一种铜结晶器及辅助电极用悬挂支架制造技术

本实用新型专利技术属于工程机械技术领域，涉及一种铜结晶器及辅助电极用悬挂支架，包括矩形桌面，按照行列排布设置在所述矩形桌面上的若干圆孔，按行排布的所述圆孔的外侧分布有U型钢板，所述U型钢板固定安装于矩形桌面的边缘；所述矩形桌面的四个拐角处安装有立柱；每个所述圆孔的周围均匀分布有若干底垫。该悬挂支架，适用于真空自耗电弧熔炼钛及钛合金等有色金属用的铜结晶器及辅助电极，可以放置不同规格的铜结晶器，U型钢板可以悬挂铜结晶器对应的辅助电极，减少熔炼前的准备工作时间，提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种铜结晶器及辅助电极用悬挂支架
本技术属于工程机械
，涉及一种铜结晶器及辅助电极用悬挂支架。
技术介绍
在生产实践中，钛及钛合金等活泼金属、难熔金属大部分采用真空自耗电弧熔炼的方法生产其铸锭，而真空电弧熔炼的结晶器一般用铜制成，外面用循环水冷却，熔炼时将相同牌号的辅助电极与自耗电极焊接在一起接电源的负极，水冷铜结晶器接正极，通电后两极间产生弧光放电，将电能转变成热能，产生高温使自耗电极熔化。熔炼过程中液态金属熔滴通过高温弧区后落入金属熔池，并在水冷铜结晶器内凝固成锭。由于钛合金的牌号较多，对应的辅助电极也多，根据所选熔炼设备的不同，辅助电极的规格也有差异，若不分类整理，每次化料前寻找也不方便，降低了生产效率。此外，由于辅助电极和自耗电极直接接触，为了防止杂质或异物在化料过程中掉入熔池而引发质量事故，辅助电极不能和地面直接接触。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供一种铜结晶器及辅助电极用悬挂支架，可适用于真空自耗电弧熔炼钛及钛合金等有色金属用的铜结晶器及辅助电极，能够将铜结晶器及辅助电极按照其型号、规格一一对应悬挂，便于查找使用。本技术的目的是通过以下技术方案来解决的：这种铜结晶器及辅助电极用悬挂支架，包括矩形桌面，按照行列排布设置于所述矩形桌面上的若干圆孔，按行排布的所述圆孔的外侧分布有U型钢板，所述U型钢板固定安装于矩形桌面的边缘；所述矩形桌面的四个拐角处安装有立柱；每个所述圆孔的周围均匀分布有若干底垫。进一步地，所述立柱的底端设置有滚轮，且所述滚轮带有锁紧装置，悬挂支架可根据车间区域分布情况灵活移动，在移动到需要位置后通过滚轮自带的锁紧装置进行固定。进一步地，相邻两个所述立柱之间通过加强筋交叉固定，用于加强该悬挂支架的稳定性。进一步地，所述圆孔的数量为六个，六个所述圆孔按照两行三列的方式分布于矩形桌面上。进一步地，所述底垫的数量为二十四个，且每四个底垫均匀分布在一个圆孔的周围，所述底垫用于放置小规格铜结晶器，该小规格铜结晶器上的法兰外径为Φ460mm，可稳定放置于底垫上，能够防止结晶器法兰底面与矩形桌面紧密接触而产生污染或引入杂物。进一步地，所述U型钢板的数量为六个，且每三个U型钢板对应安装于按行排布的每个圆孔的外侧。进一步地，所述立柱为长方体立柱。进一步地，所述底垫为长方形底垫，用于放置小规格铜结晶器。与现有技术相比，本技术提供的技术方案包括以下有益效果：通过在矩形桌面增加圆孔及底垫的设计，用于放置铜结晶器，铜结晶器上的法兰可稳定放置于底垫上，防止结晶器法兰底面与矩形桌面紧密接触而产生污染或引入杂物；通过增加U型钢板的设计，可以悬挂铜结晶器对应的辅助电极。此外，通过在立柱底部增加滚轮的设计，悬挂支架可根据车间区域分布情况灵活移动，在移动到需要位置后通过滚轮自带的锁紧装置进行固定；通过在相邻立柱之间增加加强筋交叉固定，来增强悬挂支架的稳定性。因此，该悬挂电极，可适用于真空自耗电弧熔炼钛及钛合金等有色金属用的铜结晶器及辅助电极，能够将铜结晶器及辅助电极按照其型号、规格一一对应悬挂，便于查找使用。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，与说明书一起用于解释本技术的原理。为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术提供的一种铜结晶器及辅助电极用悬挂支架的结构示意图。其中：1为矩形桌面；2为U型钢板；3为立柱；4为滚轮；5为加强筋；6为底垫；7为圆孔。具体实施方式这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本技术相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与所附权利要求书中所详述的、本技术的一些方面相一致的装置的例子。