共轭二烯系聚合物、支化剂、共轭二烯系聚合物的制造方法、充油共轭二烯系聚合物、橡胶组合物以及轮胎技术

一种改性共轭二烯系聚合物，其中，利用带粘度检测仪的GPC‑光散射法测定法得到的绝对分子量为40×10

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】共轭二烯系聚合物、支化剂、共轭二烯系聚合物的制造方法、充油共轭二烯系聚合物、橡胶组合物以及轮胎
本专利技术涉及共轭二烯系聚合物、支化剂、共轭二烯系聚合物的制造方法、充油共轭二烯系聚合物、橡胶组合物以及轮胎。
技术介绍
一直以来，对汽车的低油耗化要求提高，要求对汽车用轮胎、特别是与地面接触的轮胎胎面中使用的材料进行改进。近年来，正在要求开发滚动阻力小、即具有低磁滞损耗性的材料。另外，为了减轻轮胎的重量，需要减小轮胎胎面部的厚度，也进一步要求耐磨耗性高的材料。另一方面，从安全性的方面出发，轮胎胎面用途中使用的材料要求抗湿滑性优异、以及具有实用上充分的破坏特性。作为应对上述要求的橡胶材料，可以举出包含橡胶状聚合物与炭黑、氧化硅等增强性填充剂的橡胶材料。在使用包含氧化硅的橡胶材料时，能够谋求低磁滞损耗性与抗湿滑性的平衡性的提高。另外还进行了下述的尝试：通过在运动性高的橡胶状聚合物的分子末端部导入与氧化硅具有亲和性或反应性的官能团，由此改善橡胶材料中的氧化硅的分散性，进而通过与氧化硅颗粒结合来降低橡胶状聚合物的分子末端部的运动性、降低磁滞损耗。例如，在专利文献1～3中提出了使含有氨基的烷氧基硅烷类与共轭二烯系聚合物活性末端反应而得到的改性共轭二烯系聚合物与氧化硅的组合物。此外，在专利文献4中提出了使聚合物活性末端与多官能性硅烷化合物进行偶联反应而得到的改性共轭二烯系聚合物。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-290355号公报专利文献2：日本特开平11-189616号公报专利文献3：日本特开2003-171418号公报专利文献4：国际公开第07/114203号小册子
技术实现思路
专利技术所要解决的课题但是，对于氧化硅来说，由于其具有亲水性的表面，因而与具有疏水性表面的炭黑相比，与共轭二烯系聚合物的亲和性低，由此具有组合物中的分散性劣于炭黑的缺点。因此，对于包含氧化硅的组合物来说，为了赋予氧化硅与共轭二烯系聚合物间的结合、改善组合物中的氧化硅的分散性，需要使其另外含有硅烷改性剂等。另外，在共轭二烯系聚合物的分子末端导入有与氧化硅的反应性高的官能团时具有下述的加工性倾向于劣化的问题：在混炼工序中与氧化硅颗粒进行反应，由于组合物的粘度上升而难以进行混炼；或者在混炼后制造片时容易发生表面粗糙或者片容易断裂。此外，将这样的组合物制成硫化物时，特别是制成包含氧化硅等无机填充剂的硫化物时，还具有低磁滞损耗性与抗湿滑性的平衡以及耐磨耗性不充分的问题。因此，本专利技术中，目的在于提供一种共轭二烯系聚合物，其在制造硫化物时的加工性极其优异，制成硫化物后的低磁滞损耗性与抗湿滑性的平衡以及耐磨耗性优异，具有实用上充分的破坏特性。用于解决课题的手段本专利技术人为了解决上述现有技术的课题进行了深入研究，结果发现，下述共轭二烯系共聚物在制造硫化物时的加工性极其优异，制成硫化物后的低磁滞损耗性与抗湿滑性的平衡以及耐磨耗性优异，具有实用上充分的破坏特性，由此完成了本专利技术，所述共轭二烯系共聚物是绝对分子量为规定范围、支化度(Bn)为特定范围的共轭二烯系共聚物。即，本专利技术如下所述。[1]一种共轭二烯系聚合物，其中，利用带粘度检测仪的GPC-光散射法测定法得到的绝对分子量为40×104以上5000×104以下，利用上述带粘度检测仪的GPC-光散射法测定法得到的支化度(Bn)为8以上。[2]如上述[1]所述的共轭二烯系聚合物，其改性率为60质量％以上。[3]如上述[1]或[2]所述的共轭二烯系聚合物，其为具有3分支以上的星形高分子结构的共轭二烯系聚合物，在至少一个星形结构的支链上具有来自包含烷氧基甲硅烷基或卤代甲硅烷基的乙烯基系单体的部分，在该来自包含烷氧基甲硅烷基或卤代甲硅烷基的乙烯基系单体的部分具有进一步的主链分支结构。[4]如上述[1]～[3]中任一项所述的共轭二烯系聚合物，其中，上述来自包含烷氧基甲硅烷基或卤代甲硅烷基的乙烯基系单体的部分为基于下述式(1)或(2)所表示的化合物的单体单元，具有由基于下述式(1)或(2)所表示的化合物的单体单元形成的高分子链的分支点，共轭二烯系聚合物的至少一端利用偶联剂进行了偶联。[化1][化2](式(1)中，R1表示氢原子或者碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为6～20的芳基，在其一部分可以具有分支结构。R2～R3各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为6～20的芳基，在其一部分可以具有分支结构。存在复数个的情况下的R1～R3各自独立。X1表示独立的卤原子。m表示0～2的整数，n表示0～3的整数，l表示0～3的整数。(m+n+l)表示3。)(式(2)中，R2～R5各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为6～20的芳基，在其一部分可以具有分支结构。存在复数个的情况下的R2～R5各自独立。X2～X3表示独立的卤原子。m表示0～2的整数，n表示0～3的整数，l表示0～3的整数。(m+n+l)表示3。a表示0～2的整数，b表示0～3的整数，c表示0～3的整数。(m+n+l)表示3。)[5]如上述[4]所述的共轭二烯系聚合物，其具有基于上述式(1)所表示的化合物的单体单元，上述式(1)中，R1为氢原子、m＝0。[6]如上述[4]所述的共轭二烯系聚合物，其具有基于上述式(2)所表示的化合物的单体单元，上述式(2)中，m＝0、且b＝0。[7]如上述[4]所述的共轭二烯系聚合物，其具有基于上述式(1)所表示的化合物的单体单元，上述式(1)中，R1为氢原子、m＝0、l＝0。[8]如上述[4]所述的共轭二烯系聚合物，其具有基于上述式(2)所表示的化合物的单体单元，上述式(2)中，m＝0、l＝0、a＝0、b＝0。[9]如上述[4]所述的共轭二烯系聚合物，其具有基于上述式(1)所表示的化合物的单体单元，上述式(1)中，R1为氢原子、l＝0、n＝3。[10]一种支化剂，其为上述[4]所述的共轭二烯系聚合物的支化剂，其为下述式(1)或(2)所表示的化合物。[化3][化4](式(1)中，R1表示氢原子或者碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为6～20的芳基，在其一部分可以具有分支结构。R2～R3各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为6～20的芳基，在其一部分可以具有分支结构。存在复数个的情况下的R1～R3各自独立。X1表示独立的卤原子。m表示0～2的整数，n表示0～3的整数，l表示0～3的整数。(m+n+l)表示3。)(式(2)中，R2～R5各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为6～20的芳基本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种共轭二烯系聚合物，其中，利用带粘度检测仪的GPC-光散射法测定法得到的绝对分子量为40×10

