磁共振成像线圈结构和磁共振成像装置制造方法及图纸

为形成一种其中屏蔽和发射线圈之间的距离的公差被降低从而降低频移量的磁共振成像线圈结构，在包括层叠的主磁场产生磁体１１、梯度磁场产生线圈１２、屏蔽１３、磁场校正垫板１４（１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，．．．）和发射线圈１６和封盖１７的磁共振成像线圈结构１０中，屏蔽１３和发射线圈１６与由ＦＲＰ制成的连接部分１５被整体地形成，该连接部分在屏蔽１３和发射线圈１６之间保持距离恒定。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种磁共振成像线圈结构和应用该线圈结构的磁共振成像装置，具体地说，涉及包括按如下顺序层叠的主磁场产生磁体、梯度磁场产生线圈、屏蔽、磁场校正垫板和发射线圈的磁共振成像线圈结构以及应用这种线圈结构的磁共振成像装置。
技术介绍
近年来，由于磁共振成像装置(MRI装置)能够提供对象比如人体的断层图像，因此它引起了人们的注意。在MRI装置中，需要应用在对象内的氢原子核(质子)的磁特性，因此必需形成较强的均匀的且稳定的磁场。 因此，常规的MRI装置应用超导磁体来产生主磁场；然而，在应用这种超导磁体的过程中，必需应用液氦来达到低温状态以实现超导状态。因此，只有这样的MRI装置才获得了广泛的应用该MRI装置应用永磁体而不应用液氦并且具有极好的开放性以减轻患者所受到的幽闭恐怖症。 应用永磁体的MRI装置被配置成将对象放置在彼此相对设置的一对磁共振成像线圈结构之间形成的磁场空间中，并获得对象的断层图像，通过按主磁场产生磁体(永磁体)、梯度磁场产生线圈、屏蔽、磁场校正垫板和发射线圈的顺序层叠来构造该线圈结构。在该发射线圈之上，一般地还层叠一个由像FRP材料制成的盖。 通过顺序地层叠并组装已经分别制造的主磁场发生磁体、梯度磁场发生线圈、屏蔽、磁场校正垫板和发射线圈构造磁共振成像线圈结构。 在这种磁共振成像线圈结构中，必需以较高的精度控制在屏蔽和发射线圈之间的距离(间隔)。因为这种距离误差能够引起频移的增加，并且严重影响所得的断层图像的图像质量，所以要精确控制它。虽然在屏蔽和发射线圈之间的距离一般为20毫米，但是在上述组装的过程中实际上可以出现大约1毫米的公差，而1毫米的公差引起的频移量大约为100千赫兹。 为此，在屏蔽和发射线圈之间的距离的公差越小越可取；然而，在屏蔽和线圈之间，在反复试验的过程中为更换必需插入/取出用于校正磁场以调整由主磁场产生磁体所产生的主磁场的空间均匀性的多个可替换的垫板，该垫板本身的厚度的公差影响在屏蔽和发射线圈之间的距离，因此使得难以降低电流公差。 在目前希望进一步改善图像质量的情况下必需降低公差。
技术实现思路
因此本专利技术的一个目的是提供一种磁共振成像线圈结构和应用这种线圈结构的磁共振成像装置，在该线圈结构中可以减小在屏蔽和发射线圈之间的距离的公差以降低频移量。 在第一方面中，本专利技术提供一种磁共振成像线圈结构，该磁共振成像线圈结构包括按如下顺序层叠的主磁场产生磁体、梯度磁场产生线圈、屏蔽、磁场校正垫板和发射线圈，其特征在于至少屏蔽和发射线圈是整体地形成。 在此所使用的术语“至少屏蔽和发射线圈是整体地形成”是指在屏蔽和发射线圈是整体地形成的线圈结构中主磁场产生磁体和梯度磁场产生线圈也可以另外地整体形成。 根据具有这种结构的本专利技术的磁共振成像线圈结构，由于至少屏蔽和发射线圈是整体地形成，因此在它们之间的距离仅包含在制造过程中的公差而不受设置在屏蔽和发射线圈之间设置的磁场校正垫板的公差的影响。因此，相对于在常规磁共振成像线圈结构中的屏蔽和发射线圈之间的距离的公差，在该屏蔽和该发射线圈之间的距离的公差可以减小，通过层叠屏蔽、磁场校正垫板和发射线圈来组装该常规磁共振成像线圈结构。因此，相对于常规的断层图像的图象质量，改善了所得的断层图像的图象质量，并且由于减小了频移量，还可以极大地减少校正频移量的调整工作。此外，还可以降低所需的RF功率。 例如，通过本专利技术人实现的实际结果显示当在屏蔽和发射线圈之间的距离为20毫米时，距离的公差大约为0.5毫米，与常规的公差(大约为1毫米)相比大约降低了一半。由此所降低的公差导致了大约40千赫兹的频移。 在第二方面中，本专利技术提供在第一方面的专利技术中提出的磁共振成像线圈结构，其特征在于从外周边侧磁场校正垫板可以插入其中/从其中取出的垫板空间形成在屏蔽和发射线圈之间。在此所示使用的术语“外周边侧”是指在与屏蔽和发射线圈的层叠的方向正交的平面中屏蔽和发射线圈的外面。 根据具有这种配置的本专利技术的磁共振成像线圈结构，由于从外周边侧可以任何地且分别地将磁场校正垫板插入到在屏蔽和发射线圈之间形成的垫板空间中/从其中将其取出，因此在反复试验的过程中很容易插入/取出磁场校正垫板以便进行更换。 