度提升线圈盒，避免线圈盒倾斜，从而避免向电极线圈施力，提高电极线圈的寿命，保证电极线圈与连接柱之间的连接可靠性，同时避免线圈盒与反应腔室顶部摩擦产生颗粒，保证产品质量。本技术的装置具有其它的特性和优点，这些特性和优点从并入本文中的附图和随后的具体实施例中将是显而易见的，或者将在并入本文中的附图和随后的具体实施例中进行详细陈述，这些附图和具体实施例共同用于解释本技术的特定原理。附图说明通过结合附图对本技术示例性实施例进行更详细的描述，本技术的上述以及其它目的、特征和优势将变得更加明显，其中，在本技术示例性实施例中，相同的参考标号通常代表相同部件。图1显示根据本技术的示例性实施例的上电极提升装置的俯视图；图2显示根据本技术的示例性实施例的上电极提升装置的A向侧视图；图3显示根据本技术的示例性实施例的上电极提升装置的辅助提升机构的安装位置示意图。附图标记说明：1匹配盒，2匹配器，3线圈盒，4连接柱，5线圈，6介质窗，7调整支架，8喷嘴，9反应腔室，10驱动电机，11主提升机构，12挂板，13挂钩，14测距传感器，15辅助提升机构，16接触传感器，17提升机构安装槽，18丝杠。具体实施方式下面将参照附图更详细地描述本技术。虽然附图中显示了本技术的优选实施例，然而应该理解，可以以各种形式实现本技术而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了使本技术更加透彻和完整，并且能够将本技术的范围完整地传达给本领域的技术人员。在本技术的描述中，需要理解的是，“多个”的含义是至少两个，例如两个、三个等，除非另有明确具体的限定。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术的简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。本技术提出一种上电极提升装置，上电极设于反应腔室的上方，上电极包括用于容纳线圈的线圈盒，上电极提升装置包括：主提升机构，主提升机构与线圈盒连接，用于提升线圈盒；辅助提升机构，辅助提升机构设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种上电极提升装置，所述上电极设于反应腔室的上方，所述上电极包括用于容纳线圈的线圈盒，其特征在于，所述上电极提升装置包括：/n主提升机构，所述主提升机构与所述线圈盒连接，用于提升所述线圈盒；/n辅助提升机构，所述辅助提升机构设于所述反应腔室的顶部，用于提升所述线圈盒，所述辅助提升机构与所述主提升机构分别位于所述线圈盒的对侧；/n测距传感器，所述测距传感器设于所述反应腔室的顶部，分别靠近所述主提升机构和所述辅助提升机构设置，以检测所述反应腔室顶部与所述线圈盒之间的距离；以及/n控制器，所述控制器分别与所述主提升机构、所述辅助提升机构和所述测距传感器电连接，用于根据所述测距传感器检测的距离控制所述主提升机构和所述辅助提升机构同步抬升所述线圈盒。/n

【技术特征摘要】
1.一种上电极提升装置，所述上电极设于反应腔室的上方，所述上电极包括用于容纳线圈的线圈盒，其特征在于，所述上电极提升装置包括：
主提升机构，所述主提升机构与所述线圈盒连接，用于提升所述线圈盒；
辅助提升机构，所述辅助提升机构设于所述反应腔室的顶部，用于提升所述线圈盒，所述辅助提升机构与所述主提升机构分别位于所述线圈盒的对侧；
测距传感器，所述测距传感器设于所述反应腔室的顶部，分别靠近所述主提升机构和所述辅助提升机构设置，以检测所述反应腔室顶部与所述线圈盒之间的距离；以及
控制器，所述控制器分别与所述主提升机构、所述辅助提升机构和所述测距传感器电连接，用于根据所述测距传感器检测的距离控制所述主提升机构和所述辅助提升机构同步抬升所述线圈盒。


2.根据权利要求1所述的上电极提升装置，其特征在于，所述主提升机构包括丝杠和驱动电机，所述丝杠的一端与所述驱动电机连接，另一端与所述线圈盒连接，所述驱动电机用于驱动所述丝杠转动，以提升所述线圈盒。


3.根据权利要求1所述的上电极提升装置，其特征在于，所述反应腔室的顶部设有提升机构安装槽、第一测距传感器安装槽和第二测距传感器安装槽，所述辅助提升机构设于所述提升机构安装槽内，所述第一测距传感器安装槽和所述第二测距传感器安装槽分别靠近所述主提升机构和所述辅助提升机构设置，所述测距传感器分别设于所述第一测距传感器安装槽和第二测距传感器安装槽内。


4.根据权利要求3所述的上电极提升装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：李华，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11