【技术实现步骤摘要】
一种同轴结构宽带量子微波测量装置和方法
本专利技术涉及量子精密测量和微波工程领域,特别是涉及一种同轴结构宽带量子微波测量装置和方法。
技术介绍
微波场和微波功率的准确评估始终是微波工程、高精密测量仪器和电磁计量等领域一个核心课题,量子技术的兴起为这一课题提供了全新解决策略。特别是以原子作为微波场传感物质,利用原子-微波相互作用过程中原子跃迁Rabi频率与电/磁场强的正比关系(比例系数均为基本物理常数),可实现电磁量到原子频率的直接转换。这种全新微波测量策略天然地具有自校准和可溯源至国际单位制(InternationalSystemofUnits)的优势,理论测量能力可突破传统限制,有望用于构建量子精密微波测量仪器和新型国家电磁标准,潜力巨大。近来,学术界针对电/磁场的原子测量开展了一系列极富成效的研究工作,如2010年瑞士P.Treutlein博士团队演示了基于共面波导的原子微波磁场探测装置(P.等“Imagingofmicrowavefieldsusingultracoldatoms”,AppliedPhysicsLetters,97(5),051101,2010);2012年美国J.P.Shaffer教授团队演示了自由空间Rydberg原子微波电场探测装置(J.Sedlacek等“MicrowaveelectrometrywithRydbergatomsinavapourcellusingbrightatomicresonances”,NaturePhysics,8,819-824,2012);2015年 ...
【技术保护点】
1.一种同轴结构宽带量子微波测量装置,其特征在于,包括:内导体、外导体、填充介质和量子样品;/n所述外导体按设定间距套设在所述内导体上;所述设定间距为b-a;其中,a为内导体的半径和填充介质的内半径,b为外导体的内半径和填充介质的外半径;/n所述填充介质均匀密填于所述外导体和内导体之间;/n所述填充介质中设置一样品空间;所述外导体上开设有用于激光通过的通光孔,且所述通光孔与所述样品空间共线设置;/n所述量子样品置于所述样品空间中,用于感知待测微波;/n所述内导体、所述外导体和所述填充介质构成同轴结构;所述同轴结构工作在TEM模式,允许对工作波长大于π(a+b)的待测微波信号进行基于量子的测量评估;/n所述内导体的半径和所述外导体的内半径均根据待测微波的频率、所述填充介质的相对介电常数和阻抗匹配要求进行确定;所述阻抗匹配要求是指根据公式
【技术特征摘要】
1.一种同轴结构宽带量子微波测量装置,其特征在于,包括:内导体、外导体、填充介质和量子样品;
所述外导体按设定间距套设在所述内导体上;所述设定间距为b-a;其中,a为内导体的半径和填充介质的内半径,b为外导体的内半径和填充介质的外半径;
所述填充介质均匀密填于所述外导体和内导体之间;
所述填充介质中设置一样品空间;所述外导体上开设有用于激光通过的通光孔,且所述通光孔与所述样品空间共线设置;
所述量子样品置于所述样品空间中,用于感知待测微波;
所述内导体、所述外导体和所述填充介质构成同轴结构;所述同轴结构工作在TEM模式,允许对工作波长大于π(a+b)的待测微波信号进行基于量子的测量评估;
所述内导体的半径和所述外导体的内半径均根据待测微波的频率、所述填充介质的相对介电常数和阻抗匹配要求进行确定;所述阻抗匹配要求是指根据公式确定得到的特性阻抗达到目标阻抗值;其中,Zc为特性阻抗,εr为填充介质的相对介电常数。
2.根据权利要求1所述的同轴结构宽带量子微波测量装置,其特征在于,所述样品空间的尺寸与所述通光孔的尺寸相等。
3.根据权利要求1所述的同轴结构宽带量子微波测量装置,其特征在于,所述内导体的形状为圆柱状;所述内导体的材质为铜。
4.根据权利要求1所述的同轴结构宽带量子微波测量装置,其特征在于,所述外导体为圆管状结构;所述外导体的材质为铜或不锈钢。
5.根据权利要求1所述的同轴结构宽带量子微波测量装置,其特征在于,所述填充介质为玻璃或聚四氟乙烯。
6.根据权利要求1所述的同轴结构宽带量子微波测量装置,其特征在于,所述通光孔的数量为一个或两个;
当所述填充介质为聚四氟乙烯时,所述通光孔数量为一个;所述填充介质中开设有一光纤通道,所述通光孔、所述光纤通道和所述样品空间共线设置;
当所述填充介质为玻璃时,所述通光孔数量为两个;两个所述通光孔均与所述样品空间共线设置。
7.一种同轴结构宽带量子微波测量方法,其特征在于,应用于如权利要求1-6任意一项所述的同轴结构宽带量子微波...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙富宇,刘杰,李超,李孝峰,张首刚,
申请(专利权)人:中国科学院国家授时中心,
类型:发明
国别省市:陕西;61
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