在第三方面中，本专利技术提供在第二方面的专利技术所提供的磁共振成像线圈结构，其特征在于将磁场校正垫板分为多个通常为板条形部分，并将垫板空间形成为管状腔，从外周边侧可以将分为多个板条形部分的磁场校正垫板分别插入到该管状腔中/从其中取出。 根据具有这种配置的本专利技术的磁共振成像线圈结构，由于将磁场校正垫板分为多个板条形部分，当在校正主磁场的不均匀性时，可以仅替换与不均匀的空间相对应的板条形部分，因此相对于必需将没有划分的整体磁场校正垫板整个地插入到垫板空间/从其中取出相比减少了工作量。 在第四方面中，本专利技术提供在第二方面的专利技术所提供的磁共振成像线圈结构，其特征在于将磁场校正垫板分为多个通常为扇形部分，并将垫板空间形成为管状腔，从外周边侧可以将分为多个扇形部分的磁场校正垫板分别插入到该管状腔中/从其中取出。 根据具有这种配置的本专利技术的磁共振成像线圈结构，由于将磁场校正垫板分为多个扇形部分，当在校正主磁场的不均匀性时，可以仅替换与不均匀的空间相对应的扇形部分，因此相对于必需将没有划分的整体磁场校正垫板整个地插入到垫板空间/从其中取出相比减少了工作量。 在第五方面中，本专利技术提供在第二至第四方面的专利技术所提供的磁共振成像线圈结构，其特征在于，由于磁场校正垫板容纳在垫板空间中，包括用于覆盖磁场校正垫板的外周边并连接和固定到磁场校正垫板的外周边表面的固定环。 根据具有这种配置的本专利技术的磁共振成像线圈结构，由于固定环覆盖容纳在垫板空间中的磁场校正垫板的外部周边，并连接和固定到磁场校正垫板的外周边表面，因此可以防止磁场校正垫板从垫板空间中脱出，并且可以确保防止在垫板空间中的不希望的移动。 在第六方面中，本专利技术提供在第三或四方面的专利技术所提供的磁共振成像线圈结构，其特征在于，由于磁场校正垫板容纳在垫板空间中，包括用于连接并固定磁场校正垫板的相邻的分开的部分的外周边表面的多个固定带。 根据具有这种配置的本专利技术的磁共振成像线圈结构，由于固定带连接并固定磁场校正垫板的相邻的分开的部分(板条形部分或扇形部分)的外周边表面，所以磁场校正垫板作为一体整体地连接并固定在它的外周边表面上，因此可以防止磁场校正垫板的分开的部分从垫板空间中脱出，并且可以确保防止在垫板空间中的不希望的移动。 在第七方面中，本专利技术提供在第三或第四方面的专利技术所提供的磁共振成像线圈结构，其特征在于通过在分开部分的至少一部分的外部表面和管状腔的内壁之间的摩擦力锁定磁场校正垫板的每个分开部分。 根据具有这种配置的本专利技术的磁共振成像线圈结构，由于通过在分开部分的至少一部分的外部表面和管状腔的内壁之间的摩擦力锁定了磁场校正垫板的每个分开部分(板条形部分或扇形部分)，因此可以防止磁场校正垫板的每个分开部分从容纳该分开部分的垫板空间中脱出，并且可以确保防止在垫板空间中的不希望的移动。 在第八方面中，本专利技术提供在第一至第七方面的专利技术所提供的磁共振成像线圈结构，其特征在于在屏蔽和发射线圈之间的距离的公差最大为±0.5毫米。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁共振成像线圈结构，该磁共振成像线圈结构包括按这个顺序层叠的主磁场产生磁体、梯度磁场产生线圈、屏蔽、磁场校正垫板和发射线圈，其特征在于： 至少所说的屏蔽和所说的发射线圈被整体地形成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2001-5-10 140310/01来限定。权利要求1.一种磁共振成像线圈结构，该磁共振成像线圈结构包括按这个顺序层叠的主磁场产生磁体、梯度磁场产生线圈、屏蔽、磁场校正垫板和发射线圈，其特征在于至少所说的屏蔽和所说的发射线圈被与由包括玻璃纤维加固塑料FRP的材料制成的连接部分整体地形成，该连接部分在所述屏蔽和发射线圈之间保持恒定的距离。2.根据权利要求1所述的磁共振成像线圈结构，其中在所说的屏蔽和所说的发射线圈之间形成一个所说的磁场校正垫板可以从外周边侧插入其中的垫板空间，所说的磁场校正垫板可以从外周边侧从其中取出的所述垫板空间在所说的屏蔽和所说的发射线圈之间形成。3.根据权利要求2所述的磁共振成像线圈结构，其中所说的磁场校正垫板由多个板条形部分形成，所说的垫板空间由从外周边侧可以将所说的板条形部分单独插入其中的管状腔形成，以及所说的垫板空间由从外周边侧可以将所说的板条形部分单独从其中取出的管状腔形成。4.根据权利要求2所述的磁共振成像线圈结构，其中所说的磁场校正垫板由多个扇形部分形成，所说的垫板空间由从外周边侧可以将所说的扇形部分单独插入其中的管状腔形成，以及所说的垫板空间由从外周边侧可以将所说的扇形...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤健志，
申请(专利权)人：GE医疗系统环球技术有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]