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181003 JP 2018-1886041.一种共轭二烯系聚合物，其中，利用带粘度检测仪的GPC-光散射法测定法得到的绝对分子量为40×104以上5000×104以下，
利用所述带粘度检测仪的GPC-光散射法测定法得到的支化度Bn为8以上。


2.如权利要求1所述的共轭二烯系聚合物，其改性率为60质量％以上。


3.如权利要求1或2所述的共轭二烯系聚合物，其为具有3分支以上的星形高分子结构的共轭二烯系聚合物，在至少一个星形结构的支链上具有来自包含烷氧基甲硅烷基或卤代甲硅烷基的乙烯基系单体的部分，在该来自包含烷氧基甲硅烷基或卤代甲硅烷基的乙烯基系单体的部分具有进一步的主链分支结构。


4.如权利要求1～3中任一项所述的共轭二烯系聚合物，其中，
所述来自包含烷氧基甲硅烷基或卤代甲硅烷基的乙烯基系单体的部分为基于下述式(1)或(2)所表示的化合物的单体单元，
具有由基于下述式(1)或(2)所表示的化合物的单体单元形成的高分子链的分支点，
共轭二烯系聚合物的至少一端利用偶联剂进行了偶联，
[化1]



式(1)中，R1表示氢原子或者碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为6～20的芳基，在其一部分可以具有分支结构；
R2～R3各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为6～20的芳基，在其一部分可以具有分支结构；
存在复数个的情况下的R1～R3各自独立；
X1表示独立的卤原子；
m表示0～2的整数，n表示0～3的整数，l表示0～3的整数；(m+n+l)表示3；
[化2]



式(2)中，R2～R5各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为6～20的芳基，在其一部分可以具有分支结构；存在复数个的情况下的R2～R5各自独立；
X2～X3表示独立的卤原子；
m表示0～2的整数，n表示0～3的整数，l表示0～3的整数；(m+n+l)表示3；
a表示0～2的整数，b表示0～3的整数，c表示0～3的整数；(m+n+l)表示3。


5.如权利要求4所述的共轭二烯系聚合物，其具有基于所述式(1)所表示的化合物的单体单元，所述式(1)中，R1为氢原子、m＝0。


6.如权利要求4所述的共轭二烯系聚合物，其具有基于所述式(2)所表示的化合物的单体单元，所述式(2)中，m＝0、且b＝0。


7.如权利要求4所述的共轭二烯系聚合物，其具有基于所述式(1)所表示的化合物的单体单元，所述式(1)中，R1为氢原子、m＝0、l＝0。


8.如权利要求4所述的共轭二烯系聚合物，...

【专利技术属性】
技术研发人员：久村谦太，山本美帆，
申请(专利权)人：旭化成株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP