一种用于提供探头相对于支撑衬底对准的方法,包括的步骤为:提供限定平面表面和边缘的所述支撑衬底,所述衬底进一步限定第一晶体平面;在所述支撑衬底所述表面上提供第一掩模,所述第一掩模在所述边缘所述表面上限定第一外露区域;以及提供特定的刻蚀剂、通过所述刻蚀剂蚀刻所述第一外露区域形成的凹穴,所述凹穴限定第一侧壁、相对的第二侧壁、远离所述边缘的端壁和底壁。该方法还包括提供限定平面表面和与所述第一晶体平面相同的第二晶体平面的探头衬底;使所述探头衬底定位,从而当使用特定的刻蚀剂由所述探头衬底形成探头时使所述第一和第二晶体平面相同定位,所述探头把全等的表面限定到所述第一侧壁和第二侧壁上。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于提供探头相对于支撑衬底对准的方法。本专利技术还涉及一种用于试样电性能的方法。此外,本专利技术还涉及一种用于在试样特定位置上测试电性能的探头。具体地说,本专利技术还涉及包括悬臂部的测试探头。此外,本专利技术还涉及一种用于试样电性能的测试设备。参见第US6,358,762、US5,811,017、WO03/096429、US6,232,143、US5,475,318、WO03/046473、EP0 886 758、EP0 974845、EP1 095 282、US6,479,395、US5,545,291、US5,347,226、US6,507,204、US6,343,369、US5,929,438和US2002/174715专利公开文件,在此为所有目的,所有上面提到的这些专利公开文件全部参照地并入本说明书中。根据本专利技术的第一方面,提供一种用于在试样特定位置上测试电性能的探头。该探头可包括承载体,分别限定构成柔性悬臂部和基体部的相对第一和第二部,其中该柔性悬臂部在一个方向显著是柔性的,该悬臂部限定基本上垂直于一个方向的外平面表面,该基体部适于固定在协同操作测试机器上;在该悬臂部的至少一个导电的探头臂,至少一个导电探头臂中每个与基体部相对设置;该悬臂部限定了相对的第一和第二区,第二区与基体部接触,第一区限定第一和第二侧面,第一和第二侧面中每一个限定与外平面表面的第一角度,在第一和第二侧面之间限定第一宽度,第二区限定第三和第四侧面,第三和第四侧面中每一个限定与外平面表面的第二角度,在第三和第四侧面之间限定第二宽度,以及第二宽度等于和/或小于第一宽度。该承载体构成整个探头,并可以单一整体件或者通过组装两个或更多件形成。该探头可还包括在限定第一和第二宽度的区域之间的第一过渡区。该导电探头臂可从与该基体部相对的该悬臂部随意地伸出,由此为每一个导电探头臂提供柔性运动。然而,可选择的是,该导电探头臂可形成为不从该悬臂部伸出,而可靠近或者位于该悬臂部的边缘。该导电探头臂可设置在该悬臂部的任何表面上。术语“在一个方向显著是柔性的”将理解为,探头的远部在一个方向是柔性的,而且在其他方向也是柔性的,从而如果该探头与试样接触,同时倾斜,则在多个方向的柔性能够实现探头与试样的精确或者接近精确的对准。该探头可包括限定在该承载体上或者其中的第三宽度的第三区域。该第三宽度可等于该第一或者第二宽度。可选择的是,该第三宽度可与第一和第二宽度两者不同。该悬臂部可包括其中远端厚度比悬臂部其他部分更厚的部分。该探头可包括突出或者隆起部。根据本专利技术的教导,该第一和第二侧面可基本上平行和/或该第三和第四侧面可基本上平行。该第一和第二侧面以及相应地第三和第四侧面还可限定在它们之间的角度,由此可为悬臂部提供楔形或者V形结构。该第一、第二、第三和第四侧面不需要在构成悬臂部侧面的全部区域上限定。当加工此种类探头时,加工方法包括蚀刻在现实世界中不能加工精确平面表面那些产品。根据本专利技术的教导,该第一角度可在60到90度之间和/或该第二角度可近似为60到90度,优选的是在90度以下。该第一角度可以是0到90度,例如5到89度,例如10到80度,例如15到75度,例如20到70度,例如25到60度,例如30到56度,例如44到55度,例如0度到5度,例如5到15度,例如15到25度,例如25到35度,例如35到45度,例如45到50度,例如50到55度,例如55到65度,例如65到75度,例如75到85度,例如85到90度,优选的是54.7度或者45度或者46.5度,或者35.3度或者33.5度。该第一角度可等同于或者不等同于第二角度。该角度可限定在可能任何方向的任何表面之间。该倾斜侧面可设计成减少探头的总重量,并也为该探头提供有利形状,用于使探头与试样接触的方式简化或者改进。