【技术实现步骤摘要】
导电膜制作方法
本专利技术有关于一种导电膜制作方法,尤其是利用具有数组式排列的多个圆形凹洞以安置导电粒子,使得导电膜具有单一层导电粒子的特性,且所有导电粒子是配置在同一平面上,因而提升导电粒子的使用率。
技术介绍
在检验、测试芯片的电气特性时,检验设备通常需要稳定的电气连接芯片,而一般作法是使用电测试插座。主要是将芯片的接脚连接至检验设备的衬垫,使得电气信号能在芯片及检验设备之间双向传输。例如,可将弹性导电片(elasticconductivesheet)或弹簧式顶针(pogopin)包含于电测试插座中,当作接触构件,此时,检验设备能平滑地连接至待检验芯片,能减少在连接动作期间机械冲击的影响。上述的电测试插座一般是包含绝缘硅酮部、多个导电部以及多个衬垫,其中多个导电部是设置于绝缘硅酮部中,并包含多个导电粒子,以形成导电柱而贯穿绝缘硅酮部。此外,衬垫是位于导电部的端部,用以接触芯片的接脚。具体而言,在电测试插座用于检验时,需要降低待检验芯片,使得芯片接脚接触导电部,并进一步挤压导电部,让导电粒子相互接触,当作电导体用。进一步,检验设备产生电气信号,经导电部传送至芯片,藉以执行电气测试,而未被压缩的导电部,其导电粒子仍保持分离而不接触的原始状态,会呈现不导电的电气绝缘性。然而,上述现有技术的缺点在于电测试插座无法进一步变薄,其厚度通常是在300微米以上,此外电阻值仍然不小,无法再降低,因为受限于导电粒子相互接触的表面积,而且接触状态也不完全。此外,导电部很难再进一步缩小,无满足具有10微米至100 ...
【技术保护点】
1.一种导电膜制作方法,其特征在于,包括:/n备制一基板,该基板具有一上表面及一下表面,且该上表面具有数组式排列的多个圆形凹洞,每个圆形凹洞具有一直径以及一深度,且该圆形凹洞的深度小于该基板的一厚度;/n备制一紫外线解黏胶膜,且该紫外线解黏胶膜包含相互贴合且可分离的一紫外线解黏层以及一透明膜,该紫外线解黏层具有一第一表面以及一第二表面,而该透明膜的一下表面覆盖该紫外线解黏层的第一表面,该紫外线解黏层是由丙烯酸树酯或环氧树脂构成,并进一步包含一光起始剂以及一界面活性剂,该光起始剂在照射紫外外光(UV)时,用以促使丙烯酸树酯或环氧树脂产生聚合反应,而该界面活性剂用以改良该紫外线解黏层的界面特性;/n将多个导电粒子铺洒到该基板上,且每个该圆形凹洞安置单一的该导电粒子,该圆形凹洞的直径是大于该导电粒子的一直径,而且该圆形凹洞的深度是小于该导电粒子的直径,以使得该导电粒子的一部分表面裸露在外;/n将该紫外线解黏层的第二表面覆盖该基板的上表面,并贴附到所述圆形凹洞的所述导电粒子,且该紫外线解黏层对所述导电粒子具有黏贴力;/n由该紫外线解黏层移除该透明膜;/n移除该基板,且所述导电粒子脱离该基板而黏 ...
【技术特征摘要】
1.一种导电膜制作方法,其特征在于,包括:
备制一基板,该基板具有一上表面及一下表面,且该上表面具有数组式排列的多个圆形凹洞,每个圆形凹洞具有一直径以及一深度,且该圆形凹洞的深度小于该基板的一厚度;
备制一紫外线解黏胶膜,且该紫外线解黏胶膜包含相互贴合且可分离的一紫外线解黏层以及一透明膜,该紫外线解黏层具有一第一表面以及一第二表面,而该透明膜的一下表面覆盖该紫外线解黏层的第一表面,该紫外线解黏层是由丙烯酸树酯或环氧树脂构成,并进一步包含一光起始剂以及一界面活性剂,该光起始剂在照射紫外外光(UV)时,用以促使丙烯酸树酯或环氧树脂产生聚合反应,而该界面活性剂用以改良该紫外线解黏层的界面特性;
将多个导电粒子铺洒到该基板上,且每个该圆形凹洞安置单一的该导电粒子,该圆形凹洞的直径是大于该导电粒子的一直径,而且该圆形凹洞的深度是小于该导电粒子的直径,以使得该导电粒子的一部分表面裸露在外;
将该紫外线解黏层的第二表面覆盖该基板的上表面,并贴附到所述圆形凹洞的所述导电粒子,且该紫外线解黏层对所述导电粒子具有黏贴力;
由该紫外线解黏层移除该透明膜;
移除该基板,且所述导电粒子脱离该基板而黏在该紫外线解黏层的第二表面,并倒转该紫外线解黏层以使得黏附所述导电粒子的该第二表面朝上;
对该第二表面照射紫外光,并维持一照射时间,以使得该紫外线解黏层对所述导电粒子失去黏贴力;
涂布一聚二甲基硅氧烷(polydimethylsiloxane,PDMS)胶以覆盖该第二表面并包埋所述导电粒子;
利用一烘箱加热至一加热温度,并维持一加热时间,以使得该PDMS胶产生交联反应而形成一PDMS膜;以及
移除该紫外线解黏胶膜以分离出该PDMS膜而获得一导电膜,且所述导电粒子是固定在该PDMS膜上。
2.依据权利要求1所述的导电膜制作方法,其特征在于,该基板是由钢板、陶瓷或玻璃构成。
3.依据权利要求1项所述的导电膜制作方法,其特征在于,该透明膜包含PO、聚乙烯(PE)或聚对苯二甲酸乙二酯(PET)。
4.依据权利要求1所述的导电膜制作方法,其特征在于,该照射时间为1至5分钟。
5.依据权利要求1所述的导电膜制作方法,其特征在于,该加热温度为80至150℃,且该加热时间为10至...
【专利技术属性】
技术研发人员:范家彰,周弘海,
申请(专利权)人:玮锋科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾;71
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