为了使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图及实施例对本技术作进一步详细描述。实施例参见图1所示，本技术提供了一种铜结晶器及辅助电极用悬挂支架，包括矩形桌面1，按照行列排布设置在矩形桌面1上的若干圆孔7，按行排布的圆孔7的外侧分布有U型钢板2，U型钢板2固定安装于矩形桌面1的边缘；矩形桌面1的四个拐角处安装有立柱3；每个圆孔7的周围均匀分布有若干底垫6。优选地，矩形桌面1的尺寸为2100*1260*10mm，矩形桌面1上沿长度方向均匀分布有六个圆孔7，其内径和厚度为Φ340*10mm，在离圆孔7的圆周3mm处、四等分处各有一个长方形底垫6，长方形底垫6的尺寸为50*30*20mm，用于放置小规格铜结晶器，该小规格铜结晶器上法兰外径为Φ460mm，可稳定放置于方形底垫上方，防止结晶器法兰底面与桌面紧密接触，产生污染或引入杂物。进一步地，立柱3的底端设置有滚轮4，且滚轮4带有锁紧装置，该悬挂支架可根据车间区域分布情况灵活移动，在移动到需要位置后通过滚轮4自带的锁紧装置进行固定。进一步地，相邻两个立柱3之间通过加强筋5交叉固定，用于增强该悬挂支架的稳定性。进一步地，圆孔7的数量为六个，六个圆孔7按照两行三列的方式分布于矩形桌面1上。进一步地，底垫6的数量为二十四个，且每四个底垫6均匀分布在一个圆孔7的周围，底垫6用于放置小规格铜结晶器，该小规格铜结晶器上的法兰，可稳定放置于底垫6上，能够防止结晶器法兰底面与矩形桌面1紧密接触而产生污染或引入杂物。进一步地，U型钢板2的数量为六个，且每三个U型钢板2对应安装于按行排布的每个圆孔7的外侧；根据悬挂辅助电极的直径Φ30mm、Φ50mm不同，U型钢板2内圆弧的直径分别为35mm和55mm，深度为60mm和75mm，厚度均为10mm，每个U型钢板2间的距离为650mm。进一步地，立柱3为长方体立柱，矩形桌面1的左右两侧的长方体立柱之间采用直径Φ15mm的加强筋进行加固，增加悬挂支架的稳定性。综上，本技术提供的铜结晶器及辅助电极用悬挂支架，具体的使用过程如下：首先，选择合适的空间，将悬挂支架移动到指定区域，锁死滚轮4，把不同规格的铜结晶器及相应的辅助电极一一对应悬挂在支架上；真空自耗电弧熔炼前，将所选铜结晶器及对应的辅助电极一起取出，准备待用，熔炼结束后，对铜结晶器的内壁、辅助电极的外表面及与自耗电极接触端进行清理或机加工车平，以备后续使用。因此，本技术提供的这种悬挂支架，可以将不同规格的小型铜结晶器及其相应的辅助电极悬挂在一起，为熔炼前的准备工作节约了时间，提高生产效率，同时布局整齐、简洁。此外，悬挂支架的立柱3底部的四个滚轮4可以滑动，为实际工业生产提供了方便。以上所述仅是本技术的具体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铜结晶器及辅助电极用悬挂支架，其特征在于，包括矩形桌面(1)，按照行列排布设置在所述矩形桌面(1)上的若干圆孔(7)，按行排布的所述圆孔(7)的外侧分布有U型钢板(2)，所述U型钢板(2)固定安装于矩形桌面(1)的边缘；所述矩形桌面(1)的四个拐角处安装有立柱(3)；每个所述圆孔(7)的周围均匀分布有若干底垫(6)。/n

【技术特征摘要】
1.一种铜结晶器及辅助电极用悬挂支架，其特征在于，包括矩形桌面(1)，按照行列排布设置在所述矩形桌面(1)上的若干圆孔(7)，按行排布的所述圆孔(7)的外侧分布有U型钢板(2)，所述U型钢板(2)固定安装于矩形桌面(1)的边缘；所述矩形桌面(1)的四个拐角处安装有立柱(3)；每个所述圆孔(7)的周围均匀分布有若干底垫(6)。


2.根据权利要求1所述的铜结晶器及辅助电极用悬挂支架，其特征在于，所述立柱(3)的底端设置有滚轮(4)，所述滚轮(4)带有锁紧装置。


3.根据权利要求1所述的铜结晶器及辅助电极用悬挂支架，其特征在于，相邻两个所述立柱(3)之间通过加强筋(5)交叉固定。


4.根据权利要求1所述的铜结晶器及辅助电极用悬挂支架，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：周中波，侯林涛，杜轶君，任文华，张利军，
申请(专利权)人：西安西工大超晶科技发展有限责任公司，
类型：新型
国别省市：陕西;61