本专利技术的目的是提供一种探头,其中该第一区还限定第一顶面和相对的平行第一底面,而该第二区还限定第二顶面和相对的平行第二底面,该基体部限定第三顶面,该第一、第二和第三顶面基本上平行;该外平面表面由该第一顶面和/或第二顶面构成;在第一顶面和第一底面之间限定第一厚度;在第二顶面和第二底面之间限定第二厚度;第二厚度小于或者等于第一厚度。优选的是,该第一和第二厚度不相等,由此限定具有探头减弱部分的探头,其中该减弱部分可能为在基体部和悬臂部远端之间的区域。令人惊讶的是,与在本领域已知的探头相比,该细或者减弱区域为探头提供了有利的柔性。根据本专利技术教导的探头可包括在该悬臂中减弱或者薄的区域。该悬臂可在一个、两个或者三个维度被减弱,可选择的是,在其任何组合维度被减弱。在第一和第二厚度之间的比率可以是1∶1.05到1∶50,例如1∶1.5到1∶40,例如1∶2到1∶30,例如1∶2.5到1∶20,例如1∶3到1∶10,例如1∶4到1∶5,例如1∶1.05到1∶2,例如1∶2到1∶3,例如1∶3到1∶5,例如1∶5到1∶10,例如1∶10到1∶20,例如1∶20到1∶50。该较小或者较薄的区域设计成为探头增加或者提供有利的柔性。正如前面提到的那样,在数学的角度,本专利技术的实际实施例不会是准确或者完全的平面,然而,在本文中,大体上平面的表面将被认为是完全的平面。根据本专利技术的特殊特征,该第二厚度可穿过整个第二区和/或第二区的特定部分而限定。意味着其中第二区具有不同厚度的区域,该第一区可限于特定区域而不是全部区域。由此可形成这样的实施例,其中该实施例在第二区具有特定区域,而该第二区具有比该第一区较小或者较大的厚度。具有不同厚度的区域设计成为探头提供柔性。根据本专利技术的第一特征,第一顶面和第二顶面可大体上共面。根据本专利技术的第二特征,第一顶面和第三顶面可大体上共面。根据本专利技术的第三特征,第二顶面和第三顶面可大体上共面。根据本专利技术的第四特征,第一、第二或者第三顶面中没有一个大体上共面。根据本专利技术的第五特征,第一和第二底面可大体上共面。上述第一、第二、第三、第四和第五特征可分别或者任何组合利用。本专利技术的优点是,该第二区包括至少一个从第二顶面延伸到第二底面的开孔。由于需要设置从每一个导电探头臂到协同操作测试机器的导电通路,因此当把导电探头臂放置在该悬臂部时,具有一个开孔的探头可以是理想的。此外,具有一个大开孔或者开口的探头可能够使连接区域的侧面起到铰链等结构的作用,提供了高度的柔性。该开孔或者开口设计成为悬臂探头提供更多柔性。如上所述的铰链机构还设计成存在于实施例中包括一个以上开孔和/或薄的区域。该探头可在具有不同厚度部分之间包括过渡区。该过渡区可限定倾斜表面。令人惊讶地,在第二区中开孔的一个或更多侧面上形成L-形结构,移动或者改变其中当接触到试样测试区域时探头将弯曲的点。该L-形结构可形成在具有限定其间的一个或多个开孔的两侧中。在替代的实施例中,该第二区可包括凹穴,而不是开孔,借此一个或多个盆槽或者凹穴形成在该第二区。与本领域已知的测试探头相比,该盆槽设计成改进测试探头悬臂部分的柔性。本专利技术的另外优点是,该第二区可包括小于第二厚度延伸的至少一个凹陷、槽口、凹坑、凹痕、沟槽、凹穴、凹窝或者其任何组合。该凹陷、切口、缺口、切槽、凹窝或者细齿构成其中材料已经移去或者从来没有出现的区域或者体积。该减小量的材料设计成为本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于提供探头相对于支撑衬底对准的方法,包括的步骤为: 提供限定平面表面和边缘的所述支撑衬底,所述衬底进一步限定第一晶体平面; 在所述支撑衬底所述表面上提供第一掩模,所述第一掩模在所述边缘所述表面上限定第一外露区域; 提供特定的刻蚀剂、通过所述刻蚀剂蚀刻所述第一外露区域形成的凹穴,所述凹穴限定第一侧壁、相对的第二侧壁、远离所述边缘的端壁和底壁; 提供限定平面表面和与所述第一晶体平面相同的第二晶体平面的探头衬底; 使所述探头衬底定位,从而当使用特定的刻蚀剂由所述探头衬底形成探头时使所述第一和第二晶体平面相同定位,所述探头把全等的表面限定到所述第一侧壁和第二侧壁上。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:彼得福尔默尼耳森,彼得RE彼得森,杰斯波阿德曼汉森,
申请(专利权)人:卡普雷斯股份有限公司,
类型:发明
国别省市:DK[丹麦]
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