槽式湿法清洗机制造技术

本实用新型专利技术涉及湿法清洗技术领域，尤其是槽式湿法清洗机，外清洗箱、上盖和导管组成的槽式湿法清洗机，所述外清洗箱的内腔套装有中空的内清洗箱，内清洗箱的内腔与导管相通，所述内清洗箱的侧壁上开设有贯穿并延伸至外清洗箱外部的漫槽，所述漫槽位于内清洗箱靠近上盖的一侧且其内腔活动安装有对其密封、与市电相连的电磁铁组件，通电时对其密封的电磁铁组件从漫槽中移出。本实用新型专利技术结构简单，操作便捷，能够很好的解决现有技术中槽式湿法清洗过程，对清洗完成的硅片造成二次污染的缺点，具有较强的实用性。

【技术实现步骤摘要】
槽式湿法清洗机
本技术涉及湿法清洗
，尤其涉及槽式湿法清洗机。
技术介绍
在半导体制造领域中，湿法刻蚀工艺通常采用槽式湿法清洗机处理，主要用于去除表面的颗粒污染。现有申请号为201711178278.8的技术专利公开了一种式湿法清洗机台，为解决现有技术中硅片图形引起的清洗死角无法清除，和湿法清洗过程中硅片二次污染的问题，但，在实际的技术方案中：即使用户可以通过主设备电脑设定硅片角度，对待清洗硅片进行周向角度调整，规避硅片图形引起的清洗死角，降低由于污染颗粒卡在产品图形中清除不掉的几率，但是在硅片清洗完成、取出的过程中，因硅片处于被污染后的化学清洗液中，所以仍然会直接导致硅片的二次污染。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中槽式湿法清洗过程中，在硅片清洗完成、取出的过程中，因硅片处于被污染后的化学清洗液中，所以仍然会直接导致硅片的二次污染的缺点，而提出的槽式湿法清洗机。为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：设计槽式湿法清洗机，包括外清洗箱、上盖和导管组成的槽式湿法清洗机，所述外清洗箱的内腔套装有中空的内清洗箱，内清洗箱的内腔与导管相通，所述导管与内清洗箱、外清洗箱的相接处分别安装有保证连接处密封性的密封套管。所述内清洗箱的侧壁上开设有贯穿并延伸至外清洗箱外部的漫槽，所述漫槽位于内清洗箱靠近上盖的一侧且其内腔活动安装有对其密封、与市电相连的电磁铁组件，通电时对其密封的电磁铁组件从漫槽中移出。优选的，所述电磁铁组件包括在通电状态下磁性相异内磁板和外磁罩，所述内磁板套装在内清洗箱腔壁的漫槽中，外磁罩安装在外清洗箱的外部且与漫槽的位置相对应，且外磁罩与内磁板之间安装有对内磁板的移动路径导向的导向板。优选的，所述内清洗箱的外侧面上安装有将其固定在外清洗箱内腔壁上的固定板，所述固定板与漫槽错位分布。优选的，所述内清洗箱上漫槽的底部沿着靠近外清洗箱的一侧倾斜。优选的，所述内磁板与外磁罩之间连接有弹性的连接导管。优选的，所述内清洗箱的底端与外清洗箱的腔底间设有储放液体的储腔。本技术结构简单，操作便捷，能够很好的解决现有技术中槽式湿法清洗过程，对清洗完成的硅片造成二次污染的缺点，具有较强的实用性。附图说明图1为本技术的左视结构示意图；图2为本技术的右视结构示意图；图3为本技术的局部剖视结构示意图；图4为本技术的侧剖结构示意图；图5为本技术图4中A处结构的局部放大示意图。图中：1-外清洗箱，11-上盖，2-内清洗箱，3-导管，31-密封套管，4-漫槽，41-内磁板，42-导向板，43-外磁罩，44-连接导管，5-固定板。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。参照图1-5，槽式湿法清洗机，包括外清洗箱1、上盖11和导管3组成的槽式湿法清洗机，外清洗箱1的内腔套装有中空的内清洗箱2，内清洗箱2的内腔与导管3相通，内清洗箱2的侧壁上开设有贯穿并延伸至外清洗箱1外部的漫槽4，漫槽4位于内清洗箱2靠近上盖11的一侧且其内腔活动安装有对其密封、与市电相连的电磁铁组件，通电时对其密封的电磁铁组件从漫槽4中移出，导管3与内清洗箱2、外清洗箱1的相接处分别安装有保证连接处密封性的密封套管31。在湿法清洗的过程中，首先将6垂直放入内清洗箱2的内腔，当化学液体经导管3自下而上导入内清洗箱2内腔的过程中，化学药液自下而上对6进行清洗，在化学液体完全浸没6对其清洗后，将电磁铁组件通电使其从漫槽4中移出，然后内清洗箱2内腔的化学液体经漫槽4，从上而下流出，因在化学药液经导管3自下而上导入内清洗箱2的内腔，同时化学药液经漫槽4自上而下经内清洗箱2导出的过程中，清洗过6产生的被污染的化学药率先经漫槽4导出，所以在将6上部的化学药液导出之后，内清洗箱2内的即为未被6污染的化学药液，然后再将6内清洗箱2中没被污染的化学药液中取出，很好的规避了6在取出过程中被二次污染的问题，且实现方式、结构简单。电磁铁组件包括在通电状态下磁性相异内磁板41和外磁罩43，内磁板41套装在内清洗箱2腔壁的漫槽4中，外磁罩43安装在外清洗箱1的外部且与漫槽4的位置相对应，且外磁罩43与内磁板41之间安装有对内磁板41的移动路径导向的导向板42，在电磁铁组件通电的情况下，内磁板41和外磁罩43之间相互吸引，带动内磁板41沿着导向板42从漫槽4中移出，这时，保证了电磁铁组件通电作用下，内清洗箱2内的化学液体经漫槽4导出，在6取出之后再将内磁板41堵在漫槽4中对其密封即可。内清洗箱2的外侧面上安装有将其固定在外清洗箱1内腔壁上的固定板5，固定板5与漫槽4错位分布，通过固定板5保证内清洗箱2与外清洗箱1之间相对固定，且内清洗箱2与外清洗箱1之间产生的安装间隙保证经漫槽4导出的化学液体的储放。内清洗箱2上漫槽4的底部沿着靠近外清洗箱1的一侧倾斜，在化学液体经漫槽4导出的过程中，沿着漫槽4倾斜的底部流动，有效的加快了其导出速率，提高整个过程的效率。内磁板41与外磁罩43之间连接有弹性的连接导管44，在外磁罩43和内磁板41相吸，连接导管44保证二者之间相对位置不错移的同时，防止在化学液体冲击作用下，内磁板41相对外清洗箱1上的漫槽4错移。内清洗箱2的底端与外清洗箱1的腔底间设有储放液体的储腔，在化学药液经漫槽4导出至外清洗箱1内腔的过程中，内清洗箱2底部与外清洗箱1腔底间形成的储腔对导出的化学药液进行集中储放，防止化学药液直接粘附在内清洗箱2的外部增大后续化学药液清洁的难度。在本技术的描述中，尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.槽式湿法清洗机，包括外清洗箱、上盖和导管组成的槽式湿法清洗机，其特征在于：所述外清洗箱的内腔套装有中空的内清洗箱，内清洗箱的内腔与导管相通，所述内清洗箱的侧壁上开设有贯穿并延伸至外清洗箱外部的漫槽，所述漫槽位于内清洗箱靠近上盖的一侧且其内腔活动安装有对其密封、与市电相连的电磁铁组件，通电时对其密封的电磁铁组件从漫槽中移出。/n

【技术特征摘要】
1.槽式湿法清洗机，包括外清洗箱、上盖和导管组成的槽式湿法清洗机，其特征在于：所述外清洗箱的内腔套装有中空的内清洗箱，内清洗箱的内腔与导管相通，所述内清洗箱的侧壁上开设有贯穿并延伸至外清洗箱外部的漫槽，所述漫槽位于内清洗箱靠近上盖的一侧且其内腔活动安装有对其密封、与市电相连的电磁铁组件，通电时对其密封的电磁铁组件从漫槽中移出。


2.根据权利要求1所述的槽式湿法清洗机，其特征在于：所述电磁铁组件包括在通电状态下磁性相异内磁板和外磁罩，所述内磁板套装在内清洗箱腔壁的漫槽中，外磁罩安装在外清洗箱的外部且与漫槽的位置相对应，且外磁罩与内磁板之间安装有对内磁...

【专利技术属性】
技术研发人员：周杰，张琪，李俊毅，杨涛，
申请(专利权)人：北京新毅东科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11